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1. 发明申请

WO2008123142A1 プラズマ処理装置审中-公开
标题翻译：等离子体加工设备
公开(公告)号：WO2008123142A1
公开(公告)日：2008-10-16
申请号：PCT/JP2008/055278
申请日：2008-03-21
申请人：積水化学工業株式会社 , 竹内裕人 , 中森勇一 , 功刀俊介
发明人：竹内裕人 , 中森勇一 , 功刀俊介
IPC分类号： H05H1/24 , H01L21/304 , H01L21/3065
CPC分类号： H05H1/2406 , H05H2001/2412
摘要：【課題】プラズマ処理装置の接地電極における噴出口の内面に異常放電が落ちるのを防止する。【解決手段】プラズマ処理装置の接地電極４０における電界印加電極３０を向く放電面４２上に誘電部材６０を配置する。誘電部材６０には電極間の放電空間１ｐに連なる噴出導孔６２を形成し、接地電極４０には噴出導孔６２に連なる噴出口４１を形成する。誘電部材６０における噴出導孔６２の内面を、接地電極４０における噴出口４１の内面より突出させる。誘電部材６０には、接地電極４０との当接面６３から面一に延長された段差面６４を設ける。
摘要翻译：为了消除在等离子体处理装置的接地电极上的喷射口的内表面上的异常放电。解决问题的手段电介质部件（60）配置在与等离子体处理装置的接地电极（40）的面对电场施加电极（30）的放电面（42）上。在电介质构件60上形成有与电极之间的放电空间（1p）连续的喷射导向孔（62），并且在接地电极（40）上形成有与喷射导向孔（62）。介电部件（60）上的喷射导向孔（62）的内表面从接地电极（40）上的喷射口（41）的内表面突出。在电介质部件（60）上，台阶面（64）从与接地电极（40）抵接的邻接面（63）延伸为同一面。

2. 发明申请

WO2007111251A1 表面処理装置审中-公开
标题翻译：表面加工设备
公开(公告)号：WO2007111251A1
公开(公告)日：2007-10-04
申请号：PCT/JP2007/056018
申请日：2007-03-23
申请人：積水化学工業株式会社 , 日野守 , 今井克広 , 竹内裕人 , 中森勇一 , 高橋英則 , 屋代進
发明人：日野守 , 今井克広 , 竹内裕人 , 中森勇一 , 高橋英則 , 屋代進
IPC分类号： H01L21/3065 , B01J19/08 , C23C16/455 , H05H1/24
CPC分类号： H01J37/32825 , H01J37/32009 , H01J37/3277 , H05H1/2406 , H05H2001/2412
摘要：【課題】被処理物が大型であっても簡易な構成で表面処理できるようにする。【解決手段】表面処理装置１の処理ヘッド１０を第１ユニット１１Ｌと第２ユニット１１Ｒで構成する。これらユニット１１には、処理ガスを噴き出すための孔列３４が、第１方向に延在されている。第１方向は、被処理物の移動される第２方向と直交している。２つのユニット１１は、互いに第１方向にずれ、かつ第２方向にずれて配置されている。２つのユニット１１の孔列３４どうしは、第２方向から見てオーバーラップしている。
摘要翻译： [问题]即使当待处理对象较大时，也可以通过简单的结构处理表面。解决问题的手段表面处理装置（1）的处理头（10）由第一单元（11L）和第二单元（11R）构成。在这些单元（11）上，用于喷射处理气体的孔排（34）沿第一方向延伸。第一方向与要处理的被摄体移动的第二方向正交相交。两个单元（11）通过沿第一方向和第二方向移位而布置。当从第二方向观察时，两个单元（11）的孔列（34）重叠。

3. 发明申请

WO2008132901A1 プラズマ処理装置审中-公开
标题翻译：等离子体加工设备
公开(公告)号：WO2008132901A1
公开(公告)日：2008-11-06
申请号：PCT/JP2008/055280
申请日：2008-03-21
申请人：積水化学工業株式会社 , 竹内裕人 , 屋代進
发明人：竹内裕人 , 屋代進
IPC分类号： H05H1/24 , H01L21/304 , H01L21/3065 , H05H1/46
CPC分类号： H01J37/32825
摘要：【課題】プラズマ処理装置の組み立て作業を容易化する。【解決手段】プラズマ処理装置の接地電極としての噴出孔１１ａ付きの底板１１と枠１２と蓋１３からなる容器１０の内部に、固体誘電体からなる電界印加側誘電部材３０収容し、容器内を底板側の放電空間１０ｅと蓋側の電極収容部１０ａとに仕切り、収容部１０ａに電界印加電極３０を収容する。容器１０と誘電部材３０との連結、底板１１と枠１２との連結、枠１２と蓋１３との連結を、基端部を蓋側に向け先端部を底板側に向けたネジ５１～５３にて行なう。
摘要翻译： [问题]为了方便组装等离子体处理装置。解决问题的手段容器（10）由作为等离子体处理装置的接地电极的底板（11）构成，具有排出口（11a），框架（12）和盖（ 13）。在容器中存储由固体电介质构成的电场施加侧电介质部件（30）。在容器内部，分隔成在底板侧的放电空间（10e）和盖侧的电极收纳部（10a），电场施加电极（30）被存储在收纳部（10a）中。使用螺钉（51-53），底端部分面向盖侧，前端部分面向底板侧，用于容器（10）和电介质构件（30）之间的连接，底板（11）和框架（12）以及框架（12）和盖子（13）之间的连接。

4. 发明申请

WO2005009090A1 プラズマ処理装置及びその電極構造审中-公开
标题翻译：等离子体处理装置及其电极结构
公开(公告)号：WO2005009090A1
公开(公告)日：2005-01-27
申请号：PCT/JP2004/010415
申请日：2004-07-22
申请人：積水化学工業株式会社 , 上原剛 , 大野毅之 , 勢造一志 , 竹内裕人 , 小宮広実 , 伊藤巧 , 太田宜衛
发明人：上原剛 , 大野毅之 , 勢造一志 , 竹内裕人 , 小宮広実 , 伊藤巧 , 太田宜衛
IPC分类号： H05H1/24
CPC分类号： H01J37/32009 , H01J37/32541
摘要：【課題】　大面積の被処理物用のプラズマ処理装置において、電極のクーロン力による撓み量を低減し、表面処理の均一性を確保する。【解決手段】　プラズマ処理装置の電極構造３０Ｘは、左右にそれぞれ延びるとともに前後に互いに対峙する一対の電極列３１Ｘ，３２Ｘからなる。各電極列は、左右に並べられた複数の電極部材３１Ａ～３２Ｃにて構成され、左右方向の実質的に同じ位置に配置された一方の電極列と他方の電極列の電極部材どうしが、互いに逆の極性を有して互いの対向面の間に列間部分隙間３３ｐを形成している。さらに、各電極列の隣り合う電極部材どうしの極性が互いに逆になっている。
摘要翻译：为了提供一种具有大面积的物体的等离子体处理装置，其中由电极的库仑力引起的偏转量减小并且确保了表面处理的均匀性。解决问题的手段等离子体处理装置的电极结构（30X）包括在前后方向上彼此相对并且沿左右方向延伸的一对电极列（31X，32X）。每个电极列由沿左右方向布置的电极部件（31A〜32C）构成。一个电极列的电极构件和另一个电极列的电极构件被布置在左右方向上基本相同的位置。一个电极列的每个电极构件的极性与另一个的相对电极构件的极性相反。在电极列的电极部件的相对的表面之间，限定了行间间隙（33p）。每个电极列的任何两个相邻的电极构件具有彼此相对的极性。

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