专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 发明申请

WO2003036390A1 微細パターン形成方法审中-公开
标题翻译：形成精细图案的方法
公开(公告)号：WO2003036390A1
公开(公告)日：2003-05-01
申请号：PCT/JP2002/010243
申请日：2002-10-02
申请人：株式会社半導体先端テクノロジーズ , ダイキン工業株式会社 , 鳥海実 , 山崎民雄 , 渡辺裕之 , 井谷俊郎 , 荒木孝之 , 高明天 , 石川卓司
发明人：鳥海実 , 山崎民雄 , 渡辺裕之 , 井谷俊郎 , 荒木孝之 , 高明天 , 石川卓司
IPC分类号： G03F7/039
CPC分类号： G03F7/0395 , G03F7/0046 , G03F7/0392
摘要： A method of forming a fine resist pattern which includes the step of forming on a substrate a photosensitive layer from a photosensitive composition comprising at least a compound which generates an acid upon irradiation with light and a fluoropolymer, wherein the fluoropolymer is represented by the formula 1: -M1-M2-A1- 1 wherein structural unit M1 is a structural unit which is derived from a fluoromonomer and in which any of the carbon atoms constituting part of the polymer main chain has at least one fluorine atom bonded thereto structural unit M2 is a structural unit comprising an aliphatic ring structure incorporated in the polymer main chain structural unit A1 is a structural unit derived from a monomer copolymerizable with the structural units M1 and M2 and the fluoropolymer has an acid-reactive substituent Y.
摘要翻译：一种形成精细抗蚀剂图案的方法，其包括以下步骤：在光敏组合物上形成光敏层，所述光敏组合物至少包含在用光照射时产生酸的化合物和含氟聚合物，其中所述含氟聚合物由式1 ：-M1-M2-A1-1其中结构单元M1是衍生自含氟单体的结构单元，其中构成聚合物主链的一部分的任何碳原子具有至少一个与其结合的结构单元M2的氟原子是包含结合在聚合物主链结构单元A1中的脂族环结构的结构单元是衍生自可与结构单元M1和M2共聚的单体的结构单元，含氟聚合物具有酸反应性取代基Y.

2. 发明申请

WO2003007080A1 微細パターン形成方法审中-公开
标题翻译：形成精细图案的方法
公开(公告)号：WO2003007080A1
公开(公告)日：2003-01-23
申请号：PCT/JP2002/007113
申请日：2002-07-12
申请人：株式会社半導体先端テクノロジーズ , ダイキン工業株式会社 , 鳥海実 , 山崎民雄 , 渡辺裕之 , 井谷俊郎 , 荒木孝之 , 石川卓司
发明人：鳥海実 , 山崎民雄 , 渡辺裕之 , 井谷俊郎 , 荒木孝之 , 石川卓司
IPC分类号： G03F7/039
CPC分类号： H01L21/0275 , G03F7/0046 , G03F7/0233 , G03F7/0395 , H01L21/0277 , H01L21/0278 , H01L21/0279
摘要： A method for forming a fine pattern which comprises a step of forming a photosensitive layer on a substrate or a predetermined layer on a substrate by the use of a photosensitive composition comprising a compound capable of producing an acid through the irradiation thereof with a light and a fluorine−containing polymer containing a norbornene derivative unit having an OH group or a functional group capable of converting to an OH group by the action of an acid, an exposure step of selectively irradiating a predetermined region of the above photosensitive layer with an energy ray, a step of treating with heat the photosensitive layer after exposure, and a step of subjecting the photosensitive layer after heat treatment to a development treatment to remove selectively an exposed portion or an unexposed portion of the photosensitive layer. The method is advantageous in that it uses as a resist a photosensitive composition comprising a material exhibiting high transparency with respect to an exposure light of a short wave length, such as F 2 excimer laser, and having high practical utility.
摘要翻译：一种形成精细图案的方法，其包括通过使用光敏组合物在基材或基板上的预定层上形成感光层的步骤，所述光敏组合物包含能够通过照射光而产生酸的化合物含有具有OH基的降冰片烯衍生物单元的含氟聚合物或能够通过酸的作用转化成OH基的官能团的曝光步骤，用能量射线选择性地照射上述感光层的规定区域，曝光后的感光层加热处理的步骤，以及对热敏处理后的感光层进行显影处理以选择性地去除感光层的曝光部分或未曝光部分的步骤。该方法的优点在于，其使用感光组合物作为抗蚀剂，其包含相对于短波长的曝光光（例如F 2 S 2激子）具有高透明度的材料，并且具有高实用性效用。

3. 发明申请

WO2002073316A1 微細パターン形成方法审中-公开
标题翻译：精细图案形成方法
公开(公告)号：WO2002073316A1
公开(公告)日：2002-09-19
申请号：PCT/JP2002/001697
申请日：2002-02-26
申请人：株式会社半導体先端テクノロジーズ , ダイキン工業株式会社 , 内藤卓哉 , 石川誠一 , 鳥海実 , 三吉靖郎 , 山崎民雄 , 渡辺学 , 井谷俊郎 , 荒木孝之 , 石川卓司 , 高明天
发明人：内藤卓哉 , 石川誠一 , 鳥海実 , 三吉靖郎 , 山崎民雄 , 渡辺学 , 井谷俊郎 , 荒木孝之 , 石川卓司 , 高明天
IPC分类号： G03F7/039
CPC分类号： G03F7/0392 , G03F7/0046 , G03F7/0382 , G03F7/0395
摘要： A fine pattern forming method that uses a material highly transparent to a short-wavelength exposure light such as an F2 excimer laser beam and uses a highly practical photosensitive composition as resist, specifically a fine resist pattern forming method characterized by comprising the step of forming a photosensitive layer on a substrate or on a specified layer on the substrate by using at least a compound producing oxygen on light irradiation and a photosensitive composition including a compound containing fluorine atoms in a molecular structure, the step of irradiating selectively a specified region in the photosensitive layer with an energy beam for exposing it, the step of heat-treating the exposed photosensitive layer, and the step of developing the heat-treated photosensitive layer to selectively remove exposed portions or unexposed portions of the photosensitive layer and thereby form a fine pattern.
摘要翻译：一种精细图案形成方法，其使用对诸如F2准分子激光束的短波长曝光光高度透明的材料，并且使用高度实用的光敏组合物作为抗蚀剂，特别是精细抗蚀剂图案形成方法，其特征在于包括以下步骤：通过在光照射下至少使用产生氧的化合物和包含分子结构中含有氟原子的化合物的光敏组合物，在基板上或基板上的特定层上的感光层，选择性地照射感光体中的特定区域的步骤具有用于曝光它的能量束的层，对曝光的感光层进行热处理的步骤，以及显影经过热处理的感光层以选择性地去除感光层的曝光部分或未曝光部分从而形成精细图案的步骤。

4. 发明申请

WO2004063235A1 レジスト用含フッ素重合体の製造方法审中-公开
标题翻译：生产耐紫外线光聚合物的方法
公开(公告)号：WO2004063235A1
公开(公告)日：2004-07-29
申请号：PCT/JP2004/000031
申请日：2004-01-07
申请人：ダイキン工業株式会社 , 荒木孝之 , 石川卓司 , 鳥海実
发明人：荒木孝之 , 石川卓司 , 鳥海実
IPC分类号： C08F214/18
CPC分类号： C08F14/18
摘要：　含フッ素重合体の新規な製造方法、さらには真空紫外領域、特にＦ２レーザー（１５７ｎｍ）光において透明でかつアルカリ現像液に対する溶解性に優れたフォトレジスト用の含フッ素重合体の製造方法および該フォトレジスト用含フッ素重合体を含むフォトレジスト組成物を提供する。該製造方法は、重合体主鎖に脂肪族環構造の繰り返し単位（Ｍ２）を有する含フッ素重合体であって、かつ重合体中に酸で反応する酸反応性基Ｙ１または酸反応性基Ｙ１に変換可能な基Ｙ２を有するレジスト用含フッ素重合体を得るに当たり、該重合体主鎖に脂肪族環構造を与え得る単量体（ｍ２）を含む単量体混合物をラジカル重合開始剤の存在下、式（１）：　　　Ｒ−（Ｘ）ｎ　　　　　（１）（式中、Ｒは炭素数１～２０のエーテル結合を含んでいても良い炭化水素基から選ばれるものであって、水素原子の一部がフッ素原子で置換されていても良い炭化水素基；Ｘは酸素原子含有の官能基および置換または非置換アミノ基よりなる群から選ばれる少なくとも１種の官能基；ｎは１～４の整数）で示される連鎖移動剤を共存させてラジカル重合することを特徴とする現像液への溶解性に優れたレジスト用含フッ素重合体の製造方法である。
摘要翻译：本发明提供了一种生产含氟聚合物的新方法，具体地说，一种制备对真空紫外线透明的光致抗蚀剂含氟聚合物的方法，特别是F2激光（157nm），在碱性显影剂中的溶解性优异; 和含有光刻胶含氟聚合物的光致抗蚀剂组合物。该方法是制备在显影剂中溶解性优异的抗蚀剂含氟聚合物的方法，其包含在主链中的重复单元（M2）的脂环结构，并且在聚合物中具有酸反应性基团（Y 1）或基团（Y 1） 2）可转化成酸反应性基团（Y 1），其特征在于在自由基聚合引发剂和式（I）的存在下，将能够赋予脂环结构的单体（m2）的单体混合物自由基聚合到主链上由通式（1）表示的链转移剂：R - （X）n（1）其中R是任选含有醚键的C 1-20烃基，其中部分氢原子可被氟代替; X是至少一个选自含氧官能团和取代和未取代的氨基的官能团; n为1〜4的整数。

5. 发明申请

WO2004035641A1 含フッ素重合体の製造方法およびフォトレジスト組成物审中-公开
标题翻译：生产氟聚合物和光催化剂组合物的方法
公开(公告)号：WO2004035641A1
公开(公告)日：2004-04-29
申请号：PCT/JP2003/013161
申请日：2003-10-15
申请人：ダイキン工業株式会社 , 荒木孝之 , 石川卓司 , 高明天 , 鳥海実
发明人：荒木孝之 , 石川卓司 , 高明天 , 鳥海実
IPC分类号： C08F214/18
CPC分类号： C08F214/18 , C08F8/00 , C08F2800/20 , G03C1/492 , G03F7/0046 , G03F7/0392 , C08F214/26
摘要： A process for the production of fluoropolymers for resists excellent in transparency to vacuum ultraviolet rays, characterized in that in the production of a fluoropolymer comprising structural units resulting from an fluorine -containing ethylenic monomer and/or structural units resulting from a monomer which can give an alicyclic structure to the backbone chain of a polymer and may have a fluorine atom and bearing acid-reactive groups (Y ) or groups (Y ) convertible into acid-reactive groups (Y ), the ethylenic monomer and/or the monomer which can give an alicyclic structure to the backbone chain of a polymer is radical-polymerized by the use of an organic peroxide represented by the general formula (1): (1) [wherein R and R are each independently a hydrocarbon group which has 1 to 30 carbon atoms and may contain an ether linkage (with the proviso that the atoms at bonding ends are not oxygen); p1 and p2 are each independently 0 or 1; and p3 is 1 or 2]; and photoresist compositions containing the fluoropolymers. The fluoropolymers are excellent in transparency in the vacuum ultraviolet region and can form ultrafine patterns when used as photoresists, particularly F2 resist.
摘要翻译：一种制备用于真空紫外线透明性优异的抗蚀剂用氟聚合物的方法，其特征在于，在含氟含氟单体和/或由单体得到的结构单元的含氟聚合物的制造中，脂环结构与聚合物的主链可能具有氟原子并具有可转化为酸反应性基团（Y 1）的酸反应性基团（Y 1）或基团（Y 2），烯属可以通过使用由通式（1）表示的有机过氧化物使聚合物的主链上的脂环结构单体和/或单体自由基聚合：（1）[其中R 50和R <51>各自独立地为具有1至30个碳原子并可以含有醚键的烃基（条件是键合端的原子不是氧）; p1和p2各自独立地为0或1; 和p3为1或2]; 和含有氟聚合物的光致抗蚀剂组合物。含氟聚合物在真空紫外区域的透明度优异，并且当用作光致抗蚀剂，特别是F2抗蚀剂时，可以形成超细图案。

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式