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1. 发明申请

WO2007111251A1 表面処理装置审中-公开
标题翻译：表面加工设备
公开(公告)号：WO2007111251A1
公开(公告)日：2007-10-04
申请号：PCT/JP2007/056018
申请日：2007-03-23
申请人：積水化学工業株式会社 , 日野守 , 今井克広 , 竹内裕人 , 中森勇一 , 高橋英則 , 屋代進
发明人：日野守 , 今井克広 , 竹内裕人 , 中森勇一 , 高橋英則 , 屋代進
IPC分类号： H01L21/3065 , B01J19/08 , C23C16/455 , H05H1/24
CPC分类号： H01J37/32825 , H01J37/32009 , H01J37/3277 , H05H1/2406 , H05H2001/2412
摘要：【課題】被処理物が大型であっても簡易な構成で表面処理できるようにする。【解決手段】表面処理装置１の処理ヘッド１０を第１ユニット１１Ｌと第２ユニット１１Ｒで構成する。これらユニット１１には、処理ガスを噴き出すための孔列３４が、第１方向に延在されている。第１方向は、被処理物の移動される第２方向と直交している。２つのユニット１１は、互いに第１方向にずれ、かつ第２方向にずれて配置されている。２つのユニット１１の孔列３４どうしは、第２方向から見てオーバーラップしている。
摘要翻译： [问题]即使当待处理对象较大时，也可以通过简单的结构处理表面。解决问题的手段表面处理装置（1）的处理头（10）由第一单元（11L）和第二单元（11R）构成。在这些单元（11）上，用于喷射处理气体的孔排（34）沿第一方向延伸。第一方向与要处理的被摄体移动的第二方向正交相交。两个单元（11）通过沿第一方向和第二方向移位而布置。当从第二方向观察时，两个单元（11）的孔列（34）重叠。

2. 发明申请

WO2008132901A1 プラズマ処理装置审中-公开
标题翻译：等离子体加工设备
公开(公告)号：WO2008132901A1
公开(公告)日：2008-11-06
申请号：PCT/JP2008/055280
申请日：2008-03-21
申请人：積水化学工業株式会社 , 竹内裕人 , 屋代進
发明人：竹内裕人 , 屋代進
IPC分类号： H05H1/24 , H01L21/304 , H01L21/3065 , H05H1/46
CPC分类号： H01J37/32825
摘要：【課題】プラズマ処理装置の組み立て作業を容易化する。【解決手段】プラズマ処理装置の接地電極としての噴出孔１１ａ付きの底板１１と枠１２と蓋１３からなる容器１０の内部に、固体誘電体からなる電界印加側誘電部材３０収容し、容器内を底板側の放電空間１０ｅと蓋側の電極収容部１０ａとに仕切り、収容部１０ａに電界印加電極３０を収容する。容器１０と誘電部材３０との連結、底板１１と枠１２との連結、枠１２と蓋１３との連結を、基端部を蓋側に向け先端部を底板側に向けたネジ５１～５３にて行なう。
摘要翻译： [问题]为了方便组装等离子体处理装置。解决问题的手段容器（10）由作为等离子体处理装置的接地电极的底板（11）构成，具有排出口（11a），框架（12）和盖（ 13）。在容器中存储由固体电介质构成的电场施加侧电介质部件（30）。在容器内部，分隔成在底板侧的放电空间（10e）和盖侧的电极收纳部（10a），电场施加电极（30）被存储在收纳部（10a）中。使用螺钉（51-53），底端部分面向盖侧，前端部分面向底板侧，用于容器（10）和电介质构件（30）之间的连接，底板（11）和框架（12）以及框架（12）和盖子（13）之间的连接。

3. 发明申请

WO2004021748A1 プラズマ処理装置审中-公开
标题翻译：等离子体处理系统
公开(公告)号：WO2004021748A1
公开(公告)日：2004-03-11
申请号：PCT/JP2003/010944
申请日：2003-08-28
申请人：積水化学工業株式会社 , 真弓聡 , 日野守 , 屋代進 , 清水治和
发明人：真弓聡 , 日野守 , 屋代進 , 清水治和
IPC分类号： H05H1/24
CPC分类号： H01J37/32009 , H01J37/3244 , H01J37/32541 , H01J37/32752 , H05H1/48 , H05H2001/3478
摘要：　プラズマ処理装置Ｍ１には、一対の長尺電極３０を支持する処理部２０が設けられている。処理部２０には、複数の引きボルト５２（接近歪阻止手段）が電極３０の長手方向に互いに離れて設けられている。引きボルト５２の頭部は、ボルトホルダ５３を介して剛性板３３に引っ掛けられ、脚部は、電極３０にねじ込まれている。これによって、電極がクーロン力で歪むのを防止できる。
摘要翻译：一种等离子体处理系统M1，包括用于支撑一对长电极（30）的处理部（20）。在处理部分（20）处，在电极（30）的纵向彼此间隔开的同时设置多个拉动螺栓（52）（用于阻挡接近变形的装置）。拉螺栓（52）的头部通过螺栓保持器（53）钩在刚性板（33）上，并且腿部被拧入电极（30）中。由此可以防止电极被库仑力扭曲。

4. 发明申请

WO2002077546A1 ヒートポンプ及びヒートポンプシステム审中-公开
标题翻译：热泵，热泵系统
公开(公告)号：WO2002077546A1
公开(公告)日：2002-10-03
申请号：PCT/JP2002/002374
申请日：2002-03-13
申请人：積水化学工業株式会社 , 石井徹哉 , 屋代進
发明人：石井徹哉 , 屋代進
IPC分类号： F25B19/00
CPC分类号： F25B9/002
摘要： Water is stored as a refrigerant in an evaporator (25) for a heat pump (20). Evaporation from the water surface in the evaporator (25) is accelerated by the driving of a compressor (22). Further, air-mingled water in an injection passageway (21a) is expanded and reduced in pressure in a valve (24) and then injected via an injection passageway (21b) into the water in the evaporator (25). The air contained in the injected water becomes bubbles which rise in the water contained in the evaporator (25). During this rising process, the water molecules around the bubbles evaporate. That is, evaporation can take place not only from the water surface in the evaporator (25) but also in the water. This makes it possible to increase the evaporation rate and to improve the output of the heat pump (20).
摘要翻译：水作为制冷剂储存在用于热泵（20）的蒸发器（25）中。蒸发器（25）中的水面蒸发通过驱动压缩机（22）而被加速。此外，喷射通路21a中的空气混合水在阀（24）中膨胀并减压，然后经由喷射通路（21b）喷入蒸发器（25）中的水中。包含在喷射水中的空气变成在蒸发器（25）中容纳的水中升高的气泡。在这个上升过程中，气泡周围的水分子蒸发。也就是说，蒸发不仅可以从蒸发器（25）中的水面，而且在水中进行。这使得可以增加蒸发速率并改善热泵（20）的输出。

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