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    • 5. 发明申请
    • 触媒によるカーボンナノチューブの製造方法、電界放出電子源の製造方法、電界放出電子源及び電界放出型ディスプレイ
    • 通过催化剂制造碳纳米管的方法,制造电场发射电子源的方法,电场发射电子源和电场发射显示
    • WO2006120789A1
    • 2006-11-16
    • PCT/JP2006/303723
    • 2006-02-28
    • 公立大学法人大阪府立大学潘 路軍中山 喜萬
    • 潘 路軍中山 喜萬
    • C01B31/02H01J1/304H01J9/02
    • B82Y30/00B82Y10/00B82Y40/00C01B32/162H01J9/025H01J2201/30469
    •  電界放出電子源ないしFEDの製造に好適な電界放出用カーボンナノチューブの成長条件を正確に制御することのできるカーボンナノチューブの製造方法、電界放出電子源の製造方法、電界放出電子源及び電界放出型ディスプレイの提供を目的とする。  本発明に係るCo/Ti触媒又はFe/Al触媒によるカーボンナノチューブの製造方法においては、触媒膜の膜厚を調整する条件、触媒膜自体の膜厚を調整する条件、原料ガスが触媒膜に接触する前の段階で原料ガスが予熱される有無の条件、反応室の炉壁温度条件、原料ガスの触媒接触時間や原料ガスの流量を調整する条件を、カーボンナノチューブの成長を制御する制御条件群として使用して、カーボンナノチューブをガラス軟化点以下の低温で成長させ、その成長を高精度に制御することが可能となり高性能FED等の生産に寄与する。
    • 本发明提供一种制造碳纳米管的方法,其可以精确地控制用于制造电场发射电子源或FED的电场发射用碳纳米管的生长条件,制造电场发射电子源的方法 电场发射电子源和电场发射显示。 在Co / Ti催化剂或Fe / Al催化剂的存在下制造碳纳米管的方法中,调节催化剂膜厚度的条件,催化剂膜本身的厚度调节条件, 原料气体是否在原料气体与催化剂膜接触之前的阶段被预热,反应室壁温度条件和调节原料催化剂接触时间的条件 气体和原料气体的流量用作控制碳纳米管生长的条件的一组条件,以在低于玻璃软化点的低温下生长碳纳米管。 在这种情况下,可以高精度地控制生长,这有助于生产高性能FED等。