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1. 发明申请

WO2007079904A1 VERFAHREN UND VORRICHTUNG ZUR UNTERSUCHUNG DES ABBILDUNGSVERHALTENS EINER ABBILDUNGSOPTIK 审中-公开
标题翻译：方法和设备进行调查图片图表光学的行为
公开(公告)号：WO2007079904A1
公开(公告)日：2007-07-19
申请号：PCT/EP2006/012103
申请日：2006-12-15
申请人： CARL ZEISS SMS GMBH , GREIF-WÜSTENBECKER, Jörn , STRÖSSNER, Ulrich
发明人： GREIF-WÜSTENBECKER, Jörn , STRÖSSNER, Ulrich
IPC分类号： G01M11/02 , G03F7/20
CPC分类号： G01M11/0285 , G03F7/705 , G03F7/70566 , G03F7/70591 , G03F7/7085
摘要： Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Untersuchung des Abbildungsverhaltens einer ersten Abbildungsoptik, bei dem ein Objekt durch eine zweite Abbildungsoptik in eine Bildebene abgebildet wird und Licht in der Bildebene ortsaufgelöst detektiert wird, wobei sich beide Abbildungsoptiken in mindestens einer Abbildungseigenschaft unterscheiden. Es werden Werte für die Intensität und für mindestens eine zweite Eigenschaft des Lichts bestimmt, in Bildpunkten gespeichert und in einem Emulationsschritt verarbeitet, und es wird ein Emulationsbild erzeugt, welches eine Abbildung des Objektes mit der ersten Abbildungsoptik unter Berücksichtigung des Einflusses der zweiten Eigenschaft emuliert. Dabei wird eine Serie von Bildern erzeugt, indem ein Wertebereich der zweiten Eigenschaft in Teilbereiche zerlegt, jedem Teilbereich ein Bild zugeordnet, und den Bildpunkten jedes Bildes der entsprechende Intensitätswert zugeordnet wird, falls der dem Bildpunkt zugeordnete Wert der zweiten Eigenschaft in den dem jeweiligen Bild zugeordneten Teilbereich fällt. Andernfalls wird ihm ein vorgegebener Intensitätswert zugeordnet. Die Serie von Bildern wird im Emulationsschritt in eine Serie von Zwischenbildern umgewandelt. Für jedes Zwischenbild geht ein konstanter Wert der zweiten Eigenschaf in die Emulation ein, der aus dem jeweiligen Teilbereich stammt und sich von den Werten der zweiten Eigenschaft für die anderen Zwischenbilder unterscheidet. Dann werden di Zwischenbilde zum Emulationsbild kombiniert.
摘要翻译：本发明涉及一种用于检查在其中一个对象由第二成像光学系统成像在像面和光在图像平面空间分辨检测到第一成像光学装置，具有两个成像光学系统在至少一个成像特性不同的摄像行为的方法。是用于光的强度和至少一个第二特性，存储在像素和在仿真步骤处理确定的值，并产生有模仿与所述第一成像光学系统的物体的图像，考虑到第二属性的影响的仿真图像。在这种情况下，由一个范围内的第二特性分解成子区域，与图像相关联的每个子区域的值而生成的一系列图像，并与相应的强度值的每个图像的图像点相关联的，如果与相应的图像的相关联的分配给所述第二属性的像素值分区域下降。否则，预定强度值被分配给它。所述一系列图像转换成一系列的仿真步骤的中间图像。对于每一个中间图像，在所述仿真的第二天然羊的恒定值是一个来自相应的子区域，并从用于其它中间图像的第二属性的值的不同。然后加入二中间图像被组合以仿真图像。

2. 发明申请

WO2006021288A1 DIFFRAKTIVES ELEMENT ZUR POLARISATIONSTRENNUNG VON UNPOLARISIERTER ELEKTROMAGNETISCHER STRAHLUNG IM UV-BEREICH UND VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG EINES SOLCHEN DIFFRAKTIVEN ELEMENTES 审中-公开
标题翻译：在UV范围内的用于制造这样的衍射元件的非偏振电磁辐射的偏振分离和方法衍射元件
公开(公告)号：WO2006021288A1
公开(公告)日：2006-03-02
申请号：PCT/EP2005/008256
申请日：2005-07-29
申请人： CARL ZEISS SMS GMBH , SANDFUCHS, Oliver , STRÖSSNER, Ulrich , BRUNNER, Robert , RUOFF, Johannes , GREIF-WÜSTENBECKER, Jörn
发明人： SANDFUCHS, Oliver , STRÖSSNER, Ulrich , BRUNNER, Robert , RUOFF, Johannes , GREIF-WÜSTENBECKER, Jörn
IPC分类号： G02B5/30
CPC分类号： G02B27/283 , G02B5/1838 , G02B5/1876 , G02B5/188 , G02B5/3075 , G02B5/32
摘要： Es wird bereitgestellt ein diffraktives Element zur Polarisationstrennung von unpolarisierter elektromagnetischer Strahlung im UV-Bereich, mit einem für die UV-Strahlung transparenten Träger (1), der eine Vielzahl von voneinander beabstandeten, sich nicht geradlinig erstreckenden Furchen (2) aufweist, wobei der Abstand von zwei benachbarten Furchen größer als die Wellenlänge der UV-Strahlung ist, wobei das diffraktive Element zur Polarisationstrennung die zugeführte unpolarisierte Strahlung in eine erste vorbestimmte Beugungsordnung mit einem ersten von zwei zueinander orthogonalen Polarisationszuständen und eine zweite vorbestimmte Beugungsordnung mit dem zweiten der beiden orthogonalen Polarisationszuständen beugt, und wobei über die Furchentiefe (h) eingestellt ist, ob die Strahlung der ersten vorbestimmten Beugungsordnung den ersten oder zweiten Polarisationszustand aufweist.
摘要翻译：提供了一种衍射元件，以未偏振的电磁辐射的在UV区域中的偏振分离，用透明的UV辐射束（1），多个间隔开的，并没有直线状延伸的槽（2），其中所述距离的是两个相邻的槽比所述紫外线辐射的波长，大于其中用于偏振分离衍射元件，所供给的非偏振辐射转换成一个第一预定的衍射级与第一两个相互正交的偏振态的和衍射的第二预定顺序与两个正交偏振状态的第二蝴蝶结，并且其中在凹槽深度（h）被设定，如果具有所述第一或第二偏振状态的第一预定衍射级的辐射。

3. 发明申请

WO2007028553A1 VERFAHREN ZUR BESTIMMUNG DER INTENSITÄTSVERTEILUNG IN DER BILDEBENE EINER PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE 审中-公开
标题翻译：方法来确定强度分布的投射曝光系统的映像级
公开(公告)号：WO2007028553A1
公开(公告)日：2007-03-15
申请号：PCT/EP2006/008581
申请日：2006-09-02
申请人： CARL ZEISS SMS GMBH , GREIF-WÜSTENBECKER, Jörn , BÖHME, Beate , STRÖSSNER, Ulrich , TOTZECK, Michael , KAMENOV, Valdimir , DITTMANN, Olaf , GRUNER, Toralf , KRÄHMER, Daniel , GEH, Bernd
发明人： GREIF-WÜSTENBECKER, Jörn , BÖHME, Beate , STRÖSSNER, Ulrich , TOTZECK, Michael , KAMENOV, Valdimir , DITTMANN, Olaf , GRUNER, Toralf , KRÄHMER, Daniel , GEH, Bernd
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70666 , G03F7/70308
摘要： Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Bestimmung der Intensitätsverteilung in der Bildebene (6) einer Projekt ionsbelichtungsanlage, bei dem ein Abbildungssystem (7,8) mit hoher Apertur emuliert wird, wobei von einer Probe kommendes Licht mit einem Emulationsabbildungssystem auf einen ortsauflösenden Detektor abgebildet wird, sowie Anordnungen zur Durchführung dieses Verfahrens, ebenso wie die emulierten Anordnungen. Mit der Erfindung soll die Qualität der Abbildung insofern verbessert werden, als einer Apodisierung des Systems Rechnung getragen wird. Bei einem solchen Verfahren wird die komplexe Amplitudenverteilung in der Austrittpupille bestimmt, die Amplitudenverteilung mit einer vorgegebenen Apodisierungskorrektur verknüpft, und aus der geänderten Amplitudenverteilung ein Bild mit korrigierter Apodisierung berechnet .
摘要翻译：本发明涉及一种用于确定在图像平面中的强度分布（6）ionsbelichtungsanlage一个项目，其中的成像系统（7,8）模拟一个高孔，通过用仿真成像系统的分辨位置检测器上到来的样品的光成像，以及用于实现该方法，以及仿真设备的安排。通过本发明，该图像的质量被改善，从而佩戴该系统的变迹考虑。在这样的方法中，所述复数振幅分布在出射光瞳，以预定的变迹相关的幅值分布决定，并与在振幅分布的变化的校正变迹计算的图像。

4. 发明申请

WO2008025433A2 VERFAHREN UND VORRICHTUNG ZUR ORTSAUFGELÖSTEN BESTIMMUNG DER PHASE UND AMPLITUDE DES ELEKTROMAGNETISCHEN FELDES IN DER BILDEBENE EINER ABBILDUNG EINES OBJEKTES 审中-公开
标题翻译：方法和装置相位幅值电磁场的局部分辨地确定在图象电平的对象的图片
公开(公告)号：WO2008025433A2
公开(公告)日：2008-03-06
申请号：PCT/EP2007/006873
申请日：2007-08-03
申请人： CARL ZEISS SMS GMBH , PERLITZ, Sascha , WEISSENBERG, Steffen , FÖRSTER, Sandro , SCHERÜBL, Thomas , STRÖSSNER, Ulrich , GROSS, Herbert
发明人： PERLITZ, Sascha , WEISSENBERG, Steffen , FÖRSTER, Sandro , SCHERÜBL, Thomas , STRÖSSNER, Ulrich , GROSS, Herbert
IPC分类号： G01J9/00 , G02B27/46 , G03F1/00
CPC分类号： G01J9/00 , G02B27/46 , G03F1/84
摘要： Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur ortsaufgelösten Bestimmung der Phase und Amplitude des elektromagnetischen Feldes in der Bildebene einer Abbildung eines Objekts. Dabei werden Bilder erzeugt, indem das Objekt mit kohärentem Licht beleuchtet und in eine Bildebene abgebildet wird, Licht in der Bildebene ortsaufgelöst in Pixeln detektiert wird, wobei für jedes Pixel die Intensität des Lichtes bestimmt, in Bildpunkten gespeichert und die Bildpunkte einem Bild zugeordnet werden. Es wird zunächst ein erstes und dann mindestens ein weiteres Bild erzeugt, wobei die Phase und/oder die Amplitude des Lichts in vorgegebener Weise modifiziert wird und sich die Modifikation für ein jedes Bild von denen für die übrigen Bilder unterscheidet. Aus den erzeugten Bildern wird ortsaufgelöst die Phase in der Abbildung des Objekts in der Bildebene bestimmt. Die Erfindung betrifft auch eine Vorrichtung zur Umsetzung des Verfahrens. Bei einem solchen Verfahren wird die Phase und/oder die Amplitude des Lichts durch eine Ortsfrequenzfilterung in einer Pupillenebene zwischen Objekt und Bildebene modifiziert.
摘要翻译：本发明涉及一种用于相和电磁场的振幅在图像平面上的物体的图像的空间分辨的判定的方法。在这种情况下，图像由物体形成被照射相干光，并在图像平面空间分辨以像素为单位被检测到的光的像面上成像，确定光的每个像素的强度，存储在的像素，并且与图像的像素相关联。它最初是第一，然后产生至少另一张照片，其中，所述光的相位和/或幅度被以预定的方式修改，并且为每个图像的变形是从那些对其他影像不同。从所生成的图像在空间分辨的方式被确定在图像平面上的物体的图像的相位。本发明还涉及用于实现该方法的装置。在这样的方法中，光的相位和/或幅度是由空间频率滤波的对象和像面之间的光瞳面改性。

5. 发明申请

WO2009049826A1 MESSSYSTEM UND MESSVERFAHREN 审中-公开
标题翻译：测量系统和测量方法
公开(公告)号：WO2009049826A1
公开(公告)日：2009-04-23
申请号：PCT/EP2008/008565
申请日：2008-10-09
申请人： CARL ZEISS SMS GMBH , KLOSE, Gerd , STRÖSSNER, Ulrich
发明人： KLOSE, Gerd , STRÖSSNER, Ulrich
IPC分类号： G03F7/20 , G03F1/00
CPC分类号： G03F7/70775
摘要： Es wird bereitgestellt ein Messsystem mit einem entlang einer ersten Richtung verfahrbaren Tisch (2) für eine Maske (3) oder einen Wafer, einer Positionseinheit (18), die einen sich in der ersten Richtung erstreckenden Maßstab (19) und einen Abtastkopf (20), deren Relativlage in der ersten Richtung erfaßbar ist, aufweist, einem von einer quer zur ersten Richtung verlaufenden ersten Seite (13) des Tisches (2) beabstandeten Sensorkopf (21), der berührungslos den Abstand (d) zur ersten Seite (13) mißt und ein Abstandssignal ausgibt und der mit dem Abtastkopf (20) oder dem Maßstab (19) mechanisch verbunden ist, um eine entlang der ersten Richtung bewegbare Messeinheit (23) zu bilden, einem Antrieb zum Bewegen der Messeinheit (23) und einer Steuereinrichtung, die den Antrieb bei einem Verfahren des Tisches (2) entlang der ersten Richtung so ansteuert, daß der Sensorkopf (21) von der ersten Seite (13) beabstandet bleibt, und die basierend auf der dadurch bedingten Änderung der Relativlage von Maßstab (19) und Abtastkopf (20) sowie auf dem Abstandssignal die Position des Tisches (2) in der ersten Richtung bestimmt.
摘要翻译：本发明提供一种测量系统，具有用于掩模（3）或一晶片，位置单元（18）在第一方向尺度（19）和一个扫描头延伸的部分（20）沿着第一方向工作台（2）的可动其相对位置是可检测的在第一方向上包括表中的一个横向于所述第一方向的第一侧（13）中的一个（2）间隔开的传感器头（21），非接触距离（d）与第一侧（13）的措施并输出的距离信号和所述扫描头（20）或连接至所述刻度（19），机械地，以形成沿所述第一方向测量单元（23），用于移动所述测量单元（23）和控制装置的驱动的可动，其因此控制沿着第一方向的表（2）的方法中的驱动器，其从所述第一侧（13）中的传感器头（21）保持间隔，并且基于在Relati随之变化标尺（19）和扫描头（20）和所述距离信号的确定vlage在第一方向上的表（2）的位置。

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