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1. 发明申请

WO2012127399A1 A CHEMICAL MECHANICAL POLISHING (CMP) COMPOSITION COMPRISING TWO TYPES OF CORROSION INHIBITORS 审中-公开
标题翻译：包含两种类型的腐蚀抑制剂的化学机械抛光（CMP）组合物
公开(公告)号：WO2012127399A1
公开(公告)日：2012-09-27
申请号：PCT/IB2012/051293
申请日：2012-03-19
申请人： BASF SE , NOLLER, Bastian , LAUTER, Michael , SUGIHARTO, Albert Budiman , LI, Yuzhuo , RUSHING, Kenneth , FRANZ, Diana , BÖHN, Roland , BASF (CHINA) COMPANY LIMITED
发明人： NOLLER, Bastian , LAUTER, Michael , SUGIHARTO, Albert Budiman , LI, Yuzhuo , RUSHING, Kenneth , FRANZ, Diana , BÖHN, Roland
IPC分类号： C09G1/02
CPC分类号： H01L21/3212 , C09G1/02 , C09G1/04 , C09K3/1463 , H01L21/30625
摘要： A chemical-mechanical polishing ("CMP") composition (P) comprising (A) inorganic particles, organic particles, or a mixture or composite thereof, (B) at least one type of A/-heterocyclic compound as corrosion inhibitor, (C) at least one type of a further corrosion inhibitor selected from the group consisting of: (C1 ) an acetylene alcohol, and (C2) a salt or an adduct of (C2a) an amine, and (C2b) a carboxylic acid comprising an amide moiety, (D) at least one type of an oxidizing agent, (E) at least one type of a complexing agent, and (F) an aqueous medium.
摘要翻译：包含（A）无机颗粒，有机颗粒或其混合物或复合物的化学机械抛光（“CMP”）组合物（P），（B）至少一种作为防腐剂的A / ）至少一种类型的另外的腐蚀抑制剂，其选自：（C1）炔属醇和（C2）（C2a）胺的盐或加合物，和（C2b）包含酰胺的羧酸部分，（D）至少一种类型的氧化剂，（E）至少一种类型的络合剂，和（F）水性介质。

2. 发明申请

WO2007125073A1 COPOLYMERE ALS SCALE-INHIBITOREN 审中-公开
标题翻译：共聚物防垢剂
公开(公告)号：WO2007125073A1
公开(公告)日：2007-11-08
申请号：PCT/EP2007/054091
申请日：2007-04-26
申请人： BASF AKTIENGESELLSCHAFT , GUZMANN, Marcus , LIU, Yaqian , KONRAD, Rouven , FRANZ, Diana
发明人： GUZMANN, Marcus , LIU, Yaqian , KONRAD, Rouven , FRANZ, Diana
IPC分类号： C08F220/00
CPC分类号： C08F220/58 , C08F220/06
摘要： Die vorliegende Erfindung betrifft Copolymere, welche aus der radikalischen Copolymerisation von zumindest (a) einer monoethylenisch ungesättigten Carbonsäure mit 3 bis 6 C-Atomen oder deren Anhydrid mit (b) einem Reaktionsgemisch enthaltend eine Komponente der allgemeinen Strukturformel (I), wobei R 1 , R 2 , R 3 , R 4 unabhängig voneinander H oder C 1 bis C 4 -Alkyl sind, n und m unabhängig voneinander eine ganze Zahl von 1 bis 100 sind und R 5 H oder Methyl ist, erhältlich sind, ein Verfahren zur Herstellung des erfindungsgemäßen Polymers, sowie dessen Verwendung als Scale-Inhibitor.
摘要翻译：本发明涉及由至少（a）具有3至6个碳原子或它们与酐单烯属不饱和羧酸（b）含有具有结构通式（I）的组分的反应混合物，其中R 1 ，R ^{2 ，R ^{3 ，R ^{4 独立地是H或C _{1 到 ç_{4 是烷基，n和m独立地从1到100的整数，R ^{5 为H或甲基，可被用于制备本发明的方法聚合物，以及它作为垢抑制剂的用途。}}}}}}

3. 发明申请

WO2012127398A1 A CHEMICAL MECHANICAL POLISHING (CMP) COMPOSITION COMPRISING A POLYMERIC POLYAMINE 审中-公开
标题翻译：包含聚合多胺的化学机械抛光（CMP）组合物
公开(公告)号：WO2012127398A1
公开(公告)日：2012-09-27
申请号：PCT/IB2012/051292
申请日：2012-03-19
申请人： BASF SE , NOLLER, Bastian Marten , LI, Yuzhuo , FRANZ, Diana , RUSHING, Kenneth , LAUTER, Michael , SHEN, Daniel Kwo-Hung , LAN, Yongqing , BAO, Zhenyu , BASF (CHINA) COMPANY LIMITED
发明人： NOLLER, Bastian Marten , LI, Yuzhuo , FRANZ, Diana , RUSHING, Kenneth , LAUTER, Michael , SHEN, Daniel Kwo-Hung , LAN, Yongqing , BAO, Zhenyu
IPC分类号： C09G1/02
CPC分类号： C09G1/02 , C09G1/16 , H01L21/30625
摘要： A chemical-mechanical polishing (CMP) composition comprising (A) inorganic particles, organic particles, or a composite or mixture thereof, (B) a polymeric polyamine or a salt thereof comprising at least one type of pendant group (Y) which comprises at least one moiety (Z), wherein (Z) is a carboxylate (-COOR 1 ), sulfonate (-SO 3 R 2 ), sulfate (-O-SO 3 R 3 ), phos- phonate (-P(=O)(OR 4 )(OR 5 ) ), phosphate (-O-P(=O)(OR 6 )(OR 7 ) ), carboxylic acid (-COOH), sulfonic acid (-SO 3 H), sulfuric acid (-O-SO 3 -), phosphonic acid (-P(=O)(OH) 2 ), phosphoric acid (-O-P(=O)(OH) 2 ) moiety, or their deproto- nated forms, R 1 is alkyl, aryl, alkylaryl, or arylalkyl R 2 is alkyl, aryl, alkylaryl, or arylalkyl, R 3 is alkyl, aryl, alkylaryl, or arylalkyl, R 4 is alkyl, aryl, alkylaryl, or arylalkyl, R 5 is H, alkyl, aryl, alkylaryl, or arylalkyl, R 6 is alkyl, aryl, alkylaryl, or arylalkyl, R 7 is H, alkyl, aryl, alkylaryl, or arylalkyl, and (C) an aqueous medium.
摘要翻译：一种化学机械抛光（CMP）组合物，其包含（A）无机颗粒，有机颗粒或其复合材料或混合物，（B）聚合多胺或其盐，其包含至少一种类型的侧基（Y），其包含至少一个部分（Z），其中（Z）是羧酸酯（-COOR1），磺酸酯（-SO3R2），硫酸酯（-O-SO3R3），磷酸酯（-P（= O）（OR4），磷酸酯（-OP（= O）（OR 6）（OR 7）），羧酸（-COOH），磺酸（-SO 3 H），硫酸（-O-SO 3 - ），膦酸（-P（= O）（OH）2），磷酸（-OP（= O）（OH）2）部分或其脱羧形式，R1是烷基，芳基，烷基芳基或芳烷基R2是烷基，芳基，烷基芳基或芳基烷基， R 3是烷基，芳基，烷基芳基或芳烷基，R 4是烷基，芳基，烷基芳基或芳烷基，R 5是H，烷基，芳基，烷基芳基或芳基烷基，R 6是烷基，烷基，芳基，烷基芳基或芳烷基，和（C）水性介质。

4. 发明申请

WO2010149434A1 DISPERSION COMPRISING CERIUM OXIDE AND SILICON DIOXIDE 审中-公开
标题翻译：包含氧化铈和二氧化硅的分散体
公开(公告)号：WO2010149434A1
公开(公告)日：2010-12-29
申请号：PCT/EP2010/056781
申请日：2010-05-18
申请人： EVONIK DEGUSSA GMBH , BASF SE , KRÖLL, Michael , LORTZ, Wolfgang , HEBERER, Stefan , BRANDS, Mario , LI, Yuzhuo , DRESCHER, Bettina , FRANZ, Diana
发明人： KRÖLL, Michael , LORTZ, Wolfgang , HEBERER, Stefan , BRANDS, Mario , LI, Yuzhuo , DRESCHER, Bettina , FRANZ, Diana
IPC分类号： B24D3/00 , C03C19/00 , C09G1/02 , C09K3/14 , H01L21/321
CPC分类号： C09G1/02 , C09K3/1463 , H01L21/31053
摘要： Aqueous dispersion comprising cerium oxide and silicon dioxide, obtainable by first mixing a cerium oxide starting dispersion and a silicon dioxide starting dispersion while stirring, and then dispersing at a shear rate of 10000 to 30000 s -1 , wherein a) the cerium oxide starting dispersion - contains 0.5 to 30% by weight of cerium oxide particles as the solid phase, - has a d5o of the particle size distribution of 10 to 100 nm - and has a pH of 1 to 7, and b) the silicon dioxide starting dispersion - contains 0.1 to 30% by weight of colloidal silicon dioxide particles as the solid phase, has a d5o of the particle size distribution of 3 to 50 nm and has a pH of 6 to 11.5, d) with the proviso that the d5o of the particle size distribution of the cerium oxide particles is greater than that of the silicon dioxide particles, the cerium oxide/silicon dioxide weight ratio is >1 and the amount of cerium oxide starting dispersion is such that the zeta potential of the dispersion is negative.
摘要翻译：通过在搅拌下首先混合氧化铈起始分散体和二氧化硅起始分散体，然后以10000〜30000s -1的剪切速度分散得到的含有氧化铈和二氧化硅的水分散体，其中a）氧化铈起始分散体 - 含有0.5至30重量％的作为固相的氧化铈颗粒， - 具有10至100nm的粒度分布的d 50，并且具有1至7的pH，以及b）二氧化硅起始分散体 - 含有0.1〜30重量％的作为固相的胶体二氧化硅粒子，其d5o的粒度分布为3〜50nm，pH为6〜11.5，d），条件是粒子的d 50 氧化铈颗粒的尺寸分布大于二氧化硅颗粒的尺寸分布，氧化铈/二氧化硅重量比> 1，并且氧化铈起始分散体的量使得分散体的ζ电位为负。

5. 发明申请

WO2008125588A1 HERSTELLUNG UND VERWENDUNG VON PARAFFININHIBITORFORMULIERUNGEN 审中-公开
标题翻译：生产和防蜡剂配方中使用
公开(公告)号：WO2008125588A1
公开(公告)日：2008-10-23
申请号：PCT/EP2008/054343
申请日：2008-04-10
申请人： BASF SE , GUZMANN, Marcus , LIU, Yaqian , KONRAD, Rouven , FRANZ, Diana
发明人： GUZMANN, Marcus , LIU, Yaqian , KONRAD, Rouven , FRANZ, Diana
IPC分类号： C09K8/524 , C10L1/10 , F17D1/08
CPC分类号： C09K8/524 , C10L1/10 , C10L1/125 , C10L1/1824 , C10L1/1826 , C10L1/1881 , C10L1/1963 , C10L1/1966 , C10L1/1973 , C10L1/1985 , C10L1/2222 , C10L1/2225 , C10L1/223 , C10L1/224 , C10L1/23 , C10L1/2364 , C10L1/238 , C10L1/2381 , C10L1/2437 , C10L1/2641 , C10L1/2658 , C10L10/16
摘要： Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung einer Paraffininhibitorformulierung die Schritte enthaltend (a) Erzeugen einer Mischung enthaltend (i) eine wachsförmige Paraffininhibitor-Komponente mit einem Schmelzpunkt > 0°C; (ii) eine Emulgatorkomponente und (iii) gegebenenfalls Wasser bei einer Temperatur in einem ersten Temperaturbereich, wobei der erste Temperaturbereich über dem Schmelzpunkt der Komponente (i) liegt und wobei das gegebenenfalls vorhandene Wasser eine w/o Emulsion erzeugt und einen Gewichtsanteil aufweist, der geringer als die Summe der Gewichtsanteile der Komponenten (i) und (ii) ist; (b) Zugeben von Wasser zu der Mischung, wobei nach vollständiger Zugabe des Wassers eine o/w Emulsion vorliegt; (c) Abkühlen der o/w Emulsion aus Schritt (b) auf eine Temperatur in einem zweiten Temperaturbereich, der unterhalb des Schmelzpunktes der Komponente (i) liegt; und (d) gegebenenfalls Zugeben einer mit Wasser zumindest teilweise mischbaren organischen Lösemittelkomponente (iv), in der die Paraffininhibitor-Komponente nicht löslich ist. Weiterhin betrifft die vorliegende Erfindung Formulierungen erhältlich aus einem Herstellverfahren sowie deren Verwendung und Einsatz zur Paraffininhibition/Stockpunktherabsetzung von Rohöl oder Rohölraffinaten.
摘要翻译：本发明涉及一种制备石蜡抑制剂制剂，其包含下列步骤的方法（a）形成混合物，其包含（i）具有的> 0℃的熔点的蜡质石蜡抑制剂组分; （二）在第一温度范围，其中所述第一温度范围内的组分（i），并且其中所述水任选存在的熔点以上产生w / o乳液和包含重量分数的温度的乳化剂和（iii）任选的水，其小于所述组分（i）和的重量比例之和（ⅱ）; （B）将水加入到混合物中，加完水后存在的O / W乳液; （C）冷却该O / W从步骤（b）在第二温度范围内，其是（i）成分的熔点以下的温度下乳液; 和（d）任选地，加入至少部分与水混溶的有机溶剂组分（iv），其中，所述石蜡抑制剂组分不溶于。此外，本发明涉及从制造以及可获得的制剂其为Paraffininhibition /倾点降低原油或Rohölraffinaten的使用和应用。

6. 发明申请

WO2012032466A1 AQUEOUS POLISHING COMPOSITIONS CONTAINING N-SUBSTITUTED DIAZENIUM DIOXIDES AND/OR N'-HYDROXY-DIAZENIUM OXIDE SALTS 审中-公开
标题翻译：含有N-取代的二氧化二氮和/或氮氧化二氧化锡钠的水性抛光组合物
公开(公告)号：WO2012032466A1
公开(公告)日：2012-03-15
申请号：PCT/IB2011/053891
申请日：2011-09-06
申请人： BASF SE , NOLLER, Bastian , FRANZ, Diana , LI, Yuzhuo , USMAN IBRAHIM, Sheik Ansar , PINDER, Harvey Wayne , VENKATARAMAN, Shyam Sundar , BASF (CHINA) COMPANY LIMITED
发明人： NOLLER, Bastian , FRANZ, Diana , LI, Yuzhuo , USMAN IBRAHIM, Sheik Ansar , PINDER, Harvey Wayne , VENKATARAMAN, Shyam Sundar
IPC分类号： C09G1/02 , C09G1/04 , A01N51/00
CPC分类号： C09K13/00 , C09G1/02 , C09K3/1463 , H01L21/31053
摘要： An aqueous polishing composition comprising (A) at least one water-soluble or water-dispersible compound selected from the group consisting of N-substituted diazenium dioxides and N'-hydroxy-diazenium oxide salts; and (B) at least one type of abrasive particles; the use of the compounds (A) for manufacturing electrical, mechanical and optical devices and a process for polishing substrate materials for electrical, mechanical and optical devices making use of the aqueous polishing composition.
摘要翻译：一种水性抛光组合物，其包含（A）至少一种选自N-取代的二氮化二氮化物和N'-羟基 - 二氮化鎓盐的水溶性或水分散性化合物; 和（B）至少一种类型的磨料颗粒; 化合物（A）用于制造电气，机械和光学装置的使用以及利用水性抛光组合物研磨用于电气，机械和光学装置的基材的方法。

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