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    • 5. 发明申请
    • プラズマ放電処理装置及びガスバリア性フィルムの製造方法
    • 等离子体放电加工装置和气体阻隔膜的生产方法
    • WO2007026545A1
    • 2007-03-08
    • PCT/JP2006/316139
    • 2006-08-17
    • コニカミノルタホールディングス株式会社尾▲崎▼ 浩司福田 和浩有田 浩了
    • 尾▲崎▼ 浩司福田 和浩有田 浩了
    • C23C16/54C23C16/50
    • C23C16/45595C23C16/517C23C16/545H01J37/3277
    •  本発明は、表面故障を低減させ、収率が向上した高機能フィルムの製造方法及びそのための製造装置を提供する。この製造装置は、ワインダ、アンワインダ間を連続的に移送する基材の表面を、大気圧もしくはその近傍の圧力下、プラズマ放電処理するプラズマ放電処理装置であって、ワインダ、アンワインダ間にあって、前記基材の被処理面が、放電部を外部と隔てるニップローラ以外には無接触で搬送されるプラズマ放電処理装置であることを特徴とする。  また、ガスバリア性薄膜形成時の表面故障(ひび割れ故障)が低減され、高いガスバリア性を備えたガスバリア性フィルムの製造方法を提供するものであり、これは、形成されたガスバリア性フィルムのガスバリア性薄膜側の、搬送中の曲率半径を75mm以上、反対側の面の曲率半径を37.5mm以上とすることを特徴とする。
    • 一种高功能的膜生产方法减少了表面麻烦并提高了产率,并且其生产装置。 该制造装置是等离子体放电处理系统,用于在大气压或其附近的压力下在卷绕机和退绕机之间连续转印的基材的表面进行等离子体放电处理,其特征在于,待处理的表面 的基材在卷绕机和退绕机之间传递,除了将排出部分与外部隔离的夹辊之外没有任何接触。 一种阻气膜的制造方法,其特征在于,在形成阻气性薄膜并具有高气体阻隔性的情况下,减少了表面麻烦(破裂问题),其特征在于,在至少75mm的转印时,提供表面曲率的半径 所形成的气体阻隔膜的气体阻隔薄膜侧和其相对侧的至少37.5mm的表面曲率半径。