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1. 发明申请

WO2007085398A3 METHOD FOR TEMPERATURE MANIPULATION OF A MELT 审中-公开
标题翻译：法温度的影响熔体
公开(公告)号：WO2007085398A3
公开(公告)日：2007-10-18
申请号：PCT/EP2007000509
申请日：2007-01-22
申请人： SCHOTT AG , GROSS ANDREAS , ROEMER HILDEGARD , GREULICH-HICKMANN NORBERT , RAEKE GUIDO , WEIDMANN GUENTER , STELLE THOMAS , OHMSTEDE VOLKER , JOST WOLFGANG
发明人： GROSS ANDREAS , ROEMER HILDEGARD , GREULICH-HICKMANN NORBERT , RAEKE GUIDO , WEIDMANN GUENTER , STELLE THOMAS , OHMSTEDE VOLKER , JOST WOLFGANG
IPC分类号： C03B5/44 , C03B5/03 , C03B5/182 , C03B5/185 , C03B5/225 , F27D1/12 , F27D11/04 , H05B3/03
CPC分类号： C03B5/44 , C03B5/03 , C03B5/182 , C03B5/185 , C03B5/225 , C03B2211/70 , F27D11/10
摘要： A method and device are disclosed for temperature manipulation of a melt even with conductivity below 10 -1 O -1 cm -1 , thus permitting refining of the melt at temperatures above 1700 °C. According to the method for temperature manipulation of a melt (16), in particular, in a refiner unit, the melt (16) is heated at least by ohmic resistance heating, at least two electrodes (4) are arranged in the melt (16) and at least a part of the melt (16) is cooled. The device (1) for temperature manipulation and/or refining and/or purification and/or homogenisation of a melt (16) comprises at least one arrangement for accommodating melt material (36, 16), defining an inner chamber and at least two electrodes (4) for ohmic resistance heating of the melt (16), wherein the electrodes (4) project into the inner chamber of the arrangement in particular of the vessel (2).
摘要翻译：即使在的电导率创建用于熔体的温度操控的机会小于10 ^{-1 0 ^{-1 厘米^{-1 和做熔液的精炼以便能够在温度高于1700℃时，本发明提供了一种方法和永远装置，其中，根据用于在Läutereinheit影响的熔体（16）的温度，特别是，该方法预期数量的熔融物（16）至少由电阻的手段电阻加热被加热，所述至少两个在熔体（16）电极（4）被布置并熔融的（16）的至少一部分被冷却，并且其中所述装置（1）用于影响温度和/或用于精炼和/或用于清洗和 /或熔体（16）至少限定用于接收熔化（36，16），以及至少两个电极的内部结构均质化（4）熔体的欧姆电阻加热（16）包括wobe 我突出在该装置的内部中的电极（4），特别是容器（2）的。}}}

2. 发明申请

WO2006024536A1 VERFAHREN UND VORRICHTUNG ZUR SCHLEIFBEARBEITUNG EINES SCHNEIDWERKZEUGES, INSBESONDERE EINES MESSERS 审中-公开
标题翻译：方法和装置的切削刀具的研磨加工，特别是一把刀
公开(公告)号：WO2006024536A1
公开(公告)日：2006-03-09
申请号：PCT/EP2005/009462
申请日：2005-09-02
申请人： ZWILLING J.A. HENCKELS AKTIENGESELLSCHAFT , HEINZ BERGER MASCHINENFABRIK GMBH & CO. , DROESE, Joachim , GROSS, Andreas
发明人： DROESE, Joachim , GROSS, Andreas
IPC分类号： B24B3/54
CPC分类号： B24B19/001 , B24B3/54
摘要： Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Schleifbearbeitung eines Schneidwerkzeuges, insbesondere eines Messers. Um ein Verfahren zu schaffen, das die Ausbildung individueller Blatt- oder Klingengeometrie erlaubt und zudem vergleichsweise wenig kostenaufwendig durchführbar ist, wird mit der Erfindung vorgeschlagen ein Verfahren, bei dem das Schneidwerkzeug mit der Wirkoberfläche einer Schleifeinrichtung in Kontakt gebracht wird, wobei das Schneidwerkzeug und die Schleifeinrichtung in wenigstens drei Freiheitsgraden relativ zueinander bewegt werden.
摘要翻译：本发明涉及一种用于研磨的切削工具，尤其是刀的方法。为了提供一种方法，其允许单个叶或叶片几何形状的形成，并且也进行相对较不昂贵，所以建议用本发明，其中，所述切削工具被带入与一个研磨装置的活性表面接触的方法，其特征在于，所述切割工具及所述磨削装置在至少三度相对自由的移动到彼此。

3. 发明申请

WO2007085398A2 VERFAHREN ZUR TEMPERATURBEEINFLUSSUNG EINER SCHMELZE 审中-公开
标题翻译：温度影响熔融的方法
公开(公告)号：WO2007085398A2
公开(公告)日：2007-08-02
申请号：PCT/EP2007/000509
申请日：2007-01-22
申请人： SCHOTT AG , GROSS, Andreas , RÖMER, Hildegard , GREULICH-HICKMANN, Norbert , RÄKE, Guido , WEIDMANN, Günter , STELLE, Thomas , OHMSTEDE, Volker , JOST, Wolfgang
发明人： GROSS, Andreas , RÖMER, Hildegard , GREULICH-HICKMANN, Norbert , RÄKE, Guido , WEIDMANN, Günter , STELLE, Thomas , OHMSTEDE, Volker , JOST, Wolfgang
IPC分类号： C03B5/44 , C03B5/225 , C03B5/03 , C03B5/185 , H05B3/03
CPC分类号： C03B5/44 , C03B5/03 , C03B5/182 , C03B5/185 , C03B5/225 , C03B2211/70 , F27D11/10
摘要： Um eine Möglichkeit zur Temperaturbeeinflussung einer Schmelze auch bei einer Leitfähigkeit unter 10 -1 Ω -1 cm -1 zu schaffen und dabei ein Läutern der Schmelze bei Temperaturen höher als 1700 °C zu ermöglichen, stellt die Erfindung ein Verfahren und eien Vorrichtung zur Verfügung, wobei nach dem Verfahren zur Temperaturbeeinflussung einer Schmelze (16), insbesondere in einer Läutereinheit, vorgeshen ist, daß die Schmelze (16) zumindest mittels ohmscher Widerstandsbeheizung beheizt wird, zumindest zwei Elektroden (4) in der Schmelze (16) angeordnet werden und zumindest ein Teil der Schmelze (16) gekühlt wird, und wobei die Vorrichtung (1) zur Temperaturbeeinflussung und/oder zum Läutern und/oder zum Reinigen und/oder zur Homogenisierung einer Schmelze (16) eine zumindest einen Innenraum definierende Anordnung zur Aufnahme von Schmelzgut (36, 16), und zumindest zwei Elektroden (4) zur ohmschen Widerstandsbeheizung der Schmelze (16), umfaßt wobei die Elektroden (4) in den Innenraum der Anordnung, insbesondere des Gefäßes (2) hineinragen.
摘要翻译：
为了M＆ouml;可能性甚至在低于10 ^{-1 Ω^{-1 厘米^{-1的电导率BEAR能力影响的熔体的温度本发明提供了一种方法和设备，根据用于影响熔体温度的方法，在超过1700℃的温度下提供熔体退火（16），特别是在度假单位，因为？熔融物（16）由欧姆电阻加热是在至少加热，至少两个电极（4）在熔体（16）被布置和至少熔融的部分（16）GEK导航用途是HLT，并且其中所述装置（1）用于影响的温度，以及 /或L＆AUML;草药和/或用于清洁和/或均匀化的熔体（16）（至少限定用于接收熔化（36，16），以及至少两个电极的内部布置（4），用于熔体的欧姆电阻加热其中电极（4）突出到装置的内部，特别是空腔（2）的内部，}}}

4. 发明申请

WO2012123080A1 LÜFTERRAD 审中-公开
标题翻译： FAN
公开(公告)号：WO2012123080A1
公开(公告)日：2012-09-20
申请号：PCT/EP2012/001022
申请日：2012-03-08
申请人： ZIEHL-ABEGG AG , SADI, Omar , GROSS, Andreas , HOFMANN, Georg
发明人： SADI, Omar , GROSS, Andreas , HOFMANN, Georg
IPC分类号： F04D29/28 , F04D29/44
CPC分类号： F04D29/281 , F04D29/288 , F04D29/30 , F04D29/442
摘要： Die Erfindung betrifft ein Lüfterrad (1) radialer Bauart mit einer Bodenscheibe (2), einer Deckscheibe (3) mit Eintrittsöffnung (4) und mit einem dazwischen angeordneten Schaufelkranz mit in Laufrichtung rückwärts gekrümmt verlaufenden Leitschaufeln (5), die eine strömungsoptimierte Profilform aufweisen, sowie die Ausbildung der äußeren Randbereiche der Bodenscheibe und der Deckscheibe durch die Aufweitung mit den Öffnungswinkeln α und ß, als optimiert rotierenden Diffusor (6).
摘要翻译：本发明涉及一种风扇叶轮（1）的径向结构的有底板（2），一个盖盘（3）具有入口开口（4），并与叶片环与向后在运行方向延伸的叶片（5），其具有的流优化的轮廓形状弯曲的插入，以及底板和盖板的外边缘部分的由膨胀开口形成角度α和β，作为优化的旋转扩散体（6）。

5. 发明申请

WO2006074902A3 METHOD FOR DEPOSITING PALLADIUM LAYERS AND PALLADIUM BATH THEREFOR 审中-公开
标题翻译：用于钯层的分离和目的钯浴
公开(公告)号：WO2006074902A3
公开(公告)日：2006-08-31
申请号：PCT/EP2006000164
申请日：2006-01-11
申请人： UMICORE GALVANOTECHNIK GMBH , GROSS ANDREAS , TIEFENBACHER ANDREAS
发明人： GROSS ANDREAS , TIEFENBACHER ANDREAS
IPC分类号： C23C18/16 , C23C18/18 , C23C18/42 , C23C18/54 , H01L21/288 , H05K3/24
CPC分类号： H05K3/244 , C23C18/1651 , C23C18/32 , C23C18/42 , C23C18/50 , C23C18/54 , H01L21/288 , H05K2203/072 , H05K2203/073
摘要： The copper tracks of circuit supports require, for equipping with electronic components, a coating with a good corrosion resistance as well as with the ability of being repeatedly soldered or being bonded. These properties are fulfilled by a system of layers that contains an intermediate layer made of autocatalytically deposited nickel, on which a palladium layer is deposited by charge transfer. In order to ensure a reliable adhesion, a lack of pores and a good homogeneity, the bath for depositing the palladium layer contains a copper compound. In order to passivate the palladium layer, the system of layers can be provided with a final layer made of gold that is deposited by charge transfer and/or autocatalytically.
摘要翻译：在电路板上的铜迹线需要具有良好的耐腐蚀性为多个可焊性和可焊性的电子部件的组装的涂层以及适用性。这些属性由包含在其上的钯层通过电荷交换沉积无电沉积镍的中间层的层系统达到。为了确保可靠的粘附性，缺乏孔隙和浴的钯层的沉积的良好的均匀性含有铜，铊，硒或碲的化合物。所述钯层的钝化，以最终层的层系统可以由通过电荷交换和/或自催化沉积的金提供。

6. 发明申请

WO2012072706A1 VERFAHREN ZUM BEHANDELN VON WAFERN UND MIKROPLÄTTCHEN 审中-公开
标题翻译：了治疗晶圆和MICRO SLIDES
公开(公告)号：WO2012072706A1
公开(公告)日：2012-06-07
申请号：PCT/EP2011/071434
申请日：2011-11-30
申请人： THIN MATERIALS AG , PIEKASS, Madeleine , PAMLER, Werner , GROSS, Andreas , LUIBLE, Andreas , RICHTER, Franz
发明人： PIEKASS, Madeleine , PAMLER, Werner , GROSS, Andreas , LUIBLE, Andreas , RICHTER, Franz
IPC分类号： H01L21/67
CPC分类号： H01L21/67051 , H01L21/6708
摘要： Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zum Behandeln einer Fläche auf einem Wafer oder einem Mikroplättchen, umfassend die Schritte: a) Bereitstellen eines Wafers oder eines Mikroplättchens, b) Platzieren des Wafers oder des Mikroplättchens auf einer Unterlage, c) Bereitstellen von Material für eine umlaufende Begrenzung um die zu reinigende Fläche, d) Anbringen des Materials für die umlaufende Begrenzung so, dass um die zu reinigende Fläche eine Vertiefung entsteht, aus der eine Flüssigkeit nicht austreten kann und e) Befüllen der Vertiefung mit einer Behandlungsflüssigkeit.
摘要翻译：本发明涉及一种晶片或晶片上处理表面的方法，包括以下步骤：为一个圆周a）提供晶片或微芯片中，b）将所述晶片或基底上的管芯的，c）提供材料限制到待清洁表面，d）将所述材料，使得待清洁的表面形成有凹部，从该液体不能逸出，以及e）用的处理液填充空腔的圆周边界。

7. 发明申请

WO2010112105A1 VORRICHTUNG ZUR ÜBERTRAGUNG VON LIVE-VERANSTALTUNGEN ÜBER EIN COMPUTERNETZWERK 审中-公开
标题翻译：设备技术的现场活动上的计算机网络传输
公开(公告)号：WO2010112105A1
公开(公告)日：2010-10-07
申请号：PCT/EP2010/000833
申请日：2010-02-11
申请人： HASSO-PLATTNER-INSTITUT FÜR SOFTWARESYSTEMTECHNIK GMBH , GROSS, Andreas , MEINEL, Christoph
发明人： GROSS, Andreas , MEINEL, Christoph
IPC分类号： H04M3/56 , H04N7/14
CPC分类号： H04N5/64 , H04L65/1059 , H04N7/142 , H04N7/173 , H04N21/2187 , H04N21/4143 , H04N21/42203 , H04N21/4223 , H04N21/4788 , H04N21/6125
摘要： Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung (1) zur Übertragung von Live-Veranstaltungen über ein Computernetzwerk, welche die Vorrichtung (1) umfasst: eine Verarbeitungseinheit (4) mit Eingängen für verschiedene Eingabeeinheiten umfassend mindestens eine Videokamera (9), mindestens ein Mikrofon und mindestens einen Computer von im Rahmen der Live- Veranstaltung Vortragenden, einen Transportbehälter (2) mit Deckel (3), wobei die Verarbeitungseinheit (4) in dem Transportbehälter (2) angeordnet ist und die Eingänge der Verarbeitungseinheit (4) an eine Außenseite (2a) des Transportbehälters (2) geführt sind und von außerhalb des Transportbehälters (2) zugänglich sind, und eine im Deckel (3) des Transportbehälters (2) angeordnete Benutzerschnittstelle (6); 6a, 6b) zur Bedienung der Verarbeitungseinheit (4), wobei die Verarbeitungseinheit (4) nach dem Öffnen des Deckels (3), dem Anschluss einer Energieversorgung und der Eingabeeinheiten (9) ohne vorherige Entnahme und Anschluss der Verarbeitungseinheit (4) und/oder der Benutzerschnittstelle (6; 6a, 6b) aus dem Transportbehälter (2) voll betriebsbereit ist.
摘要翻译：本发明涉及一种用于在计算机网络上的实况事件的传输的装置（1），其特征在于所述装置（1）包括：处理单元（4），用于不同的输入单元具有输入端，包括至少一个摄像机（9），至少一个麦克风和至少一个实况事件演示内的计算机，运输容器（2）与盖（3），其中所述处理单元（4）被布置在所述运输容器（2）和处理单元（4）的至的外侧（2A）的输入运输容器（2）被引导，并且从所述运送容器的外部（2）是可访问的，并在运输容器的盖（3）（2），其设置的用户界面（6）; 图6a，6b）（对于处理单元4）的操作，其中所述处理单元的盖子的开口后（4）（3），电源的端子和输入单元（9）事先不除去和处理单元的连接（4）和/或用户界面;从所述运输容器（2）（6 6A，6B）是完全可操作。

8. 发明申请

WO2006074902A2 VERFAHREN ZUR ABSCHEIDUNG VON PALLADIUMSCHICHTEN UND PALLADIUMBAD HIERFÜR 审中-公开
标题翻译：用于钯层的分离和目的钯浴
公开(公告)号：WO2006074902A2
公开(公告)日：2006-07-20
申请号：PCT/EP2006/000164
申请日：2006-01-11
申请人： UMICORE GALVANOTECHNIK GMBH , GROSS, Andreas , TIEFENBACHER, Andreas
发明人： GROSS, Andreas , TIEFENBACHER, Andreas
IPC分类号： C23C18/16 , C23C18/54 , C23C18/18 , C23C18/42
CPC分类号： H05K3/244 , C23C18/1651 , C23C18/32 , C23C18/42 , C23C18/50 , C23C18/54 , H01L21/288 , H05K2203/072 , H05K2203/073
摘要： Die Kupferleiterbahnen von Schaltungsträgern benötigen für die Bestückung mit elektronischen Bauelementen eine Beschichtung mit guter Korrosionsbeständigkeit sowie der Eignung zur Mehrfachlötbarkeit und Bondbarkeit. Diese Eigenschaften werden von einem Schichtsystem erfüllt, welches eine Zwischenschicht aus autokatalytisch abgeschiedenem Nickel enthält, auf der durch Ladungsaustausch eine Palladiumschicht abgeschieden ist. Zur Gewährleistung einer zuverlässigen Haftfestigkeit, Porenarmut und einer guten Homogenität enthält das Bad zur Abscheidung der Palladiumschicht eine Kupferverbindung. Zur Passivierung der Palladiumschicht kann das Schichtsystem mit einer Endschicht aus durch Ladungsaustausch und/oder autokatalytisch abgeschiedenem Gold versehen werden.
摘要翻译：在电路板上的铜迹线需要具有良好的耐腐蚀性为多个可焊性和可焊性的电子部件的组装的涂层以及适用性。这些属性由包含在其上的钯层通过电荷交换沉积无电沉积镍的中间层的层系统达到。为了确保可靠的粘附性，缺乏孔隙和浴的钯层的沉积的良好的均匀性包含铜化合物。所述钯层的钝化，以最终层的层系统可以由通过电荷交换和/或自催化沉积的金提供。

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