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1. 发明申请

WO2020122678A1 포토폴리머 조성물 审中-公开
公开(公告)号：WO2020122678A1
公开(公告)日：2020-06-18
申请号：PCT/KR2019/017732
申请日：2019-12-13
申请人： 주식회사 엘지화학 , 한국과학기술원
发明人： 김헌 , 김유식 , 카르바쉬라이사 , 권세현 , 장영래 , 장석훈
IPC分类号： G03F7/105 , G03F7/028 , G03F7/075 , G03F7/20
摘要： 본 발명은, 신규한 구조의 화합물과 상기 화합물을 염료로 포함하는 포토폴리머 조성물과 상기 포토폴리머 조성물로부터 제조된 홀로그램 기록 매체와, 상기 홀로그램 기록 매체를 포함한 광학 소자 상기 홀로그램 기록 매체을 이용한 홀로그래픽 기록 방법에 관한 것이다.

2. 发明申请

WO2019231117A1 포토폴리머 조성물 审中-公开
公开(公告)号：WO2019231117A1
公开(公告)日：2019-12-05
申请号：PCT/KR2019/005152
申请日：2019-04-29
申请人： 주식회사 엘지화학 , 한국과학기술원
发明人： 김헌 , 김유식 , 카르바쉬라이사 , 권세현 , 장영래 , 장석훈
IPC分类号： C09B57/00 , C07F7/21 , G03F7/075 , G03F7/027 , G03F7/028 , G02B5/32 , G03H1/02
摘要： 본 발명은 포토폴리머 조성물 {PHOTOPLYMER COMPOSITION}에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 신규한 구조의 화합물과 상기 화합물을 염료로 포함하는 포토폴리머 조성물과 상기 포토폴리머 조성물로부터 제조된 홀로그램 기록 매체와, 상기 홀로그램 기록 매체를 포함한 광학 소자 상기 홀로그램 기록 매체을 이용한 홀로그래픽 기록 방법에 관한 것이다.

3. 发明申请

WO2019117538A1 염료 화합물 및 포토폴리머 조성물 审中-公开
公开(公告)号：WO2019117538A1
公开(公告)日：2019-06-20
申请号：PCT/KR2018/015464
申请日：2018-12-07
申请人： 주식회사 엘지화학 , 한국과학기술원
发明人： 김헌 , 김유식 , 카르바쉬라이사 , 권세현 , 장영래 , 장석훈
IPC分类号： C09B57/00 , G03F7/027 , G03F7/035 , G03F7/033 , G03F7/028 , G11B7/08
摘要： 본 발명은, 신규한 구조의 화합물과 상기 화합물을 염료로 포함하는 포토폴리머 조성물과 상기 포토폴리머 조성물로부터 제조된 홀로그램 기록 매체와, 상기 홀로그램 기록 매체를 포함한 광학 소자 상기 홀로그램 기록 매체를 이용한 홀로그래픽 기록 방법에 관한 것이다

4. 发明申请

WO2017155335A1 반사 방지 필름 审中-公开
标题翻译：防反射膜
公开(公告)号：WO2017155335A1
公开(公告)日：2017-09-14
申请号：PCT/KR2017/002580
申请日：2017-03-09
申请人： 주식회사 엘지화학
发明人： 변진석 , 구자필 , 김부경 , 장석훈 , 장영래
IPC分类号： G02B1/11 , G01N23/207 , C08C19/40 , G02B5/18 , C08L33/10 , C08L27/12 , C08L83/04 , B32B7/02
CPC分类号： B32B7/02 , C08C19/40 , C08L27/12 , C08L33/10 , C08L83/04 , G01N23/207 , G02B1/11 , G02B5/18
摘要： 본 발명은, Cu-K α선에 의한 X-선 반사율 측정 결과에 대한 푸리에 변환 해석 (Fourier transform analysis) 결과 그래프에서, 35 nm 내지 55 nm의 두께 (thickness)에서 1개의 극값을 나타내고 85 nm내지 105 nm의 두께 (thickness)에서 1개의 극값을 나타내는 반사 방지 필름에 관한 것이다.
摘要翻译：在Cu-Kα射线的X射线反射率测量结果的傅立叶变换分析结果中，是指表现出一个极值并且在85nm至105nm的厚度处呈现一个极值的抗反射膜。

5. 发明申请

WO2018012802A1 반사 방지 필름 审中-公开
标题翻译：防反射膜
公开(公告)号：WO2018012802A1
公开(公告)日：2018-01-18
申请号：PCT/KR2017/007245
申请日：2017-07-06
申请人： 주식회사 엘지화학
发明人： 변진석 , 김재영 , 장영래 , 김부경 , 장석훈
IPC分类号： G02B1/11 , C08J7/04 , C08J5/18 , C08F20/18 , C08L33/10 , C08L33/06 , C08L83/06
摘要： 본 발명은, 하드 코팅층; 및 바인더 수지와 상기 바인더 수지에 분산된 중공형 무기 나노 입자 및 솔리드형 무기 나노 입자를 포함하는 저굴절층;을 포함하고， 상기 중공 입자의 입경 대비 상기 솔리드 입자의 입경의 비율이 0.26 내지 0.55 인 반사 방지 필름과, 바인더 수지 및 상기 바인더 수지에 분산된 유기 또는 무기 미립자를 포함하는 하드 코팅층; 및 바인더 수지와 상기 바인더 수지에 분산된 중공형 무기 나노 입자 및 솔리드형 무기 나노 입자를 포함하는 저굴절층;을 포함하고， 상기 중공 입자의 평균 입경 대비 상기 솔리드 입자의 평균 입경의 비율이 0. 15 내지 0.55 이며， 상기 하드 코팅층 및 상기 저굴절층 간의 계면으로부터 상기 저굴절층 전체 두께 50% 이내에 상기 솔리드형 무기 나노 입자 전체 중 70부피 % 이상이 존재하는， 반사 방지 필름에 관한 것이다.
摘要翻译：
本发明中，硬涂层; 和粘合剂树脂并包括一个中空的无机纳米粒子的低折射率层，和固体型分散在粘结剂树脂中的无机纳米粒子;固体颗粒的粒径的比值包括粒度相比，空心颗粒为0.26〜0.55 抗反射膜，包含粘合剂树脂和分散在粘合剂树脂中的有机或无机细颗粒的硬涂层; 和粘合剂树脂与所述低折射率层包括中空无机纳米颗粒，和分散在粘合剂树脂固体型无机纳米颗粒;所述包括的直径的平均比率，以及相比于中空粒子的平均粒径，固体颗粒零。和15至0.55，本发明涉及一种硬涂层，在不到50％时，低折射率层，所述防反射膜的整个厚度的70体积％以上是存在于从低折射率层之间的界面总的固体型无机纳米粒子。

6. 发明申请

WO2017095206A1 반사 방지 필름 审中-公开
标题翻译：防反射膜
公开(公告)号：WO2017095206A1
公开(公告)日：2017-06-08
申请号：PCT/KR2016/014182
申请日：2016-12-05
申请人： 주식회사 엘지화학
发明人： 장석훈 , 김헌 , 김부경 , 변진석 , 장영래
IPC分类号： G02B1/111
CPC分类号： G02B1/111
摘要： 본 발명은 표면의 중심선 평균거칠기(Ra)가 1.2 nm 이하이고 34 mN/m 이하의 표면 에너지를 갖는 하드 코팅층; 및 상기 하드 코팅층 상에 형성된 저굴절층;을 포함하는, 반사 방지 필름에 관한 것이다.
摘要翻译：
本发明是具有小于1.2纳米和34 mN / m的表面能的中心线平均表面粗糙度（Ra）的硬涂层; 和形成在该硬涂层上的低折射率层;涉及的防反射膜，其包括

7. 发明申请

WO2019117542A1 포토폴리머 조성물 审中-公开
公开(公告)号：WO2019117542A1
公开(公告)日：2019-06-20
申请号：PCT/KR2018/015470
申请日：2018-12-07
申请人： 주식회사 엘지화학
发明人： 김헌 , 장영래 , 장석훈 , 권세현
IPC分类号： C08F290/06 , G11B7/08 , C08L75/04 , C08F2/50 , C08F20/18
CPC分类号： C08F2/50 , C08F20/18 , C08F290/06 , C08L75/04 , G11B7/08
摘要： 본 발명은, 다중 수소 결합이 가능한 수소 결합성 관능기와 1이상의 이소시아네트기를 갖는 반응성 이소시아네이트 화합물과 2이상의 히드록시기를 갖는 폴리올 간의 반응물을 포함하는 고분자 매트릭스 또는 이의 전구체; 광반응성 단량체; 및 광개시제;를 포함하는 포토폴리머 조성물과 상기 포토폴리머 조성물로부터 제조된 홀로그램 기록 매체와 상기 홀로그램 기록 매체를 포함한 광학 소자와 상기 포토폴리머 조성물을 이용한 홀로그래픽 기록 방법에 관한 것이다.

8. 发明申请

WO2019117540A1 포토폴리머 조성물 审中-公开
公开(公告)号：WO2019117540A1
公开(公告)日：2019-06-20
申请号：PCT/KR2018/015466
申请日：2018-12-07
申请人： 주식회사 엘지화학
发明人： 장석훈 , 곽수영 , 김헌 , 권세현 , 장영래
IPC分类号： C08L33/08 , C08F8/42 , C08K5/5415 , C08K5/00 , C08L83/12 , C08F265/06 , G11B7/24
CPC分类号： C08F8/42 , C08F265/06 , C08K5/00 , C08K5/5415 , C08L33/08 , C08L83/12 , G11B7/24
摘要： 본 발명은, 소정의 화학 구조를 갖는 고분자 매트릭스 또는 이의 전구체; 광반응성 단량체; 및 광개시제를 포함하는 포토폴리머 조성물과 이를 이용한 홀로그램 기록 매체, 광학 소자, 및 홀로그래픽 기록 방법을 제공하기 위한 것이다.

9. 发明申请

WO2017160027A1 반사 방지 필름 审中-公开
标题翻译：防反射膜
公开(公告)号：WO2017160027A1
公开(公告)日：2017-09-21
申请号：PCT/KR2017/002640
申请日：2017-03-10
申请人： 주식회사 엘지화학
发明人： 김부경 , 장영래 , 김동현 , 윤현경 , 장석훈 , 이유라 , 변진석
IPC分类号： G02B1/11 , C08K3/00 , C08L83/10 , C08J5/18 , C08J7/04
CPC分类号： C08J5/18 , C08J7/04 , C08K3/00 , C08L83/10 , G02B1/11
摘要： 본 발명은, 광중합성 화합물, 광반응성 작용기를 포함한 2종류 이상의 함불소 화합물 및 반응성 작용기가 1이상 치환된 폴리실세스퀴옥산 (polysilsesquioxane) 간의 가교 중합체를 포함하는 바인더 수지와 상기 바인더 수지에 분산된 무기 미세 입자를 포함하는 저굴절층;과 하드 코팅층;을 포함하는 반사 방지 필름에 관한 것이다.
摘要翻译：本发明涉及包含光聚合化合物，两种或更多种含有光反应性官能团的氟化化合物和具有至少一个用其取代的反应性官能团的聚倍半硅氧烷之间的交联聚合物的粘合剂包含树脂和分散在该粘合剂树脂中的无机细颗粒的低折射层;以及硬涂层。

10. 发明申请

WO2017155338A1 반사 방지 필름 审中-公开
标题翻译：防反射膜
公开(公告)号：WO2017155338A1
公开(公告)日：2017-09-14
申请号：PCT/KR2017/002583
申请日：2017-03-09
申请人： 주식회사 엘지화학
发明人： 변진석 , 이정규 , 김부경 , 장석훈 , 장영래
IPC分类号： G02B1/11 , G01N23/207 , C08C19/40 , G02B5/18 , C08L33/10 , C08L27/12 , C08L83/04 , B32B7/02
CPC分类号： B32B7/02 , C08C19/40 , C08L27/12 , C08L33/10 , C08L83/04 , G01N23/207 , G02B1/11 , G02B5/18
摘要： 본 발명은, X선 조사에 의한 소각 산란에서 정의되는 산란 벡터에 대한 산란 강도의 log값의 그래프에서, 0.0758 내지 0.1256 nm -1 의 산란 벡터 (q max )에서 1개 이상의 피크를 나타내는, 반사 방지 필름에 관한 것이다.
摘要翻译：
本发明中，散射散射向量的强度的对数值的曲线图，X射线照射的小角度散射定义，0.0758至0.1256纳米^{-1散射在本发明中载体（q <子>最大）涉及一个或多个指示所述峰值时，防反射膜。}

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