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    • 5. 发明申请
    • VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG EINES OPTISCHEN BAUTEILS MITTELS OBERLÄCHENSTRUKTURIERENDER LASERBEARBEITUNG
    • 方法制造光学组件中使用激光加工OBERLÄCHENSTRUKTURIERENDER
    • WO2005093470A1
    • 2005-10-06
    • PCT/EP2005/003134
    • 2005-03-24
    • LASER-LABORATORIUM GÖTTINGEN E.V.FRAUNHOFER-GESELLSCHAFT ZUR FÖRDERUNG DER ANGEWANDTEN FORSCHUNG E. V.IHLEMANN, JürgenSCHULZ-RUTHENBERG, MalteHEBER, Jörg
    • IHLEMANN, JürgenSCHULZ-RUTHENBERG, MalteHEBER, Jörg
    • G02B5/18
    • C03C23/0025B23K26/009B23K26/0661B23K26/18
    • Verfahren zur Herstellung eines optischen Bauteils, Beispielweise eines vierstufigen diffraktiven Phasenelements (6), für elektromagnetische Strahlung mittels Laserbearbeitung, bei dem die Anwendungs-Wellenlänge der zur Anwendung vorgesehenen elektromagnetischen Strahlung unabhängig von der Bearbeitungs­Wellenlänge der Laserstrahlung wählbar ist, mit dem ein- und mehrstufige Profile an dem Bauteil erzeugbar sind, und das flexibel an verschiedenartigen Bauteilen wahlweise mit vorder- und/oder rückseitiger Bearbeitung anwendbar ist, wobei zur Erzeugung eines abgestuften Profils (8) des Bauteils (6) ein Bearbeitungszyklus mehrfach durchlaufen wird, der jeweils aus einem Depositionsschritt, bei dem eine Absorptionsschicht (2, 2', 2"), die in einem Rohzustand den Bearbeitungs-Wellenängenbereich absorbiert, auf einen für den Bearbeitungs-Wellenängen bereich transparenten Substratkörper (1) aufgebracht wird, und aus einem Ablationsschritt, bei dem die aufgebrachte Absorptionsschicht (2, 2', 2") an den bestrahlten Stellen wenigstens über einen Teil der Schichtdicke ablatiert wird, besteht, und dass mindestens einmal ein Materialumwandlungsschritt durchgeführt wird, bei dem das erzeugte Profil (8) in einen für den Anwendungs­-Wellenlängenbereich transparenten Endzustand umgewandelt wird.
    • 一种用于制造光学元件,例如一个四步衍射相位元件(6)用于将电磁辐射通过激光加工的手段,其中的指定用于使用电磁辐射应用波长是独立选择的激光辐射的工作波长的,与单级和多级简档处理 是在能够产生部件,以及不同类型的组件可以应用于任一与前和/或后处理的柔性,由此,以产生成分(6),一个处理循环被重复几次的阶梯式轮廓(8),其中每个包括一个沉积步骤, 其中的吸收层(2,2”,2“),其吸收加工Wellenängenbereich在原始状态,其中是透明的加工Wellenängen基板主体的区域(1)被施加,和消融步骤,其中所施加的Absorptionsschich T(2,2”,2“)是在照射区域在层厚度的至少一部分消融,以及在至少一次,在透明生成的简档(8)一个用于应用波长范围内进行的材料转化步骤, 最终状态被转换。