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1. 发明申请

WO2007029829A1 露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法审中-公开
标题翻译：曝光装置，曝光方法和装置生产方法
公开(公告)号：WO2007029829A1
公开(公告)日：2007-03-15
申请号：PCT/JP2006/317902
申请日：2006-09-08
申请人：株式会社ニコン , 木内徹 , 水谷剛之 , 根井正洋 , 濱谷正人 , 奥村正彦
发明人：木内徹 , 水谷剛之 , 根井正洋 , 濱谷正人 , 奥村正彦
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70341 , G03F7/707 , G03F7/70733
摘要：　露光装置（ＥＸ）は、液浸システム（１）と、第１移動体（４）と、所定部材（３０）とを備える。露光装置（ＥＸ）は、光学部材（ＦＬ）と液体（ＬＱ）とを介して基板（Ｐ）を露光する。液浸システム（１）は、前記液体（ＬＱ）の供給及び回収を行う。第１移動体（４）は、第１領域（１０）で移動し、前記光学部材（ＦＬ）との間に前記液体（ＬＱ）が保持され得る。所定部材（３０）は、前記光学部材（ＦＬ）の対向位置から前記第１移動体（４）が離れたときに前記第１移動体（４）から取り外され、前記光学部材（ＦＬ）との間に前記液体（ＬＱ）が保持され得る。
摘要翻译：曝光装置（EX）具有浸液系统（1），第一移动体（4）和预定构件（30）。曝光装置（EX）经由光学构件（FL）和液体（LQ）暴露基板（P）。液浸系统（1）供应和回收液体（LQ）。第一移动体（4）在第一区域（10）中移动，并且液体（LQ）可以保持在第一移动体（4）和光学构件（FL）之间。当移动体从面向光学构件（FL）的位置分离时，预定构件（30）从第一移动体（4）分离，液体（LQ）能够保持在预定构件（30）和光学构件（FL）。

2. 发明申请

WO2005006417A1 露光装置及びデバイス製造方法审中-公开
标题翻译：曝光装置和制造装置的方法
公开(公告)号：WO2005006417A1
公开(公告)日：2005-01-20
申请号：PCT/JP2004/009995
申请日：2004-07-07
申请人：株式会社ニコン , 木内徹 , 三宅寿弘
发明人：木内徹 , 三宅寿弘
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70341 , G02B7/021 , G02B7/023 , G03F7/70825 , G03F7/709
摘要：露光装置EXは、投影光学系PLと液体LQとを介して基板W上にパターン像を投影するものであって、投影光学系PLは、液体LQに接する光学部材G12及び光学部材G12とレチクルRとの間に配置される光学群MPLを有している。光学部材G12と光学群MPLとを保持する保持機構HGは、光学部材G12を光学群MPLに対して可動に保持する。このような構成により投影光学系と基板との間に液体を満たして露光処理する際のパターン像の劣化を抑えることができる露光装置を提供することができる。
摘要翻译：公开了一种曝光装置（EX），其中通过投影光学系统（PL）和液体（LQ）将图案图像投射到基板（W）上。投影光学系统（PL）包括与液体（LQ）接触的光学构件（G12）和布置在光学构件（G12）和光罩（R）之间的一组光学元件（MPL）。用于光学构件（G12）和光学元件组（MPL）的保持机构（HG）以光学构件（G12）相对于一组光学元件（G12）可移动的方式保持光学构件（G12） MPL）。通过具有这种结构，曝光装置能够在用液体填充投影光学系统和基板之间的空间的同时，抑制曝光时的图案图像的劣化。

3. 发明申请

WO2003090891A1 ガングリップコントローラ审中-公开
标题翻译：枪控制器
公开(公告)号：WO2003090891A1
公开(公告)日：2003-11-06
申请号：PCT/JP2002/004046
申请日：2002-04-23
申请人：株式会社シー・シー・ピー , 木内徹
发明人：木内徹
IPC分类号： A63H30/04
CPC分类号： A63H30/04
摘要：このガングリップコントローラ１は、自動車模型等を制御する引金状レバー２３やステアリングダイアル１１等を有する略棒状になされたコントローラ本体３と、このコントローラ本体３から突出して設けられたグリップ７とを有し、グリップ７は、コントローラ本体３に回動可能に設けられているとともに、コントローラ本体３から前記コントローラ本体３の長手方向に交わる方向に突出した突出位置２５と、コントローラ本体３の長手方向に沿う方向に折畳まれた折畳み位置２７とを採り得るようになされている。従って、ガングリップ形状でありながら、梱包時、携行時にはコンパクトな形状にすることができる。
摘要翻译：一种枪夹控制器（1），包括具有用于控制汽车模型的触发器操纵杆（23）和转向盘（11）的杆状控制器主体（3），以及从所述控制器主体（3），其中所述把手（7）可旋转地设置在所述控制器主体（3）上，并且可以在与所述控制器主体（3）的与其纵向相交的方向上从所述控制器主体（3）突出的位置（25）位置（27），其沿着控制器主体（3）的纵向被折叠。因此，可以在包装或携带时使枪把手控制器紧凑。

4. 发明申请

WO2008069151A1 露光装置、露光方法及びデバイス製造方法审中-公开
标题翻译：曝光装置，曝光方法和装置生产方法
公开(公告)号：WO2008069151A1
公开(公告)日：2008-06-12
申请号：PCT/JP2007/073255
申请日：2007-11-30
申请人：株式会社ニコン , 木内徹
发明人：木内徹
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70341 , G03F7/70733
摘要：　露光装置ＥＸは、露光ビームを射出する第１光学部材８と、所定領域内で基板を保持しながら移動可能な第１移動体１，２と、第１移動体が第１光学部材８から離れているときに、第１光学部材の射出面と対向する位置に、第１光学部材８との間に液体ＬＱを保持する空間を形成可能な第１カバー部材Ｃ１が配置されるように、第１カバー部材Ｃ１をリリース可能に保持する第１保持装置３０と、第１移動体上に設けられ、第１保持装置３０からリリースされた第１キャップ部材Ｃ１を保持可能な第２保持装置ＣＨ１と、第１移動体上に設けられ、第２キャップ部材Ｃ２をリリース可能に保持する第３保持装置ＣＨ２とを備えている。稼動率の低下を抑制しつつ、キャップ部材に起因する性能の劣化を抑制できる。
摘要翻译：曝光装置（EX）具有发射曝光光束的第一光学部件（8）能够在保持基板的同时在预定区域内移动的第一移动体（1,2）第一保持装置（30），当所述第一移动体远离所述第一光学构件（8）时，可释放地保持第一帽构件（C1），使得所述第一帽构件（C1）被放置在面向第一盖构件（C1）能够在其与第一光学构件（8）之间形成用于保持液体（LQ）的空间; 第二保持装置（CH1），其设置在所述第一移动体上并且可以保持从所述第一保持装置（30）释放的所述第一盖构件（C1）; 以及设置在所述第一移动体上并可释放地保持第二盖构件（C2）的第三保持装置（CH2）。抑制了运转率的降低，并且也抑制了由盖构件引起的性能的降低。

5. 发明申请

WO2008066181A1 液浸露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法审中-公开
标题翻译：倾斜曝光装置和曝光方法以及装置制造方法
公开(公告)号：WO2008066181A1
公开(公告)日：2008-06-05
申请号：PCT/JP2007/073250
申请日：2007-11-30
申请人：株式会社ニコン , 木内徹
发明人：木内徹
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70341
摘要：　液浸露光装置は、露光ビームを射出する射出面を有する第１光学部材８と、基板を保持して第１光学部材に対して移動可能な第１移動体１と、第１移動体の移動に伴って移動可能であり、射出面と対向する位置にあるときには、射出面との間に形成される空間に液体を保持可能なカバー部材Ｃと、第１移動体に設けられ、カバー部材を保持する第１保持部ＣＨ１と、カバー部材Ｃを、第１保持部から外し、第１移動体とは独立して移動させるための搬送部ＨＣとを備えている。液体を介して基板を露光する際、カバー部材に起因する性能の劣化を抑制できる。
摘要翻译：提供一种浸渍曝光装置，包括具有用于注入曝光光束的注入面的第一光学部件（8），在保持基板的同时相对于第一光学部件移动的第一移动器（1），制成的盖部件根据所述第一移动体的运动可移动，并且当定位成面对所述注射面时，能够将液体保持在其自身与所述注射面之间形成的空间中，安装在所述第一移动器中的用于保持所述注射面的第一保持部（CH1）盖构件和用于从第一保持部分移除盖构件（C）的转移单元（HC），从而独立于第一移动件移动该盖构件。当衬底通过液体暴露时，可以抑制由盖构件引起的性能的劣化。

6. 发明申请

WO2008059916A1 露光装置、露光方法及びデバイス製造方法审中-公开
标题翻译：曝光装置，曝光方法和装置制造方法
公开(公告)号：WO2008059916A1
公开(公告)日：2008-05-22
申请号：PCT/JP2007/072168
申请日：2007-11-15
申请人：株式会社ニコン , 木内徹
发明人：木内徹
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70775 , G03F7/70341 , G03F7/70733
摘要：　露光装置ＥＸは、露光ビームＥＬを射出する第１光学部材８と、第１光学部材の光射出側で移動可能な第１移動体１と、第１移動体１に設けられ、位置計測用の計測ビームが照射される斜面１Ｓｚを有する計測部材１Ｒｚと、第１移動体１に設けられ、計測部材１Ｒｚよりも外側に張り出す端面８Ｅを有し、計測ビームを透過可能な透過領域を有する透過部材８１とを備える。露光装置に液浸法を適用した場合において、基板を効率良く良好に露光できる。
摘要翻译：曝光装置（EX）设置有用于发射曝光光束（EL）的第一光学部件（8）。在所述第一光学构件的发光侧可移动的第一移动体（1）; 测量部件（1Rz），其布置在所述第一移动体（1）上并且具有施加了用于位置测量的测量光束的倾斜表面（1Sz）; 并且布置在第一移动体（1）上的发送部件（81）具有从测量部件（1Rz）向外延伸的端面（8E）和能够透射测量光束的透射区域。在曝光装置中采用液浸法的情况下，能够有效地露出基板。

7. 发明申请

WO2007058188A1 露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法审中-公开
标题翻译：曝光装置，曝光方法和装置制造方法
公开(公告)号：WO2007058188A1
公开(公告)日：2007-05-24
申请号：PCT/JP2006/322716
申请日：2006-11-15
申请人：株式会社ニコン , 井上英也 , 木内徹
发明人：井上英也 , 木内徹
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/7085 , G03F7/70225 , G03F7/70291 , G03F7/70441 , G03F7/70525 , G03F7/70625 , Y10S438/975
摘要：　パターン像生成装置（１０，１２，ＰＬ）により、パターン像が生成され、その生成されたパターン像、又は生成されて物体上に形成されたパターン像の少なくとも一部が、検出系（４２、４８）によって光電的に検出される。そして、修正装置（３２）は、その検出結果に基づいてパターン像生成装置に入力すべき設計データを修正する。従って、この修正後の設計データの入力に対応して、パターン像生成装置により物体（Ｐ）上にパターン像が生成され、該パターン像で物体が露光されることで、所望のパターンが物体上に精度良く形成される。
摘要翻译：由图案图像形成装置（10,12，PL）生成图案图像，并且通过检测系统（42,21）对所生成的图案图像的至少一部分或者在物质上产生和形成的图案图像的一部分进行光电检测， 48）。然后，修改装置（32）基于检测结果修改要输入到图案图像生成装置的设计数据。因此，对应于修改后的设计数据的输入，通过图案图像生成装置对物质（P）生成图案图像，并且利用图案图像曝光物质。因此，在物质上精确地形成期望的图案。

8. 发明申请

WO2006101120A1 露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法审中-公开
标题翻译：曝光装置，曝光方法和制造装置的方法
公开(公告)号：WO2006101120A1
公开(公告)日：2006-09-28
申请号：PCT/JP2006/305695
申请日：2006-03-22
申请人：株式会社ニコン , 木内徹
发明人：木内徹
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70875 , G03F7/70341
摘要：　露光装置は、基板（Ｐ）上に気流を生成しかつ露光光の光路空間に満たされた液体（ＬＱ）をシールするガスシール機構（３）と、ガスシール機構（３）により生成された気流に起因する基板（Ｐ）の温度変化を補償する補償機構（５）とを備えている。
摘要翻译：公开了一种曝光装置，包括用于在基板（P）上产生空气流并密封填充曝光光的光路的液体（LQ）的气体密封机构（3）和用于补偿温度的补偿机构（5）由气体密封机构（3）产生的空气流引起的基板（P）的变化。

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