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1. 发明申请

WO2002073316A1 微細パターン形成方法审中-公开
标题翻译：精细图案形成方法
公开(公告)号：WO2002073316A1
公开(公告)日：2002-09-19
申请号：PCT/JP2002/001697
申请日：2002-02-26
申请人：株式会社半導体先端テクノロジーズ , ダイキン工業株式会社 , 内藤卓哉 , 石川誠一 , 鳥海実 , 三吉靖郎 , 山崎民雄 , 渡辺学 , 井谷俊郎 , 荒木孝之 , 石川卓司 , 高明天
发明人：内藤卓哉 , 石川誠一 , 鳥海実 , 三吉靖郎 , 山崎民雄 , 渡辺学 , 井谷俊郎 , 荒木孝之 , 石川卓司 , 高明天
IPC分类号： G03F7/039
CPC分类号： G03F7/0392 , G03F7/0046 , G03F7/0382 , G03F7/0395
摘要： A fine pattern forming method that uses a material highly transparent to a short-wavelength exposure light such as an F2 excimer laser beam and uses a highly practical photosensitive composition as resist, specifically a fine resist pattern forming method characterized by comprising the step of forming a photosensitive layer on a substrate or on a specified layer on the substrate by using at least a compound producing oxygen on light irradiation and a photosensitive composition including a compound containing fluorine atoms in a molecular structure, the step of irradiating selectively a specified region in the photosensitive layer with an energy beam for exposing it, the step of heat-treating the exposed photosensitive layer, and the step of developing the heat-treated photosensitive layer to selectively remove exposed portions or unexposed portions of the photosensitive layer and thereby form a fine pattern.
摘要翻译：一种精细图案形成方法，其使用对诸如F2准分子激光束的短波长曝光光高度透明的材料，并且使用高度实用的光敏组合物作为抗蚀剂，特别是精细抗蚀剂图案形成方法，其特征在于包括以下步骤：通过在光照射下至少使用产生氧的化合物和包含分子结构中含有氟原子的化合物的光敏组合物，在基板上或基板上的特定层上的感光层，选择性地照射感光体中的特定区域的步骤具有用于曝光它的能量束的层，对曝光的感光层进行热处理的步骤，以及显影经过热处理的感光层以选择性地去除感光层的曝光部分或未曝光部分从而形成精细图案的步骤。

2. 发明申请

WO2004063235A1 レジスト用含フッ素重合体の製造方法审中-公开
标题翻译：生产耐紫外线光聚合物的方法
公开(公告)号：WO2004063235A1
公开(公告)日：2004-07-29
申请号：PCT/JP2004/000031
申请日：2004-01-07
申请人：ダイキン工業株式会社 , 荒木孝之 , 石川卓司 , 鳥海実
发明人：荒木孝之 , 石川卓司 , 鳥海実
IPC分类号： C08F214/18
CPC分类号： C08F14/18
摘要：　含フッ素重合体の新規な製造方法、さらには真空紫外領域、特にＦ２レーザー（１５７ｎｍ）光において透明でかつアルカリ現像液に対する溶解性に優れたフォトレジスト用の含フッ素重合体の製造方法および該フォトレジスト用含フッ素重合体を含むフォトレジスト組成物を提供する。該製造方法は、重合体主鎖に脂肪族環構造の繰り返し単位（Ｍ２）を有する含フッ素重合体であって、かつ重合体中に酸で反応する酸反応性基Ｙ１または酸反応性基Ｙ１に変換可能な基Ｙ２を有するレジスト用含フッ素重合体を得るに当たり、該重合体主鎖に脂肪族環構造を与え得る単量体（ｍ２）を含む単量体混合物をラジカル重合開始剤の存在下、式（１）：　　　Ｒ−（Ｘ）ｎ　　　　　（１）（式中、Ｒは炭素数１～２０のエーテル結合を含んでいても良い炭化水素基から選ばれるものであって、水素原子の一部がフッ素原子で置換されていても良い炭化水素基；Ｘは酸素原子含有の官能基および置換または非置換アミノ基よりなる群から選ばれる少なくとも１種の官能基；ｎは１～４の整数）で示される連鎖移動剤を共存させてラジカル重合することを特徴とする現像液への溶解性に優れたレジスト用含フッ素重合体の製造方法である。
摘要翻译：本发明提供了一种生产含氟聚合物的新方法，具体地说，一种制备对真空紫外线透明的光致抗蚀剂含氟聚合物的方法，特别是F2激光（157nm），在碱性显影剂中的溶解性优异; 和含有光刻胶含氟聚合物的光致抗蚀剂组合物。该方法是制备在显影剂中溶解性优异的抗蚀剂含氟聚合物的方法，其包含在主链中的重复单元（M2）的脂环结构，并且在聚合物中具有酸反应性基团（Y 1）或基团（Y 1） 2）可转化成酸反应性基团（Y 1），其特征在于在自由基聚合引发剂和式（I）的存在下，将能够赋予脂环结构的单体（m2）的单体混合物自由基聚合到主链上由通式（1）表示的链转移剂：R - （X）n（1）其中R是任选含有醚键的C 1-20烃基，其中部分氢原子可被氟代替; X是至少一个选自含氧官能团和取代和未取代的氨基的官能团; n为1〜4的整数。

3. 发明申请

WO2003007080A1 微細パターン形成方法审中-公开
标题翻译：形成精细图案的方法
公开(公告)号：WO2003007080A1
公开(公告)日：2003-01-23
申请号：PCT/JP2002/007113
申请日：2002-07-12
申请人：株式会社半導体先端テクノロジーズ , ダイキン工業株式会社 , 鳥海実 , 山崎民雄 , 渡辺裕之 , 井谷俊郎 , 荒木孝之 , 石川卓司
发明人：鳥海実 , 山崎民雄 , 渡辺裕之 , 井谷俊郎 , 荒木孝之 , 石川卓司
IPC分类号： G03F7/039
CPC分类号： H01L21/0275 , G03F7/0046 , G03F7/0233 , G03F7/0395 , H01L21/0277 , H01L21/0278 , H01L21/0279
摘要： A method for forming a fine pattern which comprises a step of forming a photosensitive layer on a substrate or a predetermined layer on a substrate by the use of a photosensitive composition comprising a compound capable of producing an acid through the irradiation thereof with a light and a fluorine−containing polymer containing a norbornene derivative unit having an OH group or a functional group capable of converting to an OH group by the action of an acid, an exposure step of selectively irradiating a predetermined region of the above photosensitive layer with an energy ray, a step of treating with heat the photosensitive layer after exposure, and a step of subjecting the photosensitive layer after heat treatment to a development treatment to remove selectively an exposed portion or an unexposed portion of the photosensitive layer. The method is advantageous in that it uses as a resist a photosensitive composition comprising a material exhibiting high transparency with respect to an exposure light of a short wave length, such as F 2 excimer laser, and having high practical utility.
摘要翻译：一种形成精细图案的方法，其包括通过使用光敏组合物在基材或基板上的预定层上形成感光层的步骤，所述光敏组合物包含能够通过照射光而产生酸的化合物含有具有OH基的降冰片烯衍生物单元的含氟聚合物或能够通过酸的作用转化成OH基的官能团的曝光步骤，用能量射线选择性地照射上述感光层的规定区域，曝光后的感光层加热处理的步骤，以及对热敏处理后的感光层进行显影处理以选择性地去除感光层的曝光部分或未曝光部分的步骤。该方法的优点在于，其使用感光组合物作为抗蚀剂，其包含相对于短波长的曝光光（例如F 2 S 2激子）具有高透明度的材料，并且具有高实用性效用。

4. 发明申请

WO2004035641A1 含フッ素重合体の製造方法およびフォトレジスト組成物审中-公开
标题翻译：生产氟聚合物和光催化剂组合物的方法
公开(公告)号：WO2004035641A1
公开(公告)日：2004-04-29
申请号：PCT/JP2003/013161
申请日：2003-10-15
申请人：ダイキン工業株式会社 , 荒木孝之 , 石川卓司 , 高明天 , 鳥海実
发明人：荒木孝之 , 石川卓司 , 高明天 , 鳥海実
IPC分类号： C08F214/18
CPC分类号： C08F214/18 , C08F8/00 , C08F2800/20 , G03C1/492 , G03F7/0046 , G03F7/0392 , C08F214/26
摘要： A process for the production of fluoropolymers for resists excellent in transparency to vacuum ultraviolet rays, characterized in that in the production of a fluoropolymer comprising structural units resulting from an fluorine -containing ethylenic monomer and/or structural units resulting from a monomer which can give an alicyclic structure to the backbone chain of a polymer and may have a fluorine atom and bearing acid-reactive groups (Y ) or groups (Y ) convertible into acid-reactive groups (Y ), the ethylenic monomer and/or the monomer which can give an alicyclic structure to the backbone chain of a polymer is radical-polymerized by the use of an organic peroxide represented by the general formula (1): (1) [wherein R and R are each independently a hydrocarbon group which has 1 to 30 carbon atoms and may contain an ether linkage (with the proviso that the atoms at bonding ends are not oxygen); p1 and p2 are each independently 0 or 1; and p3 is 1 or 2]; and photoresist compositions containing the fluoropolymers. The fluoropolymers are excellent in transparency in the vacuum ultraviolet region and can form ultrafine patterns when used as photoresists, particularly F2 resist.
摘要翻译：一种制备用于真空紫外线透明性优异的抗蚀剂用氟聚合物的方法，其特征在于，在含氟含氟单体和/或由单体得到的结构单元的含氟聚合物的制造中，脂环结构与聚合物的主链可能具有氟原子并具有可转化为酸反应性基团（Y 1）的酸反应性基团（Y 1）或基团（Y 2），烯属可以通过使用由通式（1）表示的有机过氧化物使聚合物的主链上的脂环结构单体和/或单体自由基聚合：（1）[其中R 50和R <51>各自独立地为具有1至30个碳原子并可以含有醚键的烃基（条件是键合端的原子不是氧）; p1和p2各自独立地为0或1; 和p3为1或2]; 和含有氟聚合物的光致抗蚀剂组合物。含氟聚合物在真空紫外区域的透明度优异，并且当用作光致抗蚀剂，特别是F2抗蚀剂时，可以形成超细图案。

5. 发明申请

WO2003036390A1 微細パターン形成方法审中-公开
标题翻译：形成精细图案的方法
公开(公告)号：WO2003036390A1
公开(公告)日：2003-05-01
申请号：PCT/JP2002/010243
申请日：2002-10-02
申请人：株式会社半導体先端テクノロジーズ , ダイキン工業株式会社 , 鳥海実 , 山崎民雄 , 渡辺裕之 , 井谷俊郎 , 荒木孝之 , 高明天 , 石川卓司
发明人：鳥海実 , 山崎民雄 , 渡辺裕之 , 井谷俊郎 , 荒木孝之 , 高明天 , 石川卓司
IPC分类号： G03F7/039
CPC分类号： G03F7/0395 , G03F7/0046 , G03F7/0392
摘要： A method of forming a fine resist pattern which includes the step of forming on a substrate a photosensitive layer from a photosensitive composition comprising at least a compound which generates an acid upon irradiation with light and a fluoropolymer, wherein the fluoropolymer is represented by the formula 1: -M1-M2-A1- 1 wherein structural unit M1 is a structural unit which is derived from a fluoromonomer and in which any of the carbon atoms constituting part of the polymer main chain has at least one fluorine atom bonded thereto structural unit M2 is a structural unit comprising an aliphatic ring structure incorporated in the polymer main chain structural unit A1 is a structural unit derived from a monomer copolymerizable with the structural units M1 and M2 and the fluoropolymer has an acid-reactive substituent Y.
摘要翻译：一种形成精细抗蚀剂图案的方法，其包括以下步骤：在光敏组合物上形成光敏层，所述光敏组合物至少包含在用光照射时产生酸的化合物和含氟聚合物，其中所述含氟聚合物由式1 ：-M1-M2-A1-1其中结构单元M1是衍生自含氟单体的结构单元，其中构成聚合物主链的一部分的任何碳原子具有至少一个与其结合的结构单元M2的氟原子是包含结合在聚合物主链结构单元A1中的脂族环结构的结构单元是衍生自可与结构单元M1和M2共聚的单体的结构单元，含氟聚合物具有酸反应性取代基Y.

6. 发明申请

WO2002093249A1 含フッ素ポリマーを含んでなる非線形光学材料审中-公开
标题翻译：含有荧光体的非线性光学材料
公开(公告)号：WO2002093249A1
公开(公告)日：2002-11-21
申请号：PCT/JP2002/004729
申请日：2002-05-16
申请人：ダイキン工業株式会社 , 荒木孝之 , 田中義人 , 大橋美保子 , 小松雄三
发明人：荒木孝之 , 田中義人 , 大橋美保子 , 小松雄三
IPC分类号： G02F1/361
CPC分类号： G02F1/3615 , G02F1/3616 , G02F1/3617
摘要： A fluororesin composition for use in nonlinear optical materials which comprises (I) a fluoroprepolymer and (II) an organic compound having a second- or higher-order, nonlinear optical effect, characterized in that the fluoroprepolymer (I) is (1) a noncrystalline polymer having a fluorine content of 25% or higher and (2) has a carbon-carbon double bond in a polymer side chain or at an end of the polymer backbone; and a nonlinear optical waveguide element obtained with the composition. In the preferable nonlinear optical material, the fluoropolymer forms a stable structure together with the nonlinear substance. The excellent nonlinear optical waveguide element retains transparency in the near infrared region and can be produced through relatively simple steps.
摘要翻译：一种用于非线性光学材料的氟树脂组合物，其包含（I）氟代聚合物和（II）具有二级或更高级非线性光学效应的有机化合物，其特征在于所述氟聚合物（I）为（1）非结晶氟含量为25％以上的聚合物和（2）在聚合物侧链或聚合物主链的末端具有碳 - 碳双键; 以及使用该组合物获得的非线性光波导元件。在优选的非线性光学材料中，含氟聚合物与非线性物质一起形成稳定的结构。优异的非线性光波导元件保持近红外区域的透明度，并且可以通过相对简单的步骤制造。

7. 发明申请

WO2002072696A1 官能基含有フッ素ポリマーを含んでなる光学材料审中-公开
标题翻译：含有功能荧光体的光学材料
公开(公告)号：WO2002072696A1
公开(公告)日：2002-09-19
申请号：PCT/JP2002/002057
申请日：2002-03-06
申请人：ダイキン工業株式会社 , 荒木孝之 , 田中義人 , 小松雄三 , 安藤善人
发明人：荒木孝之 , 田中義人 , 小松雄三 , 安藤善人
IPC分类号： C08L29/10
CPC分类号： G02B1/04 , C08K3/10 , C08K5/0091 , C08L29/10 , C08L33/16 , H01S3/178
摘要： A functional-fluoropolymer-containing optical material which is an organic composition suitable for use as an optical material for optical communication, etc. It comprises a functional fluoropolymer and rare earth metal ions, wherein the functional fluoropolymer has at least one ketone structure in a side chain and has a maximum value of absorption coefficient of 1 cm or lower in each of the wavelength ranges of 1,290 to 1,320 nm, 1,530 to 1,570 nm, and 600 to 900 nm, and the rare earth metal ions are ions of at least one member selected from the group consisting of erbium (Er), thulium (Tm), praseodymium (Pr), holmium (Ho), neodymium (Nd), and europium (Eu).
摘要翻译：含有功能性含氟聚合物的光学材料，其是适合用作光学通信用光学材料的有机组合物等。它包括官能含氟聚合物和稀土金属离子，其中官能含氟聚合物在侧面具有至少一个酮结构并且在1,290〜1320nm，1,530〜1,570nm，600〜900nm的波长范围内的吸收系数的吸收系数的最大值为1cm -1以下，稀土金属离子为选自铒（Er），ium（Tm），镨（Pr），钬（Ho），钕（Nd）和铕（Eu）中的至少一种。

8. 发明申请

WO2004108772A1 硬化性表面改質剤およびそれを用いた硬化性表面改質用組成物审中-公开
标题翻译：可固化表面改性剂和包含其表面改性的可固化组合物
公开(公告)号：WO2004108772A1
公开(公告)日：2004-12-16
申请号：PCT/JP2004/007179
申请日：2004-05-26
申请人：ダイキン工業株式会社 , 大橋美保子 , 佐藤数行 , 荒木孝之
发明人：大橋美保子 , 佐藤数行 , 荒木孝之
IPC分类号： C08F8/00
CPC分类号： C08F8/00 , Y10T428/3154 , Y10T428/31544 , C08F8/28 , C08F16/06 , C08F214/182
摘要：　長鎖ポリフルオロポリエーテル鎖含有部位Ａおよび／または自己架橋性官能基含有部位Ｂを側鎖の少なくとも一部分に有する含フッ素エチレン性ポリマーからなり、樹脂として部位Ａおよび部位Ｂの両方を含み、かつ汎用溶剤に可溶である樹脂からなる硬化性表面改質剤であって、各種の塗膜、特に反射防止膜の表面性状、特に表面滑り性（低摩擦係数化）、表面硬度、耐磨耗性、耐薬品性、汚染拭き取り性などを改善し、本来の塗膜の表面に改質された表面性状を付与することができる硬化性表面改質剤を提供する。
摘要翻译：一种包含树脂的可固化表面改性剂，其包含一种或多种在至少部分侧链中的氟化乙烯聚合物，所述链段包含长链多氟聚醚链和/或具有自身的链段（B）的链段（A） - 可交联官能团，并且其包含片段（A）和片段（B），并且可溶于普通溶剂。改性剂改善各种涂膜，特别是抗反射膜的表面性能，特别是表面滑动性能（摩擦系数的降低），表面硬度，耐磨性，耐化学性和通过擦拭的污垢去除性。它可以赋予原始涂膜表面改性表面性能。

9. 发明申请

WO2004085498A1 薄膜の形成方法审中-公开
标题翻译：形成薄膜的方法
公开(公告)号：WO2004085498A1
公开(公告)日：2004-10-07
申请号：PCT/JP2004/004028
申请日：2004-03-24
申请人：ダイキン工業株式会社 , 荒木孝之 , 小谷哲浩
发明人：荒木孝之 , 小谷哲浩
IPC分类号： C08F114/22
CPC分类号： C08F114/22 , C07C21/18 , Y10T428/3154 , Y10T428/31544
摘要：　比較的簡便な方法（被覆条件、手法など）で、種々の基材に適用可能なＩ型結晶構造のフッ化ビニリデン単独重合体の薄膜の形成方法、Ｉ型結晶構造のフッ化ビニリデン単独重合体を純度良くかつ効率良く製造する方法、さらに強誘電性に優れた薄膜を与え得る新規なフッ化ビニリデン単独重合体を提供する。（ｉ）フッ化ビニリデンを−ＣＲｆ 1 Ｒｆ 2 Ｘ 1 （式中、Ｘ 1 はヨウ素原子または臭素原子；Ｒｆ 1 、Ｒｆ 2 は同じかまたは異なりフッ素原子または炭素数１～５のパーフルオロアルキル基から選ばれるもの）で示される部位を少なくとも１個含む炭素数１～２０のヨウ素化合物または臭素化合物の存在下、ラジカル重合することにより、Ｉ型結晶構造を単独または主成分とするフッ化ビニリデン単独重合体原末を製造する工程と、（ii）前記Ｉ型結晶構造を単独または主成分とするフッ化ビニリデン単独重合体原末から得られるＩ型結晶構造を単独または主成分とするフッ化ビニリデン単独重合体を用いて基材表面に薄膜を形成する工程を含むフッ化ビニリデン単独重合体薄膜の形成方法。
摘要翻译：一种形成具有I型晶体结构的偏二氟乙烯均聚物薄膜的方法，该方法可用于以相对容易的方式（涂覆条件，步骤等）在各种基材上形成膜; 一种有效生产具有I型晶体结构的高纯度偏二氟乙烯均聚物的方法; 以及可以得到具有优异的铁电特性的薄膜的新型偏二氟乙烯均聚物。薄偏氟乙烯均聚物膜形成方法包括（i）在具有至少一个由-CR f 1表示的部分的C 1-20碘或溴化合物的存在下，通过自由基聚合聚合偏二氟乙烯的步骤， Rf <2> X 1（其中X 1为碘或溴; Rf 1和R f 2相同或不同，各自为氟和C 1-5全氟烷基之一），以产生由单独的I型晶体结构或以该结构为主要成分构成的偏二氟乙烯均聚物的原料粉末和（ii）由单独的I型结晶结构构成或包含该结构的结构的偏二氟乙烯均聚物作为主要组分，并且由单独或由该结构作为主要成分的由I形晶体结构组成的偏二氟乙烯均聚物的原料粉末得到，用于在基材表面上形成薄膜。

10. 发明申请

WO2004070435A1 耐熱性光学材料およびそれを用いた光伝送用媒体审中-公开
标题翻译：耐热光学材料及其光传输介质
公开(公告)号：WO2004070435A1
公开(公告)日：2004-08-19
申请号：PCT/JP2004/000691
申请日：2004-01-27
申请人：ダイキン工業株式会社 , 田中義人 , 荒木孝之
发明人：田中義人 , 荒木孝之
IPC分类号： G02B1/04
CPC分类号： G02B6/1221 , G02B1/041 , G02B1/046 , G02B2006/121 , C08L33/00
摘要：　側鎖に脂環式炭化水素部位を有する重合体であって１１５℃以上の熱変形温度を有する重合体からなる光学材料であって、光伝送用媒体、詳しくはプラスチック光ファイバーや導波路型素子のコア用材料として利用可能な耐熱性と信号伝送能力を兼ね備えた光学材料を提供する。
摘要翻译：由具有115℃以上的具有作为侧链的脂环式烃部分的热变形温度的聚合物构成的光学材料，该光学材料不仅具有耐热性，而且具有信号传输能力，以便能够用作光传输介质的核心材料，特别是塑料光纤和波导元件。

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