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1. 发明申请

WO2010012589A1 ALIGNMENT OF COLLECTOR DEVICE IN LITHOGRAPHIC APPARATUS 审中-公开
标题翻译：收集器装置在光刻装置中的对准
公开(公告)号：WO2010012589A1
公开(公告)日：2010-02-04
申请号：PCT/EP2009/059048
申请日：2009-07-15
申请人： ASML NETHERLANDS B.V. , KLAASSEN, Michel , VAN SCHOOT, Jan , DUTARTRE, Sylvain
发明人： KLAASSEN, Michel , VAN SCHOOT, Jan , DUTARTRE, Sylvain
IPC分类号： G03F7/20 , G03F9/00
CPC分类号： G03F7/70033 , G03F7/70141 , G03F7/70175 , G03F7/70825 , G03F7/7085
摘要： A lithographic apparatus (2) can include a radiation source (SO) configured to provide radiation (200), a radiation collector (CO) configured to collect radiation (200) from the radiation source (SO), an illumination system (IL), and a detector (300). The detector (300) can be disposed in a fixed positional relationship with the illumination system (IL) relative to an alignment of the collector (CO). Further, a region (310) of the collector (CO) can be configured to direct a portion of radiation (200) emanating from the radiation source (SO) and traversing the region (310) towards the detector (300). The detector (300) can be configured to detect a change in a portion of the radiation (200). The change can be indicative of a change in position or orientation of the collector (CO) relative to the illumination system (IL) relative to an alignment of the collector (CO).
摘要翻译：光刻设备（2）可以包括被配置为提供辐射（200）的辐射源（SO），被配置为从辐射源（SO）收集辐射（200）的辐射收集器（CO），照明系统（IL）和检测器（300）。检测器（300）可以相对于收集器（CO）的排列与照明系统（IL）以固定的位置关系设置。此外，收集器（CO）的区域（310）可以被配置为引导从辐射源（SO）发出并且朝向检测器（300）横穿该区域（310）的一部分辐射（200）。检测器（300）可以被配置为检测辐射（200）的一部分中的变化。该变化可以指示相对于收集器（CO）的对准，收集器（CO）相对于照明系统（IL）的位置或取向的变化。

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