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1. 发明申请

WO2013045258A1 MODIFIZIERTE SCHICHTSILIKATE ALS KORROSIONSSCHUTZ 审中-公开
标题翻译：改性层状硅酸盐腐蚀
公开(公告)号：WO2013045258A1
公开(公告)日：2013-04-04
申请号：PCT/EP2012/067603
申请日：2012-09-10
申请人： BASF SE , HÜFFER, Stephan , CELIK, Nedim , SUGIHARTO, Albert Budiman , WITTELER, Helmut
发明人： HÜFFER, Stephan , CELIK, Nedim , SUGIHARTO, Albert Budiman , WITTELER, Helmut
IPC分类号： C09D5/08 , C09D7/12 , C09D5/44 , C08K3/34 , C08K7/10 , C08K9/04 , C08K9/08
CPC分类号： C09D5/084 , C08K3/34 , C08K7/10 , C08K9/04 , C08K9/08 , C09D5/448 , C09D7/62 , C09D7/65 , C09D7/70
摘要： Verwendung von modifizierten Schichtsilikaten (a) in Kombination mit mindestens einem polykationischen Polymer (b) zum Schutz von metallischen Oberflächen vor Korrosion. Metallische Oberflächen, die mit modifizierten Schichtsilikaten (a) in Kombination mit mindestens einem polykationischen Polymer (b) vor Korrosion geschützt sind. Verfahren zum Schutz von metallischen Oberflächen vor Korrosion, umfassend das Aufbringen von Formulierungen auf die zu schützende metallische Oberfläche. Korrosionsschutzmittel enthaltend modifizierte Schichtsilikate (a)und mindestens ein polykationisches Polymer (b).
摘要翻译：用的改性层状硅酸盐的（a）结合于金属表面的腐蚀保护至少一种聚阳离子聚合物（b）的。金属表面（a）的组合与至少一种聚阳离子聚合物（b）的防腐蚀用改性的页硅酸盐的保护。保护金属表面免受腐蚀，其包括将制剂对受保护金属表面的方法。含有修饰的页硅酸盐防蚀剂（a）和至少一种聚阳离子聚合物（b）。

2. 发明申请

WO2011067329A1 KORROSIONSSCHUTZPIGMENTE MIT POSITIVEM ZETA-POTENTIAL 审中-公开
标题翻译：具有正的Zeta电位腐蚀颜料
公开(公告)号：WO2011067329A1
公开(公告)日：2011-06-09
申请号：PCT/EP2010/068724
申请日：2010-12-02
申请人： BASF SE , HÜFFER, Stephan , WITTELER, Helmut , NICOLINI, Fabio , SUGIHARTO, Albert Budiman
发明人： HÜFFER, Stephan , WITTELER, Helmut , NICOLINI, Fabio , SUGIHARTO, Albert Budiman
IPC分类号： C09D5/00
CPC分类号： C09D5/084 , C08K3/22 , C08K9/08 , C09D7/62 , C09D7/67 , C09D7/68 , C09D7/69
摘要： Die vorliegende Erfindung betrifft die Verwendung von oxidischen Nanopartikeln mit einer mittleren Teilchengröße von 2 bis 2000 nm in Kombination mit mindestens einem polykationischen Polymer als Korrosionsschutz für metallische Oberflächen sowie ein Verfahren zum Schutz von metallischen Oberflächen vor Korrosion, umfassend die Schritte: i) Bereitstellen einer Formulierung enthaltend oxidische Nanopartikel (a) und mindestens ein polykationisches Polymer (b) und ein Auftragungsmittel, ii) Aufbringen der Formulierung auf die zu schützende metallische Oberfläche und iii) ggf. Trocknen und/oder Wärmebehandlung der Oberfläche.
摘要翻译：本发明涉及使用具有2的平均粒径氧化物纳米颗粒的至2000nm结合至少一种聚阳离子聚合物作为金属表面的防腐蚀保护，并用于防止腐蚀的金属表面，包括以下步骤的方法：i）提供的制剂含氧化物纳米颗粒（a）和至少一种聚阳离子聚合物（b）和应用装置，ii）将所述制剂到受保护的金属表面，以及iii）所述表面的任选干燥和/或热处理。

3. 发明申请

WO2012127399A1 A CHEMICAL MECHANICAL POLISHING (CMP) COMPOSITION COMPRISING TWO TYPES OF CORROSION INHIBITORS 审中-公开
标题翻译：包含两种类型的腐蚀抑制剂的化学机械抛光（CMP）组合物
公开(公告)号：WO2012127399A1
公开(公告)日：2012-09-27
申请号：PCT/IB2012/051293
申请日：2012-03-19
申请人： BASF SE , NOLLER, Bastian , LAUTER, Michael , SUGIHARTO, Albert Budiman , LI, Yuzhuo , RUSHING, Kenneth , FRANZ, Diana , BÖHN, Roland , BASF (CHINA) COMPANY LIMITED
发明人： NOLLER, Bastian , LAUTER, Michael , SUGIHARTO, Albert Budiman , LI, Yuzhuo , RUSHING, Kenneth , FRANZ, Diana , BÖHN, Roland
IPC分类号： C09G1/02
CPC分类号： H01L21/3212 , C09G1/02 , C09G1/04 , C09K3/1463 , H01L21/30625
摘要： A chemical-mechanical polishing ("CMP") composition (P) comprising (A) inorganic particles, organic particles, or a mixture or composite thereof, (B) at least one type of A/-heterocyclic compound as corrosion inhibitor, (C) at least one type of a further corrosion inhibitor selected from the group consisting of: (C1 ) an acetylene alcohol, and (C2) a salt or an adduct of (C2a) an amine, and (C2b) a carboxylic acid comprising an amide moiety, (D) at least one type of an oxidizing agent, (E) at least one type of a complexing agent, and (F) an aqueous medium.
摘要翻译：包含（A）无机颗粒，有机颗粒或其混合物或复合物的化学机械抛光（“CMP”）组合物（P），（B）至少一种作为防腐剂的A / ）至少一种类型的另外的腐蚀抑制剂，其选自：（C1）炔属醇和（C2）（C2a）胺的盐或加合物，和（C2b）包含酰胺的羧酸部分，（D）至少一种类型的氧化剂，（E）至少一种类型的络合剂，和（F）水性介质。

4. 发明申请

WO2011069891A1 VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG VON LADUNGSSTRUKTURIERTEN BESCHICHTUNGEN 审中-公开
标题翻译：用于生产CHARGE结构化涂料
公开(公告)号：WO2011069891A1
公开(公告)日：2011-06-16
申请号：PCT/EP2010/068787
申请日：2010-12-03
申请人： BASF SE , HARTNAGEL, Uwe , SUGIHARTO, Albert Budiman , BARTELS, Frank Wilco , SERVAY, Thomas
发明人： HARTNAGEL, Uwe , SUGIHARTO, Albert Budiman , BARTELS, Frank Wilco , SERVAY, Thomas
IPC分类号： C09D4/00
CPC分类号： C08F220/18 , C08F220/40 , C09D133/08
摘要： Die Erfindung betrifft Beschichtungen mit einer periodischen Strukturdes Oberflächenpotentials auf Basis von Polymerlatizes sowie ein Verfahren zur Herstellung von Beschichtungen mit einer periodischen Strukturdes Oberflächenpotentials, umfassend folgende Schritte: (a) Bereitstellen mindestens einer ersten Polymerdispersion als Komponente A und mindestens einer zweiten Polymerdispersion als Komponente B, wobei sich die Komponenten A und B in ihrer chemischen Zusammensetzung unterscheiden, (b) Mischen der Polymerdispersionen aus Schritt (a) und optional weiterer Komponenten, wobei das Gewichtsverhältnis der Komponente A zur Komponente B in der Mischung bezogen auf den Feststoffgehalt von 95 zu 5 bis 60 zu 40 beträgt, (c) Auftragen der Mischung aus Schritt (b) auf eine Fläche, vorzugsweise ein Substrat, (d) Verfestigung der Mischung aus Schritt (c) unter Bildung einer Beschichtung, und (e) weitere chemische Umsetzung der Beschichtung unter Erhalteiner periodischen Strukturdes Oberflächenpotentials, wobei das Verhältnis des gewichtsmittleren Partikeldurchmessersder Komponente A zu dem der Komponente B von 3 zu1 bis 15 zu 1, der gewichtsmittlere Partikeldurchmesser der Komponente Avon 75 bis 1000 nm und der gewichtsmittlere Partikeldurchmesser der Komponente B von 10 bis 200 nm beträgt. Darüber hinaus betrifft die Erfindung die so erhältlichen Beschichtungen und die Verwendung von Beschichtungenmit einer periodischen Struktur des Oberflächenpotentials auf Basis von Polymerlatizeszur Verringerung von Belagsbildung.
摘要翻译：本发明涉及一种具有表面电位的聚合物胶乳的基础上的周期性结构和用于生产涂料的表面具有电势的周期性结构的方法，包括以下步骤的方法包衣：（a）提供至少一个第一聚合物分散体作为组分A和至少一种第二聚合物分散体作为组分B，其中，所述组分A和b在它们的化学组成不同，（b）将步骤（a）和任选的其它组分，其中组分A与组分b的重量比存在于混合物中以95的固体含量为5至的聚合物分散体 60是约40个，（c）将步骤a的混合物（b）中到表面上，优选的衬底，（d）中固化自步骤（c）的混合物，以形成涂层，以及（e）涂层与另外的化学反应接收到该表面的周期结构的 ACHE电位，其中，所述重均Partikeldurchmessersder组分A与的3组分B TO1的比率至15：1，该组件埃文的重均粒径为75至1000纳米，10至200纳米的组分B的重均粒径。此外，本发明涉及到获得的涂层和使用具有在沉积物形成Polymerlatizeszur减少的基础上的表面电位的周期结构的涂层。

5. 发明申请

WO2012046183A1 CHEMICAL MECHANICAL POLISHING (CMP) COMPOSITION 审中-公开
标题翻译：化学机械抛光（CMP）组合物
公开(公告)号：WO2012046183A1
公开(公告)日：2012-04-12
申请号：PCT/IB2011/054355
申请日：2011-10-04
申请人： BASF SE , DRESCHER, Bettina , NOLLER, Bastian Marten , SCHMITT, Christine , SUGIHARTO, Albert Budiman , LI, Yuzhuo , BASF (CHINA) COMPANY LIMITED
发明人： DRESCHER, Bettina , NOLLER, Bastian Marten , SCHMITT, Christine , SUGIHARTO, Albert Budiman , LI, Yuzhuo
IPC分类号： C09G1/02
CPC分类号： C09K13/04 , C09G1/02 , C09K3/1409 , C09K3/1463 , C09K13/06 , H01L21/30625 , H01L21/3212
摘要： A chemical mechanical polishing (CMP) composition Abstract Use of a chemical mechanical polishing (CMP) composition comprising (A)inorganic particles, organic particles, or a mixture thereof, (B)a heteropolyacid or a salt thereof, (C)a salt comprising chloride, fluoride, bromide, or a mixture thereof as anion, and (D)an aqueous medium, for polishing a substrate comprising a self-passivating metal, germanium, nickel phosphorous (NiP), or a mixture thereof.
摘要翻译：化学机械抛光（CMP）组合物摘要使用包含（A）无机颗粒，有机颗粒或其混合物的化学机械抛光（CMP）组合物，（B）杂多酸或其盐，（C）氯化物，氟化物，溴化物或其混合物作为阴离子，和（D）水性介质，用于抛光包含自钝化金属，锗，镍磷（NiP）或其混合物的基材。

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