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    • 2. 发明申请
    • 成膜装置
    • 电影制作装置
    • WO2004024982A1
    • 2004-03-25
    • PCT/JP2003/011599
    • 2003-09-10
    • エア・ウォーター株式会社稲垣 徹山本 和馬横山 敬志白幡 孝洋
    • 稲垣 徹山本 和馬横山 敬志白幡 孝洋
    • C23C16/455
    • C23C16/45574
    • ガス噴出ヘッドの各ノズルからのガス噴出状態が適正化された成膜装置を提供する。 処理空間1内のガス噴出ヘッド7には、被処理物5側に面するヘッド面8に各処理ガスを独立して噴出させる噴出部9がそれぞれ多数設けられ、ガス噴出ヘッド7は、各処理ガス毎の導入側流路16A,17B,18Cをそれぞれ有し、各処理ガス毎に対応して存在する流路部材10A,11B,12Cから構成されるとともに、上記各流路部材がヘッド面8に実質的に沿う方向で分離した積層構造を呈しており、各流路部材10A,11B,12Cのノズル側流路19A,20B,21Cからそれぞれの処理ガスに対応するノズルに対して処理ガスが供給されるように構成されている。これにより、各処理ガスが独立した流路を経て被処理物5に噴射され、良好な品質の成膜が形成される。
    • 一种成膜装置,其中气体喷射头中的每个喷嘴的气体的注入状态是适当的。 处理空间(1)中的气体注入头(7)包括安装在面向处理对象(5)的头表面(8)中的多个出口部分(9),用于独立地注入单独的处理气体,流动通道(16A, 17B,18C)和对应于各个加工气体的流路部件(10A,11B,12C),所述流动通道部件提供层叠结构,其中它们在基本上沿着头部表面的方向上分离( 8),以使处理气体从流路部件(10A,11B,12C)的喷嘴侧流路(19A,20B,21C)供给到与处理气体对应的喷嘴中。 由此,各处理气体通过独立流路向处理对象物(5)注入,从而获得良好质量的成膜。