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1. 发明申请

WO2006058670A2 METHOD AND DEVICE FOR COOLING AND/OR CONDITIONING SUBSTRATE DISKS COMPRISING AN INNER HOLE 审中-公开
标题翻译：方法和装置进行冷却和/或调理AN内孔HAVING基盘
公开(公告)号：WO2006058670A2
公开(公告)日：2006-06-08
申请号：PCT/EP2005012651
申请日：2005-11-26
申请人： STEAG HAMA TECH AG , BARTSCH STEFAN , SAEMANN MARTIN , HERRMANN STEFAN , HUPP ALEXANDER , RIESEWEBER TILMANN , KERKMANN MATTHIAS
发明人： BARTSCH STEFAN , SAEMANN MARTIN , HERRMANN STEFAN , HUPP ALEXANDER , RIESEWEBER TILMANN , KERKMANN MATTHIAS
IPC分类号： G11B7/26 , B65G51/03
CPC分类号： G11B23/00 , G11B7/26 , G11B33/142 , H01L21/677
摘要： The invention relates to a method and to a device for cooling and/or conditioning substrate disks comprising an inner hole, for producing optical data carriers, wherein a maintaining pin is introduced into the inner hole of the substrate disk and a gas flow is directed to at least one lower side of the substrate disk in order to maintain, in a suspended manner, the gas cushion which is produced by the gas flow during cooling and/or conditioning. At least one gas flow which is directed to the substrate disk and which offsets the substrate disk in rotation is provided and the maintaining pin is guided in a lateral manner.
摘要翻译：用于冷却和/或具有用于生产光盘的衬底晶片的内孔的调节方法和装置，保持销在插入或在衬底晶片和气流的内孔被引导到至少在衬底晶片的底部表面，以便保持冷却和/或调节浮动通过气流气垫产生的信号，其特征在于，一个引导到衬底晶片气流被至少设置在所述偏移量，该基片盘在旋转，同时保持销提供横向导引。

2. 发明申请

WO2006058672A1 VERFAHREN UND VORRICHTUNG ZUM BEHANDELN VON EIN INNENLOCH AUFWEISENDEN SUBSTRATSCHEIBEN 审中-公开
标题翻译：方法和装置用于治疗内孔HAVING基盘
公开(公告)号：WO2006058672A1
公开(公告)日：2006-06-08
申请号：PCT/EP2005/012657
申请日：2005-11-26
申请人： STEAG HAMA TECH AG , RIESEWEBER, Tilmann , KERKMANN, Matthias
发明人： RIESEWEBER, Tilmann , KERKMANN, Matthias
IPC分类号： G11B7/26 , B65G51/03
CPC分类号： G11B7/26
摘要： Verfahren und Vorrichtung zum Behandeln von ein Innenloch aufweisenden Substratscheiben für die Herstellung optischer Datenträger, bei dem bzw. bei der die Substratscheiben im Normalbetrieb wenigstens einen Kühlprozess und/oder einen Konditionierprozess durchlaufen und nachfolgend im Wesentlichen direkt einem weiteren Prozess zugeführt werden, wobei die Substratscheiben bei einem Alternativbetrieb nach einem Durchlauf des Kühlprozesses und/oder des Konditionierprozesses in einem Zwischenspeicher aufgenommen werden und bevor sie dem weiteren Prozess zugeführt werden den Kühlprozess und/oder den Konditionierprozess nochmals durchlaufen.
摘要翻译：用于治疗患有用于生产光盘的其中或在其中通过至少一个冷却过程和/或调理过程和正常操作期间，衬底晶片基本上随后直接送入另一个进程衬底晶片的内孔，其特征在于，该基片盘的方法和装置冷却过程和/或调节过程的一个通道后的替代操作在缓冲存储器中，并通过冷却过程和/或调理过程中被供给到后续工艺之前再次被接收。

3. 发明申请

WO2005112021A1 VORRICHTUNG ZUM BESCHICHTEN VON SUBSTRATEN FÜR OPTISCHE DATENTRÄGER 审中-公开
标题翻译： DEVICE包覆基质的光盘光学
公开(公告)号：WO2005112021A1
公开(公告)日：2005-11-24
申请号：PCT/EP2005/003854
申请日：2005-04-13
申请人： STEAG HAMATECH AG , HARTFELDER, Timo , KERKMANN, Matthias , WAGNER, Roland
发明人： HARTFELDER, Timo , KERKMANN, Matthias , WAGNER, Roland
IPC分类号： G11B7/26
CPC分类号： G11B7/266 , B05C11/08 , B05C11/1039
摘要： Um die Umrüstzeiten bei der Verwendung unterschiedlicher Medien zum Beschichten von Substraten für optische Datenträger zu reduzieren, ist eine Vorrichtung zum Beschichten von Substraten für optische Datenträger vorgesehen. Die Vorrichtung besitzt wenigstens eine Einheit zum Aufbringen wenigstens zweier unterschiedlicher Medien, einen Drehteller zum Aufnehmen und Drehen eines Substrats um eine sich senkrecht zu einer zu beschichtenden Oberfläche des Substrats erstreckenden Drehachse und einen Auffangbehälter zum Aufnehmen von von dem Substrat abgeschleudertem Medium, wobei der Auffangbehälter eine Ablauföffnung zum Ableiten des Mediums aufweist, sowie wenigstens zwei getrennte Medienabläufe unterhalb des Auffangbehälters, wobei die Position der Ablauföffnung des Auffangbehälters in Abhängigkeit von dem verwendeten Medium derart veränderbar ist, dass die Ablauföffnung mit jeweils einem der Medienabläufe ausgerichtet ist, während der jeweils andere Medienablauf durch den Auffangbehälter abgedeckt ist.
摘要翻译：为了减少在使用不同的媒体为用于光盘涂层基板的转换时间，提供了一种用于光学数据载体基材的涂层的装置。该装置具有至少一个单元，其用于将至少两个不同的媒体，转盘用于保持和一个约垂直的基板的表面旋转到待涂覆的基材的延伸枢转轴线和用于接收abgeschleudertem衬底介质的容器，所述收集容器内的具有用于排出介质以及排水开口的至少两个单独的媒体收集容器，由此根据所使用的介质上的收集容器的出口开口的位置可以被改变，使得与所述媒体流的一个排放口对准下方流动，而另一介质流过收集容器覆盖。

4. 发明申请

WO2006058670A3 VERFAHREN UND VORRICHTUNG ZUM KÜHLEN UND/ODER KONDITIONIEREN VON EIN INNENLOCH AUFWEISENDEN SUBSTRATSCHEIBEN 审中-公开
公开(公告)号：WO2006058670A3
公开(公告)日：2006-06-08
申请号：PCT/EP2005/012651
申请日：2005-11-26
申请人： STEAG HAMA TECH AG , BARTSCH, Stefan , SÄMANN, Martin , HERRMANN, Stefan , HUPP, Alexander , RIESEWEBER, Tilmann , KERKMANN, Matthias
发明人： BARTSCH, Stefan , SÄMANN, Martin , HERRMANN, Stefan , HUPP, Alexander , RIESEWEBER, Tilmann , KERKMANN, Matthias
IPC分类号： G11B7/26 , B65G51/03
摘要： Verfahren und Vorrichtung zum Kühlen und/oder Konditionieren von ein Innenloch aufweisenden Substratscheiben für die Herstellung optischer Datenträger, bei dem bzw. bei der ein Haltestift (8) in das Innenloch einer Substratscheibe (20) eingeführt und eine Gasströmung auf wenigstens eine Unterseite der Substratscheibe gelenkt wird, um sie während der Kühlung und/oder Konditionierung über ein durch die Gasströmung erzeugtes Gaskissen schwebend zu halten, wobei wenigstens ein auf die Substratscheibe gerichteter Gasstrom vorgesehen wird, der die Substratscheibe in Rotation versetzt, während der Haltestift eine seitliche Führung vorsieht.

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