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    • 1. 发明申请
    • レジスト積層体の形成方法
    • 形成多层耐蚀性的方法
    • WO2005050320A1
    • 2005-06-02
    • PCT/JP2004/016937
    • 2004-11-15
    • ダイキン工業株式会社荒木 孝之高 明天佐藤 数行大橋 美保子岸川 洋介
    • 荒木 孝之高 明天佐藤 数行大橋 美保子岸川 洋介
    • G03F7/11
    • G03F7/0046C09D133/16G03F7/091
    •  真空紫外領域の光線を利用するフォトリソグラフイープロセスにおいて充分な反射防止効果を有し、かつ現像プロセスにおいても充分な現像特性を有するレジスト積層体を形成する。(I)基板上にフォトレジスト層(L1)を形成する工程、および(II)フォトレジスト層(L1)上に、親水性基Yを有する含フッ素重合体(A)を含むコーティング組成物を塗布することにより反射防止層(L2)を形成する工程を含むフォトレジスト積層体の形成方法であって、含フッ素重合体(A)が親水性基Yを含有する含フッ素エチレン性単量体由来の構造単位を有し、さらに該含フッ素重合体(A)が、(i)親水性基YがpKaで11以下の酸性OH基を含むこと、(ii)フッ素含有率が50質量%以上であること、および(iii)含フッ素重合体(A)100g中の親水性基Yのモル数が0.14以上であることを特徴とする。
    • 公开了一种在光刻工艺中具有足够抗反射效果的多层抗蚀剂的形成方法,其中利用了真空紫外线范围内的光,并且在显影过程中具有充分的显影特性。 用于形成多层抗蚀剂的方法包括在基板上形成光致抗蚀剂层(L1)的步骤(I)和用于在光致抗蚀剂层(L1)上形成抗反射层(L2)的步骤(II) 含有亲水性基团Y的含氟聚合物(A)的涂料组合物的特征在于,含氟聚合物(A)具有来自具有亲水性基团Y的含氟乙烯性单体的结构单元, (i)含氟聚合物(A)的亲水性基团Y含有pKa为11以下的酸性OH基,(ii)含氟聚合物(A)的氟含量不少于 50质量%以下,(iii)100g含氟聚合物(A)中的亲水性基团Y的摩尔数不小于0.14。