专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 发明申请

WO2015037749A1 열처리 장치의 챔버 및 그 제조방법 审中-公开
标题翻译：热处理装置用室及其制造方法
公开(公告)号：WO2015037749A1
公开(公告)日：2015-03-19
申请号：PCT/KR2013/008139
申请日：2013-09-10
申请人： 주식회사 테라세미콘
发明人： 이병일 , 이영호 , 허관선
IPC分类号： H01L31/04 , H01L31/18
CPC分类号： H01L21/67754 , H01L21/67109
摘要： 본 발명은 열처리 장치의 챔버 및 그 제조방법에 관한 것이다. 본 발명에 따른 챔버(100)는, 열처리 장치의 챔버로서, 기판(45)이 로딩되어 열처리되는 공간을 제공하는 본체(110); 및 본체(110)의 외면을 방사형으로 둘러싸며, 본체(110)의 길이 방향을 따라서 동일한 간격으로 배치되는 복수의 리브(120)를 포함하며, 본체(110)는 본체(110)의 외면을 구성하는 제1 금속판(111) 및 본체(110)의 내면을 구성하는 제2 금속판(112)의 접합체로 이루어지는 것을 특징으로 한다.
摘要翻译：本发明涉及一种用于热处理装置的腔室及其制造方法。根据本发明的室（100）是用于热处理装置，包括：主体（110），用于提供加载基板（45）并进行热处理的空间; 以及多个肋（120），其径向地包围所述主体（110）的外表面，并且沿着所述主体（110）的长度方向以相等的距离间隔开，其中所述主体（110））包括耦合体，其包括形成主体（110）的外表面的第一金属板（111）和形成主体（110）的内表面的第二金属板（112）。

2. 发明申请

WO2013081335A1 기판 지지용 지지핀 및 이를 사용한 기판 처리 장치 审中-公开
标题翻译：用于支持基板和基板处理装置的支持引脚
公开(公告)号：WO2013081335A1
公开(公告)日：2013-06-06
申请号：PCT/KR2012/010012
申请日：2012-11-26
申请人： 주식회사 테라세미콘
发明人： 박경완 , 이병일
IPC分类号： H01L21/683 , G02F1/13 , C23C16/458 , C23C14/50
CPC分类号： C23C14/50 , C23C16/4583 , G02F1/1303 , H01L21/67323 , H01L21/6734 , H01L21/67343
摘要： 기판 지지용 지지핀 및 이를 사용한 기판 처리 장치가 개시된다. 본 발명에 따른 기판 지지용 지지핀 및 이를 사용한 기판 처리 장치는, 기판을 지지하는 지지핀이 기판의 경도(硬度) 보다 낮은 경도를 가지는 금속재 또는 탄소강으로 형성된 캡에 의하여 씌워지거나, 기판의 경도(硬度) 보다 낮은 경도를 가지는 금속재 또는 탄소강에 의하여 코팅되거나, 기판의 경도(硬度) 보다 낮은 경도를 가지는 금속재 또는 탄소강으로 형성된다. 따라서, 지지핀에 의하여 기판에 스크래치가 발생되는 것이 방지되므로, 제품의 신뢰성이 향상되는 효과가 있다.
摘要翻译：公开了用于支撑基板的支撑销和使用该支撑销的基板处理装置。在根据本发明的用于支撑基板的支撑销和使用其的基板处理装置中，用于支撑基板的支撑销由硬度小于硬度的金属材料或碳钢形成的盖子覆盖由金属材料或硬度小于基材硬度的碳素钢涂覆，或由硬度小于基材硬度的金属材料或碳素钢制成。因此，防止了由于支撑销而导致的基板上的划痕，从而提高了产品的可靠性。

3. 发明申请

WO2012150798A3 인라인 열처리 장치 审中-公开
公开(公告)号：WO2012150798A3
公开(公告)日：2012-11-08
申请号：PCT/KR2012/003408
申请日：2012-05-02
申请人： 주식회사 테라세미콘 , 이병일
发明人： 이병일
IPC分类号： H01L21/324 , H01L21/02
摘要： 인라인 열처리 장치가 개시된다. 본 발명에 따른 인라인 열처리 장치는 복수의 가열로에 복수의 히터가 각각 설치되고, 복수의 히터는 각각 독립적으로 제어된다. 이로 인해, 각 가열로의 온도 및 상호 인접하는 가열로 사이의 온도 차는 기판의 이송방향을 따라 완만한 구배를 가지면서 선형적으로 변하므로, 기판이 열충격 또는 열응력에 의하여 손상될 우려가 없다. 또한, 본 발명에 따른 인라인 열처리 장치는 기판이 들어 올려져서 이송되므로 기판과 기판을 이송시키기 위한 부품들 사이에 마찰이 없다. 이로 인해, 마찰에 의하여 파티클(Particle)이 발생되는 것이 방지되므로, 파티클에 의한 기판의 손상이 없다. 또한, 본 발명에 따른 인라인 열처리 장치는 기판을 이송시키기 위한 부품들이 마찰에 의하여 마모되지 않으므로, 기판을 정확하게 이송시킬 수 있다. 이로 인해, 기판의 열처리 공정시 에러가 발생되지 않는다. 따라서, 본 발명의 의하면, 기판의 열처리 공정의 생산성 및 신뢰성이 향상되는 효과가 있다.

4. 发明申请

WO2011105830A3 다결정 실리콘층 제조방법 및 이를 위한 금속 혼입층 형성장치 审中-公开
标题翻译：制造多晶硅层及其金属混合层形成装置的方法
公开(公告)号：WO2011105830A3
公开(公告)日：2011-09-01
申请号：PCT/KR2011/001296
申请日：2011-02-24
申请人： 주식회사 테라세미콘 , 이병일 , 장희섭 , 박경완
发明人： 이병일 , 장희섭 , 박경완
IPC分类号： H01L21/324 , H01L31/18
摘要： 다결정 실리콘층 제조 방법이 개시된다. 본 발명에 일 실시예에 따른 다결정 실리콘층(22) 제조 방법은 비정질 실리콘층(20)과 금속 혼입층(metal mixed layer; 30)을 컨택한 후에 비정질 실리콘층(20)을 결정화 열처리 하여 다결정 실리콘층(22)을 제조하는 것을 특징으로 한다. 본 발명에 의하면, 금속 촉매의 양을 적게 도입하면서도 결정화 온도를 낮출 수 있는 다결정 실리콘층 제조 방법을 제공할 수 있게 된다.
摘要翻译：公开了一种制造多晶硅层的方法。多晶硅层根据本发明的一个实施方式（22）的生产方法，所述非晶硅层20和金属混合层（金属混合层; 30），以便然后接触并进行热处理来晶化所述非晶硅层20的多晶硅制作图层（22）。根据本发明，可以提供一种制造能够在引入少量金属催化剂的同时降低结晶温度的多晶硅层的方法。

5. 发明申请

WO2010038972A3 소스가스 공급장치 审中-公开
公开(公告)号：WO2010038972A3
公开(公告)日：2010-04-08
申请号：PCT/KR2009/005584
申请日：2009-09-30
申请人： 주식회사 테라세미콘 , 이병일 , 장석필 , 박경완 , 송종호
发明人： 이병일 , 장석필 , 박경완 , 송종호
IPC分类号： H01L21/205
摘要： 화학기상 증착법에 의한 박막 증착시 원료가 되는 소스물질을 가스화하여 증착챔버 내로 공급하는 소스가스 공급장치가 개시된다. 본 발명에 따른 소스가스 공급장치(200)는 소스물질을 가열하여 소스가스를 생성하는 소스가스 생성부(210); 및 소스가스 생성부(210)에서 생성된 소스가스가 유입되어 응축되는 소스가스 응축부(240)를 포함하되, 소스가스 응축부(240)에 응축된 소스가스의 응축량이 포화 응축량에 도달할 때까지 소스가스 생성부(210)로부터 소스가스 응축부(240)로 소스가스의 유입을 진행하여 소스가스 응축부(240)에 소스가스를 응축시키고, 소스가스 응축부(240)에 응축된 소스가스의 응축량이 포화 응축량에 도달한 이후는 소스가스 생성부(210)로부터 소스가스 응축부(240)로 소스가스의 유입을 차단하고 소스가스 응축부(240)에 응축되어 있던 소스가스를 증착챔버(250)로 유입시키는 것을 특징으로 한다.

6. 发明申请

WO2016080729A1 기판 프로세싱 장치 审中-公开
标题翻译：基板加工设备
公开(公告)号：WO2016080729A1
公开(公告)日：2016-05-26
申请号：PCT/KR2015/012337
申请日：2015-11-17
申请人： 주식회사 테라세미콘
发明人： 이병일 , 박경완 , 강호영 , 박준규
IPC分类号： H01L21/02 , H01L21/324 , H01L21/67
CPC分类号： H01L21/02 , H01L21/324 , H01L21/67
摘要： 기판 프로세싱 장치가 개시된다. 본 발명에 따른 기판 프로세싱 장치는, 기판 프로세싱 장치로서, 챔버(101) 내에 기판 프로세싱 가스를 공급하는 가스 인릿(inlet; 300); 챔버(101) 내의 기판 프로세싱 가스를 외부로 배출하는 가스 아웃릿(outlet; 400); 챔버(101) 내에 배치되며 챔버(101) 내부를 가열하는 히터(200); 및 챔버(101)의 외측면에 배치되며 챔버벽의 온도를 제어하는 온도 컨트롤러(500)를 포함하며, 온도 컨트롤러(500)는, 상기 챔버 내에서 기화되거나 건조되는 기판 상의 물질이 챔버(101)의 내벽에 응축되지 않도록, 챔버(101)의 내벽의 온도를 50℃ 내지 250℃로 유지하는 것을 특징으로 한다.
摘要翻译：公开了一种基板处理装置。根据本发明的基板处理装置包括：用于将基板处理气体引入到室（101）中的入口（300）; 用于将所述室（101）内的基板处理气体排出到外部的出口（400）设置在所述腔室（101）内的加热器，用于加热所述腔室（101）的内部; 以及设置在所述室（101）的外表面上用于控制所述室壁温度的温度控制器（500），其中所述温度控制器（500）保持所述室（101）的内壁的温度），使得在室内蒸发或干燥的基板上的材料不会在室（101）的内壁上冷凝。

7. 发明申请

WO2013006003A2 인라인 열처리 장치 审中-公开
标题翻译：在线热处理系统
公开(公告)号：WO2013006003A2
公开(公告)日：2013-01-10
申请号：PCT/KR2012/005352
申请日：2012-07-05
申请人： 주식회사 테라세미콘 , 이병일
发明人： 이병일
CPC分类号： H01L21/6776 , H01L21/67057 , H01L21/67173 , H01L21/67706
摘要： 인라인 열처리 장치가 개시된다. 본 발명에 따른 인라인 열처리 장치는 기판의 이송방향 또는 기판의 이송방향과 반대방향으로 운동하는 지지바에 기판이 탑재 지지되어 이송된다. 그러므로, 기판과 지지바 사이에서 마찰에 의한 파티클(Particle)이 발생하지 않는다. 따라서, 파티클에 의하여 기판이 손상되는 것이 방지되므로, 제품의 신뢰성이 향상되는 효과가 있다. 그리고, 기판과 지지바의 접촉 면적이 상대적으로 작으므로, 기판의 상면과 하면이 균일하게 열처리된다. 따라서, 제품의 신뢰성이 더욱 향상되는 효과가 있다.
摘要翻译：在线热处理装置启动。根据本发明的在线热处理设备传送支撑在沿着基板的传送方向或与基板的传送方向相反的方向上移动的支撑杆上的基板。因此，在基底和支撑杆之间不会发生摩擦引起的颗粒。因此，由于防止了基材被颗粒损坏，因此产品的可靠性得到改善。由于基板与支撑杆之间的接触面积较小，所以基板的上表面和下表面均匀地进行热处理。因此，该产品的可靠性得到进一步改善。

8. 发明申请

WO2011065688A3 다결정 실리콘 형성 장치 및 그 방법 审中-公开
公开(公告)号：WO2011065688A3
公开(公告)日：2011-06-03
申请号：PCT/KR2010/007872
申请日：2010-11-09
申请人： 주식회사 테라세미콘 , 이병일 , 박경완 , 허관선 , 강호영 , 송종호
发明人： 이병일 , 박경완 , 허관선 , 강호영 , 송종호
IPC分类号： C30B33/02
摘要： 다결정 실리콘 형성 장치가 개시된다. 본 발명에 따른 장치는, 기판 상에 형성된 비정질 실리콘을 열처리하여 다결정 실리콘을 형성하는 장치로서, 비정질 실리콘을 예열(pre-heating)하는 예열부(200); 및 예열부(200)에서 예열된 비정질 실리콘을 결정화 열처리하는 열처리부(300)를 포함하는 것을 특징으로 한다.

9. 发明申请

WO2011025256A2 증착가스 공급장치 审中-公开
标题翻译：沉积气供应装置
公开(公告)号：WO2011025256A2
公开(公告)日：2011-03-03
申请号：PCT/KR2010/005695
申请日：2010-08-25
申请人： 주식회사 테라세미콘 , 이병일 , 박경완 , 강호영 , 김철호 , 송종호
发明人： 이병일 , 박경완 , 강호영 , 김철호 , 송종호
IPC分类号： H01L21/205
CPC分类号： C23C16/4481
摘要： 반도체 소자나 평판 디스플레이 제조를 위한 박막 증착 공정 시에 매 증착 공정마다 균일한 양의 증착가스가 공급될 수 있도록 하는 증착가스 공급장치가 개시된다. 본 발명에 따른 증착가스 공급장치(100)는, 증착물질이 저장되는 증착물질 저장부(200), 증착물질에 열을 인가하여 증착가스를 발생시키는 증착물질 증발부(300) 및 운반가스를 공급하는 운반가스 공급부(400)를 포함하는 증착가스 공급장치(100)로서, 증착물질 저장부(200)와 증착물질 증발부(300) 사이에 배치되는 증착물질 공급부(500)를 더 포함하고, 증착물질 공급부(500)는 매 증착 공정 마다 증착물질 증발부(300)로 일정 양의 증착물질을 공급하는 것을 특징으로 한다.
摘要翻译：公开了一种沉积气体供给装置，当进行薄膜沉积以制造半导体器件或平板显示器时，能够为每个沉积工艺提供恒定量的沉积气体。根据本发明的沉积气体供应装置（100）包括：沉积材料存储单元（200），其中存储沉积材料; 沉积材料蒸发单元（300），其向所述沉积材料施加热量以产生蒸发气体; 以及供给载气的载气供给单元（400）。沉积气体供给装置（100）还包括插入在沉积材料存储单元（200）和沉积材料蒸发单元（300）之间的沉积材料供应单元（500）。沉积材料供给单元（500）为每个沉积处理向沉积材料蒸发单元（300）供应恒定量的沉积材料。

10. 发明申请

WO2016002978A1 보트 审中-公开
标题翻译：船
公开(公告)号：WO2016002978A1
公开(公告)日：2016-01-07
申请号：PCT/KR2014/005786
申请日：2014-06-30
申请人： 주식회사 테라세미콘
发明人： 이병일 , 이영호 , 허관선
IPC分类号： B65D85/38 , H01L21/22
CPC分类号： B65D85/38 , H01L21/22
摘要： 복수의 기판이 적재 보관되는 보트가 개시된다. 본 발명에 따른 보트는, 지지바에 지지된 기판의 하중이 받침부재로 전달되고, 받침부재를 통하여 전면판, 후면판, 좌측면판 및 우측면판으로 전달되므로, 보트의 전체 부위로 전달된다. 이로 인해, 보트의 전체 부위에 기판의 하중이 작용하므로, 보트가 변형되는 것을 방지할 수 있는 효과가 있다. 그리고, 기판을 지지하는 메인지지판이 고정 결합되고, 메인지지판에 지지되는 기판 보다 작은 크기의 기판을 지지하는 보조지지판이 메인지지판에 착탈가능하게 결합된다. 따라서, 기판의 크기에 따라서 기판을 메인지지판에 지지하거나, 보조지지판에 지지할 수 있다. 즉, 하나의 보트로 상이한 크기를 갖는 여러 종류의 기판을 지지하여 사용할 수 있으므로, 원가가 절감되는 효과가 있다.
摘要翻译：公开了一种用于在其中装载和存储多个基板的船。根据本发明的船只能够将支撑在支撑杆上的基板的重量转移到支撑构件，并通过该支撑构件将其转移到前板，后板，左侧板和右侧板支撑构件，使得重物可以转移到船的整个区域。因此，由于基板的重量被施加到船的整个区域，所以可以防止船的变形。此外，用于支撑基板的主支撑板固定地联接，并且用于支撑小于支撑在主支撑板上的基板的基板的辅助支撑板可拆卸地联接到主支撑板。因此，可以根据基板的尺寸将基板支撑在主支撑板或辅助支撑板上。也就是说，由于具有不同尺寸的各种类型的基板可以与一个船支撑和使用，所以其成本降低。

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式