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    • 2. 发明申请
    • VERFAHREN ZUM SICHEREN VERMEIDEN VON RÜCKSTRÖMUNG BEI DER FÖRDERUNG EINER FLÜSSIGKEIT
    • 方法安全防止倒流在促进液体
    • WO2009156304A1
    • 2009-12-30
    • PCT/EP2009/057462
    • 2009-06-16
    • BASF SEBORGEL, FranzKRAUSE, AlfredKREITSCHMANN, MirkoMEIER, AntonPAPE, Frank-FriedrichREIF, WolfgangSALLA, Michael
    • BORGEL, FranzKRAUSE, AlfredKREITSCHMANN, MirkoMEIER, AntonPAPE, Frank-FriedrichREIF, WolfgangSALLA, Michael
    • F16K15/00F17D1/14
    • F17D1/14F16K15/00Y10T137/0396
    • Vorgeschlagen wird ein Verfahren zum sicheren Vermeiden von Rückströmung bei der Förderung einer Flüssigkeit unter Druck über eine Förderleitung (1), in der eine Absperreinrichtung (2) mit Differenzdruckschaltung angeordnet ist, in einem Behälter (3), der unter Druck steht, und der die zu fördernde und/oder eine andere Flüssigkeit enthält, das dadurch gekennzeichnet ist, dass in der Förderleitung (1) in Förderrichtung stromaufwärts der Absperreinrichtung (2) ein Druckspeicher (4) angeordnet ist, der mit der zu fördernden Flüssigkeit bis auf ein bestimmtes Niveau und oberhalb des Flüssigkeitsspiegels, in direktem Kontakt mit der zu fördernden Flüssigkeit, mit einem Inertgas gefüllt ist, wobei das Inertgas im Druckspeicher (4) gegenüber dem zu befüllenden Behälter (3) unter einem Überdruck und einer Menge vorgesehen ist, die so ausgelegt sind, dass bei einem Abfall des Druckes in der Förderleitung (1) das Inertgas einen positiven Differenzdruck in der Förderleitung (1) zu dem Behälter (3) über einen Zeitraum gewährleistet, der mindestens so lange ist wie die Reaktionszeit der Absperreinrichtung (2), und dass die Absperreinrichtung (2) eine Entleerleitung (6) mit Entleerarmatur (7) aufweist.
    • 提出了一种方法,以确保在压力下在促进流体的逆流的可靠避免经由进料管线(1),其中,一个关闭装置(2)布置有一个压力差电路,在容器(3),其是在压力下,并且 蓄压器(4)被布置成被输送和/或另一种液体,其特征在于,在所述输送线(1)上游的关闭装置的输送方向(2)连接到所述液体被输送到一定水平,并 以上的液面填充在与所述流体直接接触而被递送,用惰性气体,其中惰性气体是在蓄压器(4)相对于所述接收容器(3)的计示压力下,并提供了一种量,其被设计为使得 在压力在输送管道的下降(1),在Förderleitu惰性气体正压差 纳克(1)到容器(3)在一段时间保证至少只要关闭装置(2)的响应时间,并且所述阻挡装置(2)包括的排空管(6)与Entleerarmatur(7)。
    • 3. 发明申请
    • POLYCONDENSATES CONTAINING TETRAMETHYLPIPERIDINE GROUPS
    • 四甲基哌啶缩聚物含
    • WO1997049751A1
    • 1997-12-31
    • PCT/EP1997003043
    • 1997-06-12
    • BASF AKTIENGESELLSCHAFTKRAUSE, AlfredAUMÜLLER, AlexanderTRAUTH, HubertLANGGUTH, Ernst
    • BASF AKTIENGESELLSCHAFT
    • C08G63/685
    • C08K5/3435C07D211/58C08G63/6858C08G73/02C08G75/26C08L79/04C09D7/65C09K15/30
    • Polycondensates containing tetramethylpiperidine groups of general formula (I) in which the variables have the following meaning: R , R are hydrogen, C1-C12-alkyl, C2-C4-hydroxyalkyl, C1-C20-alkoxy, oxyl, hydroxyl, allyl, benzyl, formyl or a residue of formula (a), R is hydroxy, C1-C12-alkoxy, C3-C8-cycloalkoxy, C3-C8-cycloalkylmethoxy, phenoxy or a residue (b), R is hydrogen or a residue (c), R is -COOR , -COR , -CONR R or cyano, R is an R residue, hydrogen or C1-C12-alkyl, R is hydrogen, C1-C12-alkyl, C3-C8-cycloalkyl, C3-C8-cycloalkylmethyl or phenyl, R is hydrogen, C1-C8-alkyl, C5-C8-cycloalkyl, C3-C5-alkenyl or phenyl, which can be substituted by one to three methyl or ethyl residues, C1-C4-alkoxy residues, C1-C4-alkoxycarbonyl residues, halogens, hydroxy groups, phenoxy groups, phenyl groups, tolyl residues or xylyl residues, R , R are hydrogen, C1-C12-alkyl, C5-C8-cycloalkyl or phenyl, which can be substituted by one to three methyl or ethyl residues, C1-C4-alkoxy residues, C1-C4-alkoxycarbonyl residues, halogens, hydroxy groups, phenoxy groups, phenyl groups, tolyl residues or xylyl residues, X is oxygen, sulphur or -NR -, A is C2-C30-alkylene, wherein non-adjacent CH2 groups can be replaced by oxygen, C3-C8-cycloalkylene, C3-C8-cycloalkyl-bismethylene, phenylene, biphenylene or the residues (d), (e), (f), (g) or (h), (i) or (j) in which n means 2 to 12, m means 1 to 2 000 and o means 2 or 3.
    • 含有通式(I),其中各变量具有以下含义的缩聚物四甲基哌啶,R <1>,R <2>为氢,C1-C12烷基,C2-C4羟基烷基,C1-C20烷氧基,氧基, 羟基,烯丙基,苄基,甲酰基或基团的式(a)中,R <3>是羟基,C1-C12烷氧基,C3-C8-环烷氧基,C3-C8-cycloalkylmethoxy,苯氧基或基团(b)中,R < 4>是氢或基团(c)中,R <5> -COOR <8>,-COR <9>,-CONR <9> - [R <10>或氰基,R <6>是基团R <5>氢 或C 1 -C 12烷基,R <7>是氢,C1-C12烷基,C3-C8环烷基,C3-C8环烷基甲基或苯基,R <8>是氢,C1-C8烷基,C5-C8环烷基 ,C3-C5链烯基或苯基,其可以被一个1-3个甲基或乙基,C1-C4烷氧基,C1-C4烷氧羰基,卤素,羟基,苯氧基,苯基,甲苯基或二甲苯基,R <9> ,R <10>为氢,C1-C12烷基,C5-C8环烷基或苯基,其被一至三个甲基或乙基 C1-C4烷氧基,C1-C4烷氧羰基,卤素,羟基,苯氧基,苯基,甲苯基或二甲苯基可被取代,X为氧,硫或-NR <9> - ,A C2-C30亚烷基,其中不相邻的CH 2 基团可以被氧替代,C3-C8亚环烷基,C3-C8环烷基二亚甲基,亚苯基,亚联苯基或基团(D),(C),(F),(G)或(h),(I) 或(j),其中n是2〜12,m为1〜2000和o是2或3。