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    • 3. 发明申请
    • METHOD AND DEVICE FOR ANALYSING A HIGHLY DYNAMIC WAVEFRONT
    • 用于分析高动态波形的方法和装置
    • WO0042401A3
    • 2001-08-16
    • PCT/FR0000063
    • 2000-01-14
    • IMAGINE OPTICLEVECQ XAVIER JEAN FRANCOISBUCOURT SAMUEL HENRI
    • LEVECQ XAVIER JEAN-FRANCOISBUCOURT SAMUEL HENRI
    • G01M11/00G01J9/00
    • G01J9/00
    • The invention concerns the analysis of an optical wavefront. The inventive device comprises in particular an array (ML) of micro-lenses (Li), a detector (DET) and signal processing means. Each micro-lens (Li) defines a sub-soft aperture (SPi), and focuses an elementary surface of said wavefront, intercepted by said sub-soft aperture, to form a spot (Ti) on the detector. For each sub-soft aperture (SPi), a zone (Zi) of assumed localisation of the spot is defined. The processing means enable to establish a measurement file associating with each sub-soft aperture the position of said spot. The array structure (ML) has one or several local variations. By comparing the contribution derived therefrom taken from the measurement file, with their contribution derived from a reference file, the shift between the sub-soft aperture wherefrom is derived a detected spot and the sub-soft aperture which defines the assumed localisation zone wherein the spot is located is measured.
    • 本发明涉及光波前的分析。 本发明的装置特别包括微透镜(Li)的阵列(ML),检测器(DET)和信号处理装置。 每个微透镜(Li)限定子软孔(SPi),并且聚焦由所述子软孔截取的所述波前的基本表面,以在检测器上形成点(Ti)。 对于每个子软孔径(SPi),定义了点的假定定位区域(Zi)。 处理装置使得能够建立与每个子软孔相关联的所述点的位置的测量文件。 阵列结构(ML)具有一个或多个局部变化。 通过将从测量文件获得的贡献与从参考文件得到的贡献进行比较,从其导出的子软孔径之间的偏移导致检测到的点和限定假定的定位区域的子软孔,其中该点 被测量。
    • 5. 发明申请
    • DISPOSITIF D'ANALYSE D'UN FRONT D'ONDE A RESOLUTION AMELIOREE
    • 用于分析增强分辨率的WAVEFRONT的设备
    • WO2003006940A1
    • 2003-01-23
    • PCT/FR2002/002495
    • 2002-07-12
    • IMAGINE OPTICLEVECQ, Xavier, Jean-FrançoisHARMS, Fabrice
    • LEVECQ, Xavier, Jean-FrançoisHARMS, Fabrice
    • G01J9/00
    • G01J9/00
    • Dispositif d'analyse d'un front d'onde à résolution améliorée. L'invention concerne un dispositif d'analyse d'un front d'onde, de type Hartmann ou Shack-Hartmann, comprenant notamment un ensemble d'éléments d'échantillonnage agencés dans un plan d'analyse, et formant autant de sous-pupilles permettant l'échantillonnage du front d'onde incident, et un plan de diffraction dans lequel sont analysées les taches de diffraction des différentes sous-pupilles éclairées par le front d'onde incident. Selon l'invention, la forme de chaque sous-pupille est telle que la figure de diffraction associée présente dans le plan de diffraction un ou plusieurs axes privilégiés, et les sous-pupilles sont orientées dans le plan d'analyse de telle sorte que le ou les axes privilégiés de la figure de diffraction d'une sous-pupille sont décalés par rapport aux axes privilégiés des figures de diffraction des sous-pupilles voisines, permettant ainsi de limiter le chevauchement des figures de diffraction.
    • 本发明涉及用于分析具有增强分辨率的波前分析装置。 Hartmann或Shack-Hartmann型的本发明的波前分析装置特别包括布置在分析平面中的一组采样元件,并且形成用于对入射波前进行采样的多个微透镜,以及衍射平面,其中分析了 由入射波前照射的不同微透镜的透气光盘。 本发明的特征在于,每个微透镜的形状使得相关联的衍射图在衍射平面中具有一个或多个优先斧,并且微透镜在分析平面中定向,使得优选的轴 微透镜的衍射图的相对于相邻微透镜的衍射图的优先轴偏移,从而能够限制衍射图的重叠。
    • 6. 发明申请
    • SYSTEME ET METHODE DE MICROSCOPIE PAR ECLAIRAGE PAR LA TRANCHE
    • EDGE-ILLUMINATION MICROSCOPY的系统和方法
    • WO2015028493A1
    • 2015-03-05
    • PCT/EP2014/068139
    • 2014-08-27
    • IMAGINE OPTICCENTRE NATIONAL DE LA RECHERCHE SCIENTIFIQUE-CNRSUNIVERSITÉ DE BORDEAUX SEGALEN
    • LEVECQ, XavierVIASNOFF, VirgileSIBARITA, Jean-BaptisteSTUDER, VincentGALLAND, Rémi
    • G02B21/06
    • G02B21/06G01N21/6428G01N21/6458G01N2201/06113G01N2201/0638G01N2201/10G02B21/16G02B21/241G02B21/361G02B27/0068
    • Selon un aspect, l'invention concerne une méthode de microscopie d'un échantillon épais agencé sur un support d'échantillon, avec illumination par la tranche de l'échantillon. La méthode comprend notamment l'émission d'au moins un faisceau d'illumination (1), la formation à partir du faisceau d'illumination d'une surface d'illumination, la focalisation de la surface d'illumination dans l'échantillon au moyen d'un objectif de microscope (120) et la déflexion de la surface d'illumination issue de l'objectif de microscope permettant la formation d'une surface d'illumination transverse, située dans un plan sensiblement perpendiculaire à l'axe optique de l'objectif de microscope. La méthode comprend en outre la formation, au moyen dudit objectif de microscope (120), de l'image d'une zone de l'échantillon éclairée par la surface d'illumination transverse sur une surface de détection (131) d'un dispositif de détection (130), le balayage du faisceau d'illumination permettant un déplacement de la surface d'illumination transverse le long de l'axe optique de l'objectif de microscope et la superposition par des moyens de mise au point comprenant des moyens distincts des moyens de déplacement axial relatif de l'objectif de microscope et de l'échantillon, de la surface d'imagerie objet et de la surface d'illumination transverse.
    • 根据一个方面,本发明涉及一种用样品的边缘照明布置在样品载体上的厚样品的显微镜检查方法。 特别地,该方法包括发射至少一个照明光束(1),从照明光束形成照明表面,借助于显微镜(120)将照明表面聚焦在样品中,并使照明表面起始 从显微镜透镜,以形成横向照明表面,位于基本上垂直于显微镜镜片的光轴的平面内。 该方法还包括通过所述显微镜(120)形成由检测装置(130)的检测表面(131)上的横向照明表面照射的样品的区域的图像,扫描照明光束, 允许横向照明表面沿着显微镜透镜的光轴移动,并且通过聚焦装置叠加物体成像表面和横向照明表面,聚焦装置包括与用于显微镜镜片和样品的相对轴向运动的装置分离的装置。
    • 7. 发明申请
    • MÉTHODE ET DISPOSITIF OPTIQUE POUR LA LOCALISATION D'UNE PARTICULE EN SUPER RÉSOLUTION
    • 用于粒子超分辨率定位的方法和光学装置
    • WO2013010859A1
    • 2013-01-24
    • PCT/EP2012/063511
    • 2012-07-10
    • IMAGINE OPTICLEVECQ, XavierANDILLA, Jordi
    • LEVECQ, XavierANDILLA, Jordi
    • G02B21/00G02B26/06G01N21/00G01N21/64
    • G02B21/0004G01N21/6458G02B26/06G02B27/58
    • Selon un aspect, l'invention concerne une méthode pour la localisation tridimensionnelle en microscopie de super résolution d'une ou plusieurs particule(s) émettrices (101) comprenant : La formation d'au moins une image de ladite particule émettrice dans un plan de détection (111) d'un détecteur (110) au moyen d'un système d'imagerie de microscopie (121, 123, 124, 125); la correction au moyen d'un dispositif (150) de modulation de front d'onde d'au moins une partie des défauts optiques entre ladite particule émettrice et ledit plan de détection et l'introduction par ledit dispositif de modulation de front d'onde d'une déformation du front de l'onde émise par ladite particule émettrice, permettant d'introduire une relation bijective entre la forme de l'image de ladite particule émettrice dans le plan de détection et la position axiale de ladite particule émettrice par rapport à un plan objet, conjugué optiquement du plan de détection par le système d'imagerie microscopique, dans une plage donnée de ladite position axiale de la particule, ladite déformation étant contrôlée par des moyens de commande du dispositif de modulation du front d'onde.
    • 根据一个方面,本发明涉及通过超分辨率显微镜对一个或多个发射粒子(101)进行三维定位的方法,包括:在检测平面(111)中形成所述发射粒子的至少一个图像 )通过显微镜成像系统(121,123,124,125)检测检测器(110); 通过波前调制装置(150)校正所述发射粒子和所述检测平面之间的至少一些光学缺陷,并且由所述波前调制装置引入由所述发射粒子发射的波前的变形,使得可以 在给定的位置上引入在检测平面中的所述发射粒子的图像的形状与所述发射粒子相对于通过显微镜成像系统与检测平面光学组合的物平面的轴向位置之间的双射关系 粒子的所述轴向位置的范围,所述变形通过波前调制装置的控制来控制。
    • 10. 发明申请
    • PROCEDES ET SYSTEMES POUR L'IMAGERIE DE CONTRASTE PHASE
    • WO2020157263A1
    • 2020-08-06
    • PCT/EP2020/052401
    • 2020-01-31
    • IMAGINE OPTIC
    • LEVECQ, XavierHARMS, Fabrice
    • G01N23/041
    • Selon un aspect, la présente description a pour objet un procédé d'imagerie de contraste de phase d'un objet comprenant : l'émission, au moyen d'une source de rayons X, d'un faisceau d'illumination; l'envoi dudit faisceau d'illumination vers un détecteur (230) comprenant un agencement bidimensionnel de détecteurs élémentaires (232) identiques, lesdits détecteurs élémentaires formant une pluralité de groupes (234) de détecteurs élémentaires juxtaposés, chaque groupe comprenant quatre détecteurs élémentaires agencés en carré; le positionnement d'au moins un premier masque (220) entre ladite source et le détecteur, le premier masque comprenant un arrangement bidimensionnel de premiers éléments (222) opaques dans une bande spectrale utile desdits rayons X, de formes et de dimensions données telles que l'ombre projetée (224) de chaque premier élément opaque éclairé par ledit faisceau d'illumination recouvre partiellement chacun des quatre détecteurs élémentaires d'un groupe de détecteurs élémentaires; la formation d'une image de contraste de phase d'un objet d'intérêt agencé à proximité dudit premier masque, la formation de ladite image comprenant l'acquisition d'une pluralité d'éléments d'image associés chacun à un groupe de ladite pluralité de groupes de détecteurs élémentaires, l'acquisition d'un élément d'image comprenant la mesure du déplacement de l'ombre projetée d'un premier élément opaque sur ledit groupe de détecteurs élémentaires.