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1. 发明申请

WO2004056698A2 PROCEDE DE REALISATION D'UNE MICRO-STRUCTURE SUSPENDUE PLANE, UTILISANT UNE COUCHE SACRIFICIELLE EN MATERIAU POLYMERE ET COMPOSANT OBTENU 审中-公开
标题翻译：使用聚合物材料和结构成分的极化层制备平面悬浮微结构的方法
公开(公告)号：WO2004056698A2
公开(公告)日：2004-07-08
申请号：PCT/FR2003/003789
申请日：2003-12-18
申请人： COMMISSARIAT A L'ENERGIE ATOMIQUE , ROBERT, Philippe , MICHEL, France , MAEDER-PACHURKA, Catherine , SILLON, Nicolas
发明人： ROBERT, Philippe , MICHEL, France , MAEDER-PACHURKA, Catherine , SILLON, Nicolas
IPC分类号： B81C1/00
CPC分类号： B81C1/00611 , B81C2201/0108 , B81C2201/0125 , H01L2924/01082
摘要： Le procédé comporte successivement un dépôt d'une couche sacrificielle (2) en matériau polymère, un dépôt, sur au moins une partie du substrat (1) et de la face avant de la couche sacrificielle (2), d'une couche d'encastrement (6), dont l'épaisseur est supérieure à celle de la couche sacrificielle (2) et une planarisation de manière à ce que les faces avant de la couche sacrificielle (2) et de la couche d'encastrement (6) forment une surface plane commune. Une couche de formation (3) d'une structure suspendue (5) est déposée sur la face avant de la surface plane commune. La planarisation peut comporter un polissage mécano-chimique et une gravure de la couche d'encastrement (6). Une gravure de la couche sacrificielle (2) peut être réalisée au moyen d'un masque, formé sur la face avant d'une couche en matériau polymère, éliminé au cours de l'étape de planarisation.
摘要翻译：本发明涉及一种方法，其包括依次沉积聚合物牺牲层（2），在基底（1）的至少一部分和牺牲层（2）的前表面上沉积嵌入层（6）厚度大于牺牲层（2）的厚度，并且进行平面化，使得牺牲层（2）和嵌入层（6）的前表面形成共同的平面。悬挂结构（5）的形成层（3）沉积在公共平面的前表面上。平面化可以包括化学机械抛光和蚀刻嵌入层（6）。牺牲层（2）的蚀刻可以通过形成在聚合物材料层的前表面上的掩模进行，在平坦化步骤期间被去除。

2. 发明申请

WO1998029720A1 METHOD FOR PRODUCING A SUSPENDED ELEMENT IN A MICRO-MACHINED STRUCTURE 审中-公开
标题翻译：在微机械结构中生产悬挂元件的方法
公开(公告)号：WO1998029720A1
公开(公告)日：1998-07-09
申请号：PCT/FR1997002437
申请日：1997-12-29
申请人： COMMISSARIAT A L'ENERGIE ATOMIQUE , ROBERT, Philippe , MICHEL, France , GRANGE, Hubert
发明人： COMMISSARIAT A L'ENERGIE ATOMIQUE
IPC分类号： G01L09/00
CPC分类号： G01L9/0042
摘要： The invention concerns a method for producing at least a suspended element (7), by micro-machining, using an etching technique, of a structure comprising a substrate (1) successively covered with a first so-called blocking layer (2), produced in a first material, and with a second layer (3) produced in a second material and in which the suspended element (7) is shaped. The method uses a dry etching technique using a gas whose selectivity enables the etching of the second layer (3) without affecting the blocking layer (2), under conditions established for an anisotropic etching of the second material, the etching being carried out according to a first phase for delimiting the suspended element (7) up to the level of the blocking layer (2) and being continued according to a second phase during which the release of the suspended element (7) results from the etching of the superficial layer of the suspended element delimited during the first phase and which is adjacent to the blocking layer (2).
摘要翻译：本发明涉及一种用于通过使用蚀刻技术通过微加工来生产至少悬浮元件（7）的方法，所述方法包括依次被第一所谓的阻挡层（2）覆盖的衬底（1）的结构，所述衬底在第一材料中，并且第二层（3）以第二材料制成并且悬挂元件（7）成形。该方法使用使用气体的干法蚀刻技术，其选择性使得能够在不影响阻挡层（2）的情况下蚀刻第二层（2），在为第二材料的各向异性蚀刻建立的条件下，根据用于将所述悬浮元件（7）分隔直到所述阻挡层（2）的水平并且根据第二阶段继续的第一阶段，在所述第二阶段期间所述悬浮元件（7）的释放是由所述悬浮元件在所述第一阶段界定并且与所述阻挡层（2）相邻。

3. 发明申请

WO2004056698A3 METHOD FOR MAKING A PLANAR SUSPENDED MICROSTRUCTURE, USING A SACRIFICIAL LAYER OF POLYMER MATERIAL AND RESULTING COMPONENT 审中-公开
标题翻译：使用聚合物材料的牺牲层和导致组分制备平面悬挂微结构的方法
公开(公告)号：WO2004056698A3
公开(公告)日：2004-11-11
申请号：PCT/FR0303789
申请日：2003-12-18
申请人： COMMISSARIAT ENERGIE ATOMIQUE , ROBERT PHILIPPE , MICHEL FRANCE , MAEDER-PACHURKA CATHERINE , SILLON NICOLAS
发明人： ROBERT PHILIPPE , MICHEL FRANCE , MAEDER-PACHURKA CATHERINE , SILLON NICOLAS
IPC分类号： B81B3/00 , B81C1/00
CPC分类号： B81C1/00611 , B81C2201/0108 , B81C2201/0125 , H01L2924/01082
摘要： The invention concerns a method which consists in successively depositing a polymeric sacrificial layer (2), depositing, on at least part of the substrate (1) and the front surface of the sacrificial layer (2), an embedding layer (6), with a thickness greater than that of the sacrificial layer (2) and performing planarization such that the front surfaces of the sacrificial layer (2) and of the embedding layer (6) form a common planar surface. A forming layer (3) of a suspended structure (5) is deposited on the front face of the common planar surface. The planarization can include chemical mechanical polishing and etching the embedding layer (6). Etching the sacrificial layer (2) can be performed by means of a mask, formed on the front surface of a polymer material layer, removed during the planarization step.
摘要翻译：本发明涉及一种方法，其包括连续地沉积聚合物牺牲层（2），在基底（1）的至少一部分和牺牲层（2）的前表面上沉积嵌入层（6），其中厚度大于所述牺牲层（2）的厚度并且执行平坦化，使得所述牺牲层（2）和所述嵌入层（6）的所述前表面形成共同的平坦表面。悬浮结构（5）的形成层（3）沉积在共同平面的正面上。平面化可以包括化学机械抛光和蚀刻嵌入层（6）。蚀刻牺牲层（2）可以通过在平坦化步骤期间去除的聚合物材料层的前表面上形成的掩模来执行。

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