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1. 发明申请

WO2007111251A1 表面処理装置审中-公开
标题翻译：表面加工设备
公开(公告)号：WO2007111251A1
公开(公告)日：2007-10-04
申请号：PCT/JP2007/056018
申请日：2007-03-23
申请人：積水化学工業株式会社 , 日野守 , 今井克広 , 竹内裕人 , 中森勇一 , 高橋英則 , 屋代進
发明人：日野守 , 今井克広 , 竹内裕人 , 中森勇一 , 高橋英則 , 屋代進
IPC分类号： H01L21/3065 , B01J19/08 , C23C16/455 , H05H1/24
CPC分类号： H01J37/32825 , H01J37/32009 , H01J37/3277 , H05H1/2406 , H05H2001/2412
摘要：【課題】被処理物が大型であっても簡易な構成で表面処理できるようにする。【解決手段】表面処理装置１の処理ヘッド１０を第１ユニット１１Ｌと第２ユニット１１Ｒで構成する。これらユニット１１には、処理ガスを噴き出すための孔列３４が、第１方向に延在されている。第１方向は、被処理物の移動される第２方向と直交している。２つのユニット１１は、互いに第１方向にずれ、かつ第２方向にずれて配置されている。２つのユニット１１の孔列３４どうしは、第２方向から見てオーバーラップしている。
摘要翻译： [问题]即使当待处理对象较大时，也可以通过简单的结构处理表面。解决问题的手段表面处理装置（1）的处理头（10）由第一单元（11L）和第二单元（11R）构成。在这些单元（11）上，用于喷射处理气体的孔排（34）沿第一方向延伸。第一方向与要处理的被摄体移动的第二方向正交相交。两个单元（11）通过沿第一方向和第二方向移位而布置。当从第二方向观察时，两个单元（11）的孔列（34）重叠。

2. 发明申请

WO2008123142A1 プラズマ処理装置审中-公开
标题翻译：等离子体加工设备
公开(公告)号：WO2008123142A1
公开(公告)日：2008-10-16
申请号：PCT/JP2008/055278
申请日：2008-03-21
申请人：積水化学工業株式会社 , 竹内裕人 , 中森勇一 , 功刀俊介
发明人：竹内裕人 , 中森勇一 , 功刀俊介
IPC分类号： H05H1/24 , H01L21/304 , H01L21/3065
CPC分类号： H05H1/2406 , H05H2001/2412
摘要：【課題】プラズマ処理装置の接地電極における噴出口の内面に異常放電が落ちるのを防止する。【解決手段】プラズマ処理装置の接地電極４０における電界印加電極３０を向く放電面４２上に誘電部材６０を配置する。誘電部材６０には電極間の放電空間１ｐに連なる噴出導孔６２を形成し、接地電極４０には噴出導孔６２に連なる噴出口４１を形成する。誘電部材６０における噴出導孔６２の内面を、接地電極４０における噴出口４１の内面より突出させる。誘電部材６０には、接地電極４０との当接面６３から面一に延長された段差面６４を設ける。
摘要翻译：为了消除在等离子体处理装置的接地电极上的喷射口的内表面上的异常放电。解决问题的手段电介质部件（60）配置在与等离子体处理装置的接地电极（40）的面对电场施加电极（30）的放电面（42）上。在电介质构件60上形成有与电极之间的放电空间（1p）连续的喷射导向孔（62），并且在接地电极（40）上形成有与喷射导向孔（62）。介电部件（60）上的喷射导向孔（62）的内表面从接地电极（40）上的喷射口（41）的内表面突出。在电介质部件（60）上，台阶面（64）从与接地电极（40）抵接的邻接面（63）延伸为同一面。

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