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1. 发明申请

WO2005045526A1 硬化性組成物、硬化物、カラーフィルタ及び液晶表示装置审中-公开
标题翻译：可固化组合物，固化对象，彩色滤光片和液晶显示
公开(公告)号：WO2005045526A1
公开(公告)日：2005-05-19
申请号：PCT/JP2004/017030
申请日：2004-11-10
申请人：三菱化学株式会社 , 浦野年由 , 増田哲也 , 福井誠 , 瑞穂右二 , 水上潤二 , 田中俊行
发明人：浦野年由 , 増田哲也 , 福井誠 , 瑞穂右二 , 水上潤二 , 田中俊行
IPC分类号： G03F7/027
CPC分类号： G03F7/027 , G03F7/0007
摘要： A curable composition which not only has high sensitivity but is excellent in adhesion to substrates and thermal stability of the adhesion, especially a curable composition suitable for use as a solder resist or in direct drawing with a laser light. Also provided are: a curable composition which has high curability and excellent mechanical properties and is for use in producing a color filter, black matrix, overcoat, rib, and spacer for use in a liquid-crystal panel for, e.g., a liquid-crystal display; and a cured object obtained from the composition. The curable composition contains a compound represented by the following general formula (I) [wherein R represents optionally substituted alkylene or optionally substituted arylene; n is an integer of 0 to 10; the four benzene rings may be further substituted; R represents carbonyloxy containing optionally substituted, C5 or higher, ethylenically unsaturated group; and R and R each independently represents any desired substituent].
摘要翻译：一种可固化组合物，其不仅具有高灵敏度，而且对基材的粘附性和粘合性的热稳定性，特别是适合用作阻焊剂的可固化组合物或用激光进行直接拉伸。还提供了：具有高固化性和优异的机械性能的可固化组合物，用于生产用于例如液晶的液晶面板中的滤色器，黑矩阵，外涂层，肋和间隔物显示; 和由该组合物得到的固化物。可固化组合物含有由以下通式（I）表示的化合物[其中R 1表示任选取代的亚烷基或任选取代的亚芳基; n为0〜10的整数。四个苯环可以进一步被取代; R 2表示含有任选取代的C5或更高级烯键式不饱和基团的羰基氧基; R 3和R 4各自独立地表示任何所需的取代基]。

2. 发明申请

WO2009001885A1 感光性組成物、方法、硬化物及び液晶表示装置审中-公开
标题翻译：感光性组合物，方法，固化产品和液晶显示装置
公开(公告)号：WO2009001885A1
公开(公告)日：2008-12-31
申请号：PCT/JP2008/061618
申请日：2008-06-26
申请人：三菱化学株式会社 , 瑞穂右二 , 福井誠 , 高田芳宏 , 佐井経浩
发明人：瑞穂右二 , 福井誠 , 高田芳宏 , 佐井経浩
IPC分类号： G03F7/027 , G02B5/20 , G02F1/1335 , G02F1/1339 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/027 , G02F1/13394 , G03F7/0007
摘要：　露光量の対数〔ｌｏｇＥ（ｍＪ／ｃｍ２）〕に対して露光部の残膜率〔ｔ（％）〕をプロットした残膜率－露光量曲線における残膜率の６０％と９０％の点を結ぶ下記式（１）の直線のγ値が１５以上、且つ４５未満であることを特徴とする感光性組成物であり、液晶ディスプレイ等の液晶表示装置において、スペーサ等を形成する際に好適に用いられる感光性組成物であって、特にフォトリソグラフィー法により高さの異なる硬化物を同一材料で同時に形成する場合に、製造安定性に優れた感光性組成物を提供する。　　ｔ＝γｌｏｇＥ＋δ　…（１）［ここで、残膜率ｔ（％）は、ネガマスクパターンを介して画像形成したときに以下で表される。残膜率〔ｔ（％）〕＝｛（各露光量でのパターン高さ）／（露光量１０００ｍＪ／ｃｍ２でのパターン高さ）｝×１００］
摘要翻译：本发明提供了一种光敏组合物，其特征在于，以曝光面积百分比残留膜[t（％）]相对于曝光对数[logE（mJ / cm 2））绘制的曲线残留百分比曲线）]，通过将百分比残留膜点为60％与残留膜点的百分比连接90％形成的式（1）的值不小于15且小于45.光敏组合物适用于形成的液晶显示装置中的间隔物等。特别地，可以提供生产稳定性优异的光敏组合物，用于通过光刻法使用相同的材料同时形成具有相互不同的高度的固化产物。 t =△logE + d（1）其中，当通过负压掩模图案形成图像时，残留百分比t（％）由以下等式表示：残留百分比[t（％）] = { （曝光时的图案的高度）/（曝光时的图案的高度为1000mJ / cm 2））OE100。

3. 发明申请

WO2008013031A1 硬化性組成物、硬化物、カラーフィルタ及び液晶表示装置审中-公开
标题翻译：可固化组合物，固化对象，彩色滤光片和液晶显示
公开(公告)号：WO2008013031A1
公开(公告)日：2008-01-31
申请号：PCT/JP2007/063304
申请日：2007-07-03
申请人：三菱化学株式会社 , 福井誠 , 瑞穂右二 , 田中俊行 , 水上潤二 , 山内康嗣
发明人：福井誠 , 瑞穂右二 , 田中俊行 , 水上潤二 , 山内康嗣
IPC分类号： C09D4/00 , B05D1/26 , C08F290/08 , G02B5/20 , G02F1/1335 , G03F7/027 , G03F7/16
CPC分类号： G03F7/0007 , C09D4/00 , G02B5/201 , G02B5/223 , G02F1/133514 , G02F2202/022 , G03F7/027 , G03F7/038 , G03F7/16
摘要：ダイコート方式の塗布において、高さ均一性に優れた硬化物が得られる硬化性組成物を提供する。エチレン性不飽和化合物（Ａ成分）、光重合開始剤（Ｂ成分）、高粘度の重合性モノマー（Ｃ成分）及び溶剤（Ｄ成分）を含み、塗布液の粘度μと固形分濃度Ｃとを用いて表されるレベリング抵抗値（ＲＬ＝μ×Ｃ３）が０．０１～０．０５の範囲にあり、垂れ抵抗値（ＲＳ＝μ×Ｃ２）が０．１以上である硬化性組成物。
摘要翻译：通过模涂法施加的可固化组合物可提供具有优异的高度均匀性的固化物。可固化组合物包含烯属化合物（成分A），光聚合引发剂（B成分），高粘度的可聚合单体（成分C）和溶剂（成分D）。作为涂布液的固化性组合物具有以涂布液的粘度μ及其固体成分浓度C（RL =μOE3）为0.01〜0.05，流挂阻力（RS =μOE<2>）为0.1以上。

4. 发明申请

WO2007135962A1 硬化性組成物、硬化物、カラーフィルタ、及び液晶表示装置审中-公开
标题翻译：可固化组合物，固化产品，彩色滤光片和液晶显示装置
公开(公告)号：WO2007135962A1
公开(公告)日：2007-11-29
申请号：PCT/JP2007/060160
申请日：2007-05-17
申请人：三菱化学株式会社 , 瑞穂右二 , 福井誠 , 水上潤二 , 田中俊行
发明人：瑞穂右二 , 福井誠 , 水上潤二 , 田中俊行
IPC分类号： G03F7/031 , C08F2/50 , G02B5/20 , G02F1/1333 , G02F1/1335 , G02F1/1339 , G03F7/004 , G03F7/26
CPC分类号： G03F7/0007 , G02B5/201 , G03F7/027
摘要：　露光量の対数〔ｌｏｇＥ（ｍＪ／ｃｍ２）〕に対して露光部の残膜率〔ｔ（％）〕をプロットした残膜率－露光量曲線における残膜率の６０％と９０％の点を結ぶ下記式（１）の直線のγ値が４５以上であることを特徴とする硬化性組成物。　　ｔ＝γｌｏｇＥ＋δ　…（１）［ここで、残膜率ｔ（％）は、ネガマスクパターンを介して画像形成したときに以下で表される。残膜率〔ｔ（％）〕＝｛（各露光量でのパターン高さ）／（露光量１０００ｍＪ／ｃｍ２でのパターン高さ）｝×１００］
摘要翻译：本发明提供一种可固化组合物，其特征在于，通过绘制百分比残留膜[t（％）]制备的残留残留膜曝光曲线的百分比，将百分比残留膜中的60％点和90％点连接形成的下式（1）的直线值）]暴露部分，相对于曝光对数[logE（mJ / cm 2）]]不小于45.t =σlogE+ d（1）其中t（％）表示百分比残留膜，通过负掩模图案形成图像，由下式确定。残留百分比[t（％）] = {（每次曝光时的图案高度）/（曝光时的图案高度为1000mJ / cm 2）}×100

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