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1. 发明申请

WO2008048595A2 LITHOGRAPHY ALIGNMENT SYSTEM AND METHOD USING NDSE-BASED FEEDBACK CONTROL 审中-公开
标题翻译： LITHOGRAPHY对准系统和使用基于NDSE的反馈控制的方法
公开(公告)号：WO2008048595A2
公开(公告)日：2008-04-24
申请号：PCT/US2007/022067
申请日：2007-10-16
申请人： HEWLETT-PACKARD DEVELOPMENT COMPANY, L. P. , PARK, Inkyu , WU, Wei , GAO, Jun , PICCIOTTO, Carl
发明人： PARK, Inkyu , WU, Wei , GAO, Jun , PICCIOTTO, Carl
IPC分类号： G03F9/00
CPC分类号： G03F9/7038 , G03F9/7088 , G03F9/7092 , G03F9/7096
摘要： A contact lithography alignment system (500) and methods (100, 200, 400) use nanoscale displacement sensing and estimation (nDSE) 300, 300' to maintain an alignment and compensate for a disturbance of one or more objects (510) during contact lithography. A method (100) of maintaining an alignment includes establishing (110) an initial alignment of one or more objects and employing (120, 200) nDSE-based feedback control of relative positions of one or more of the objects to maintain the alignment during contact lithography. A method (400) of disturbance compensation includes acquiring (410) a first image, acquiring (210, 420) a second image, estimating (220, 430) an alignment error using (120, 200) nDSE applied to the first and second images, and adjusting (230, 440) a relative position to reduce the alignment error. The contact lithography system (500) includes an optical sensor (520), a feedback processor (530, 600) providing nDSE and a position controller (540) that adjusts relative positions of one or more objects to reduce an alignment error determined using the nDSE.
摘要翻译：接触光刻对准系统（500）和方法（100,200,400）使用纳米尺度位移感测和估计（nDSE）300,300'来保持对准并补偿接触光刻期间的一个或多个物体（510）的干扰。保持对准的方法（100）包括建立（110）一个或多个对象的初始对准，并采用（120,200）基于nDSE的反馈控制，以反映一个或多个对象的相对位置以保持接触期间的对准光刻。干扰补偿的方法（400）包括获取（410）第一图像，获取（210,420）第二图像，使用应用于所述第一和第二图像的（120,200）nDSE估计（220,430）对准误差，并调整（230,440）相对位置以减小对准误差。接触光刻系统（500）包括光学传感器（520），提供nDSE的反馈处理器（530,600）和调整一个或多个物体的相对位置以减少使用nDSE确定的对准误差的位置控制器（540）。

2. 发明申请

WO2008013886A3 APPARATUS AND METHOD FOR ALIGNMENT USING MULTIPLE WAVELENGTHS OF LIGHT 审中-公开
标题翻译：使用多波长光进行对准的装置和方法
公开(公告)号：WO2008013886A3
公开(公告)日：2008-03-20
申请号：PCT/US2007016793
申请日：2007-07-25
申请人： HEWLETT PACKARD DEVELOPMENT CO , WU WEI , TONG WILLIAM , GAO JUN , PICCIOTTO CARL
发明人： WU WEI , TONG WILLIAM , GAO JUN , PICCIOTTO CARL
IPC分类号： G03F9/00
CPC分类号： G03F9/7069 , G03F9/7065 , G03F9/7088
摘要： A method and system are disclosed for aligning a lithography template (120) having a pattern with a sunstrate (130) in preparation for transferring the pattern to a surface of the substrate (130). The system includes an optical imaging system (100) adapted to image a first alignbment structure formed on a top surface of the template (120) using light of a first wavelength and a second alignment structure formed on a top surface of the substrate (130) using light of a second wavelength.
摘要翻译：公开了一种用于将具有图案的光刻模板（120）与太阳光（130）对准以准备将图案转印到基板（130）的表面的方法和系统。该系统包括适于使用第一波长的光和形成在基板（130）的顶表面上的第二对准结构对在模板（120）的顶表面上形成的第一对准结构进行成像的光学成像系统（100）使用第二波长的光。

3. 发明申请

WO2006036433A2 IMPRINT LITHOGRAPHY APPARATUS AND METHOD EMPLOYING AN EFFECTIVE PRESSURE 审中-公开
标题翻译：描绘使用有效压力的光刻设备和方法
公开(公告)号：WO2006036433A2
公开(公告)日：2006-04-06
申请号：PCT/US2005/030880
申请日：2005-08-30
申请人： HEWLETT-PACKARD DEVELOPMENT COMPANY, L. P. , WU, Wei , TONG, William M, , GAO, Jun , PICCIOTTO, Carl E,
发明人： WU, Wei , TONG, William M, , GAO, Jun , PICCIOTTO, Carl E,
IPC分类号： G03F7/00
CPC分类号： B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F7/0002
摘要： An imprint apparatus (100, 100', 200, 220) and method 300 employ an effective pressure P eff in imprint lithography. The imprint apparatus (100, 100', 200, 220) includes a compressible chamber (111) that encloses an imprint mold (120, 228a) having a mold pattern (122) and a sample (130, 228b) to be imprinted (300). The chamber (111) is compressed (330, 340, 350) to imprint (360) the mold pattern (122) on the sample (130, 228b). The mold (120, 228a) is pressed (350) against the sample (130, 228b) with the effective pressure P eff . The effective pressure P eff is controlled by a selected ratio A cavity /A contact of a cavity area A cavity of the chamber (111) to a contact area A contact between the mold (120, 228a) and the sample (130, 228b).
摘要翻译：压印装置（100,100'，200,220）和方法300在压印光刻中使用有效压力P eff。压印装置（100,100'，200,220）包括可压缩室（111），其包围具有模具图案（122）和待压印的样本（130,228b）的压印模具（120,228a））。腔室（111）被压缩（330,340,350）以将模具图案（122）压印（360）在样本（130,228b）上。将模具（120,228a）以有效压力P eff按压（350）在样品（130,228b）上。有效压力P eff由空腔区域A cavity的选定比例A cavity / A sub contact控制，（111）向模具（120,228a）和样品（130,228b）之间的接触区域接触。

4. 发明申请

WO2006026214A1 MEASURING SUB-WAVELENGTH DISPLACEMENTS 审中-公开
标题翻译：测量子波长位移
公开(公告)号：WO2006026214A1
公开(公告)日：2006-03-09
申请号：PCT/US2005/029703
申请日：2005-08-19
申请人： HEWLETT-PACKARD DEVELOPMENT COMPANY L.P. , GAO, Jun , PICCIOTTO, Carl E.
发明人： GAO, Jun , PICCIOTTO, Carl E.
IPC分类号： G06T7/00
CPC分类号： G01B11/002 , G01D5/26 , G01D5/34776 , G06T7/32 , Y10T428/256
摘要： Measurement systems (100) and methods (300) extend the use of optical navigation to measure displacements smaller than a wavelength of the light used to capture images of an object (110) measured. Nanometer-scale movements can thus be measured, for example, in equipment used for manufacture of integrated circuits or nanometer scale devices.
摘要翻译：测量系统（100）和方法（300）扩展了光学导航的使用以测量小于用于捕获被测物体（110）的图像的光的波长的位移。因此，可以例如在用于制造集成电路或纳米级装置的设备中测量纳米级的运动。

5. 发明申请

WO2006026213A1 DISPLACEMENT ESTIMATION SYSTEM AND METHOD 审中-公开
标题翻译：位移估计系统和方法
公开(公告)号：WO2006026213A1
公开(公告)日：2006-03-09
申请号：PCT/US2005/029702
申请日：2005-08-19
申请人： HEWLETT-PACKARD DEVELOPMENT COMPANY L.P. , PICCIOTTO, Carl E. , GAO, Jun
发明人： PICCIOTTO, Carl E. , GAO, Jun
IPC分类号： G06K9/64
CPC分类号： G06T7/254
摘要： A displacement estimation system (100 / 400 / 600) comprising a data acquisition system (106) and a processing system (108) is provided. The data acquisition system is configured to capture a first frame (112A) from a first substrate (102) including a first pattern (104) at a first time and capture a second frame (112B) from a second substrate (102) including a second pattern (104) at a second time subsequent to the first time. The first pattern and the second pattern are substantially identical. The processing system is configured to calculate a displacement (306) between the first pattern and the second pattern using the first frame and the second frame.
摘要翻译：提供了包括数据采集系统（106）和处理系统（108）的位移估计系统（100/400/600）。数据采集系统配置成在第一时间从包括第一图案（104）的第一基板（102）捕获第一框架（112A），并从第二基板（102）捕获包括第二框架（102）的第二框架（112B）图案（104）在第一次之后的第二时间。第一图案和第二图案基本相同。处理系统被配置为使用第一帧和第二帧来计算第一图案和第二图案之间的位移（306）。

6. 发明申请

WO2005016977A1 VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG WÄSSRIGER POLYMERISATDISPERSIONEN 审中-公开
标题翻译：用于生产水性聚合物
公开(公告)号：WO2005016977A1
公开(公告)日：2005-02-24
申请号：PCT/EP2004/007470
申请日：2004-07-08
申请人： BASF AKTIENGESELLSCHAFT , GAO, Jun , KONG, Xiang-Ming , HUNGENBERG, Klaus-Dieter , SCHMIDT-THÜMMES, Jürgen
发明人： GAO, Jun , KONG, Xiang-Ming , HUNGENBERG, Klaus-Dieter , SCHMIDT-THÜMMES, Jürgen
IPC分类号： C08F2/22
CPC分类号： C08F2/22
摘要： Gegenstand der vorliegenden Erfindung ist ein Verfahren zur Herstellung einer wässrigen Polymerisatdispersion durch radikalisch initilerte wässrige Emulsionspolymerisation von wenigstens einer ethylenisch ungesättigten Verbindung (Monomer) in Anwesenheit wenigstens eines Dispergiermittels sowie wenigstens eines wasserlöslichen und eines öllöslichen Radikalinitiators, wobei die Polymerisationstemperatur im Laufe der Polymerisationsreaktion von der Startreaktionstemperatur T s auf die Endreaktionstemperatur T E ansteigt.
摘要翻译：本发明是一种用于在至少一种分散剂和至少一种水溶性的和油溶性自由基引发剂的存在下制备由至少一种烯属不饱和化合物（单体）的自由基initilerte水性乳液聚合的聚合物水分散体，一种方法，其中起始的反应温度的聚合反应过程中的聚合温度 TS增加到最终的反应温度TE。

7. 发明申请

WO2008022437A1 METHOD FOR CAPTURING CARBON DIOXIDE FROM GAS STREAMS 审中-公开
标题翻译：从气体流中吸收二氧化碳的方法
公开(公告)号：WO2008022437A1
公开(公告)日：2008-02-28
申请号：PCT/CA2007/001435
申请日：2007-08-23
申请人： UNIVERSITY OF REGINA , TONTIWACHWUTHIKUL, Paitoon , WEE, Andrew, G. H. , IDEM, Raphael , MANEEINTR, Kreangkrai , FAN, Gao-jun , VEAWAB, Amornvadee , HENNI, Amr , AROONWILAS, Adisorn , CHAKMA, Amit
发明人： TONTIWACHWUTHIKUL, Paitoon , WEE, Andrew, G. H. , IDEM, Raphael , MANEEINTR, Kreangkrai , FAN, Gao-jun , VEAWAB, Amornvadee , HENNI, Amr , AROONWILAS, Adisorn , CHAKMA, Amit
IPC分类号： B01D53/14 , B01D53/18 , B01D53/62 , B01D53/92 , B01D53/96
CPC分类号： B01D53/1493 , B01D2257/504 , Y02C10/04 , Y02C10/06 , Y02C10/08
摘要： The present invention relates to a method for removing carbon dioxide (CO 2 ) from a gas stream. Particularly, the present invention relates to a method for removing CO 2 from a gas stream by a liquid absorbent having an amino alcohol derived from 4-amino-2-butanol. In comparison to conventional amines, the amino alcohols of the present invention have been found to provide a higher CO 2 absorption capacity and a higher cyclic capacity for CO 2 removal.
摘要翻译：本发明涉及一种从气流中除去二氧化碳（CO 2 H 2）的方法。特别地，本发明涉及一种通过具有衍生自4-氨基-2-丁醇的氨基醇的液体吸收剂从气流中除去CO 2的方法。与常规胺相比，已经发现本发明的氨基醇提供较高的CO 2吸收能力和较高的CO 2取代的循环能力。

8. 发明申请

WO2006036433A3 IMPRINT LITHOGRAPHY APPARATUS AND METHOD EMPLOYING AN EFFECTIVE PRESSURE 审中-公开
标题翻译：印刷机的设备和使用有效压力的方法
公开(公告)号：WO2006036433A3
公开(公告)日：2006-08-10
申请号：PCT/US2005030880
申请日：2005-08-30
申请人： HEWLETT PACKARD DEVELOPMENT CO , WU WEI , TONG WILLIAM M , GAO JUN , PICCIOTTO CARL E
发明人： WU WEI , TONG WILLIAM M , GAO JUN , PICCIOTTO CARL E
IPC分类号： G03F7/00
CPC分类号： B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F7/0002
摘要： An imprint apparatus (100, 100', 200, 220) and method 300 employ an effective pressure P eff in imprint lithography. The imprint apparatus (100, 100', 200, 220) includes a compressible chamber (111) that encloses an imprint mold (120, 228a) having a mold pattern (122) and a sample (130, 228b) to be imprinted (300). The chamber (111) is compressed (330, 340, 350) to imprint (360) the mold pattern (122) on the sample (130, 228b). The mold (120, 228a) is pressed (350) against the sample (130, 228b) with the effective pressure P eff . The effective pressure P eff is controlled by a selected ratio A cavity /A contact of a cavity area A cavity of the chamber (111) to a contact area A contact between the mold (120, 228a) and the sample (130, 228b).
摘要翻译：压印装置（100,100'，200,220）和方法300在压印光刻中采用有效压力P eff。压印装置（100,100'，200,220）包括可压缩室（111），其包围具有模具图案（122）和要印刷的样品（130,228b）的压印模具（120,228a）（300 ）。腔室（111）被压缩（330,340,350）以在样品（130,228b）上印模（360）模具图案（122）。模具（120,228a）以有效压力P eff被压制（350）抵靠样品（130,228b）。有效压力P eff通过空腔区域A腔的选定比例A / A 来控制，（111）的位置与模具（120,228a）和样品（130,228b）之间的接触区域A _接触。

9. 发明申请

WO2006058192A3 MULTIPLE LAYER ALIGNMENT SENSING 审中-公开
标题翻译：多层排列感应
公开(公告)号：WO2006058192A3
公开(公告)日：2006-08-03
申请号：PCT/US2005042694
申请日：2005-11-23
申请人： HEWLETT PACKARD DEVELOPMENT CO , PICCIOTTO CARL E , GAO JUN
发明人： PICCIOTTO CARL E , GAO JUN
IPC分类号： G03F9/00
CPC分类号： G03F9/7003 , G03F9/7038 , G03F9/7088
摘要： Using an imaging system (104) in relation to a plurality of material layers (114, 116) is described, the material layers being separated by a distance greater than a depth of field of the imaging system. A focal plane (106) of the imaging system and a first (114) of the plurality of material layers are brought into correspondence. A first image including at least a portion of the first material layer (114) having a first feature of interest thereon (116) is stored. The focal plane (106) of the imaging system and a second (118) of the plurality of material layers are brought into correspondence. A second image including at least a portion of the second material layer (118) having a second feature of interest thereon (120) is acquired. The first and second images are processed for automatic computation of an alignment measurement between the first and second features of interest.
摘要翻译：描述了关于多个材料层（114,116）使用成像系统（104），材料层以大于成像系统的景深的距离分开。使成像系统的焦平面（106）和多个材料层中的第一个（114）对应。存储包括其上具有第一感兴趣特征（116）的第一材料层（114）的至少一部分的第一图像。成像系统的焦平面（106）和多个材料层中的第二个（118）对应。获取包括其上具有第二感兴趣特征（120）的第二材料层（118）的至少一部分的第二图像。处理第一和第二图像以自动计算第一和第二感兴趣特征之间的对准测量值。

10. 发明申请

WO2006026192A1 DISPLACEMENT ESTIMATION SYSTEM AND METHOD 审中-公开
标题翻译：位移估计系统和方法
公开(公告)号：WO2006026192A1
公开(公告)日：2006-03-09
申请号：PCT/US2005/029555
申请日：2005-08-19
申请人： HEWLETT-PACKARD DEVELOPMENT COMPANY L.P. , PICCIOTTO, Carl E. , GAO, Jun
发明人： PICCIOTTO, Carl E. , GAO, Jun
IPC分类号： G06K9/64
CPC分类号： G06T7/20 , G06T7/70
摘要： A system (100 / 700 / 900) comprising a data acquisition system (106) and a processing system (108) is provided. The data acquisition system is configured to capture an image (112) that includes a first instance of a pattern (104A) and a second instance of the pattern (104B) from at least a first substrate (102), and the processing system is configured to calculate a displacement between the first instance and the second instance using the image.
摘要翻译：提供一种包括数据采集系统（106）和处理系统（108）的系统（100/700/900）。数据采集系统被配置为从至少第一基板（102）捕获包括图案（104A）的第一实例和图案（104B）的第二实例的图像（112），并且处理系统被配置以使用图像来计算第一实例和第二实例之间的位移。

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