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1. 发明申请

WO2006000718A1 DISPOSITIF DE GENERATION DE LUMIERE DANS L' EXTREME ULTRAVIOLET ET APPLICATION A UNE SOURCE DE LITHOGRAPHIE PAR RAYONNEMENT DANS L'EXTREME ULTRAVIOLET 审中-公开
标题翻译：用于产生极度超紫外光的装置和应用于极端超紫外线照相源
公开(公告)号：WO2006000718A1
公开(公告)日：2006-01-05
申请号：PCT/FR2005/001465
申请日：2005-06-14
申请人： COMMISSARIAT ENERGIE ATOMIQUE , ALCATEL VACUUM TECHNOLOGY FRANCE , CHEYMOL, Guy , CORMONT, Philippe , THRO, Pierre-Yves , SUBLEMONTIER, Olivier , SCHMIDT, Martin , BARTHOD, Benoît
发明人： CHEYMOL, Guy , CORMONT, Philippe , THRO, Pierre-Yves , SUBLEMONTIER, Olivier , SCHMIDT, Martin , BARTHOD, Benoît
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70166 , B82Y10/00 , G03F7/70033 , H05G2/003 , H05G2/008
摘要： Le dispositif comprend un dispositif (2) pour créer, dans un espace sous vide où sont focalisés des faisceaux laser (1), une cible (4) essentiellement linéaire apte à émettre par interaction avec les faisceaux laser focalisés (1) un plasma émettant un rayonnement dans l'extrême ultraviolet. Un dispositif récepteur (3) reçoit la cible (4) après son interaction avec les faisceaux laser focalisés (1), tandis qu'un dispositif collecteur (110) collecte le rayonnement EUV émis par la cible (4). Les éléments (11) de focalisation des faisceaux laser sur la cible (4) sont agencés de telle sorte que les faisceaux laser (1) soient focalisés latéralement sur la cible (4) en étant situés dans un même demi-espace par rapport à la cible (4) et en étant inclinés d'un angle prédéterminé compris entre environ 60° et 90° par rapport à un axe moyen de collecte (6) perpendiculaire à la cible (4). Le dispositif collecteur (110) est disposé symétriquement par rapport à l'axe moyen de collecte (6) dans le demi-espace contenant les faisceaux laser (1) focalisés sur la cible (4) et à l'intérieur d'un espace conique (8) centré sur l'axe moyen de collecte (6) avec un sommet situé sur la cible (4) et un demi-angle au sommet inférieur à l'angle d'inclinaison des faisceaux laser focalisés (1) par rapport à l'axe moyen de collecte (6). Le dispositif est applicable à une source de lithographie par rayonnement EUV pour la fabrication de circuits intégrés.
摘要翻译：本发明涉及一种用于在激光束（1）被聚焦的真空空间中产生能够通过与聚焦激光束（1）相互作用发射等离子体而发射极紫外辐射的基本线性目标的装置（2）。接收器装置（3）在与聚焦激光束（2）相互作用之后接收目标物（4），而收集器装置（110）收集目标物（4）发射的EUV辐射。将激光束聚焦在靶（4）上的元件（11）被布置成使得激光束（1）通过位于相对于目标（4）的公共半空间中而横向聚焦在目标（4）上，并且相对于垂直于目标（4）的平均收集轴线（6）倾斜约60°至90°之间的预定角度。收集器装置（110）相对于包含聚焦在目标（4）上的激光束（1）的半空间中的装置收集轴线（6）对称地布置，并且位于以平均收集点为中心的锥形空间（8）内部轴线（6），其顶点位于目标（4）上，并且在顶点处的半角小于聚焦激光束（1）相对于平均收集轴线（6）的倾斜角度。该器件适用于用于制造集成电路的EUV辐射光刻源。

2. 发明申请

WO2005029191A2 PROCEDE ET DISPOSITIF DE LITHOGRAPHIE PAR RAYONNEMENT DANS L'EXTREME ULTRAVIOLET 审中-公开
标题翻译：用于超极紫外线辐射的方法和装置
公开(公告)号：WO2005029191A2
公开(公告)日：2005-03-31
申请号：PCT/FR2004/002226
申请日：2004-09-01
申请人： COMMISSARIAT A L'ENERGIE ATOMIQUE , CORMONT, Philippe , THRO, Pierre-Yves , VACHER, Charlie
发明人： CORMONT, Philippe , THRO, Pierre-Yves , VACHER, Charlie
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： B82Y10/00 , G03F7/70033 , G03F7/70041 , G03F7/70558
摘要： La présente invention concerne un procédé et un dispositif de photolithographie par rayonnement extrême ultraviolet, utilisant une source résultant de l'excitation d'un plasma par plusieurs lasers. L'objet à photograver se déplace derrière une fenêtre d'irradiation. Le rayonnement lui-même est constitué de N impulsions courantes successives, dont l'énergie surfacique est mesurée. En particulier, chaque laser émet, à chaque déclenchement, un quantum d'énergie de durée donnée. Ainsi, pour une n ième itération d'un procédé itératif, on somme l'énergie surfacique de rayonnement reçu par l'objet au cours des N-1 dernières impulsions. On déplace l'objet photosensible d'une distance égale à une fraction l/N de la largeur de la fenêtre d'irradiation selon l'axe de cette translation. On soustrait la somme précitée à la quantité d'énergie totale, nécessaire au processus de photogravure. On détermine la quantité d'énergie restant à fournir pour atteindre cette quantité d’énergie totale et, de là, le nombre de quanta d'impulsions restant à générer pour une n ième impulsion, en choisissant en particulier le nombre correspondant de sources lasers à allumer. On déclenche enfin ces lasers sélectionnés pour délivrer une impulsion.
摘要翻译：本发明涉及一种用于通过极紫外辐射进行光刻的方法和装置，其使用由几种激光激发等离子体产生的源。要被光刻的物体位于照射窗后面。辐射由N个连续的电流脉冲组成，其表面能被测量。特别地，每个激光器在每个开始处发射具有给定持续时间的能量的量子。因此，在最后N-1个脉冲的过程中由物体接收的辐射的表面能被加起来以进行第n次迭代一种迭代方法。光敏物体根据所述平移轴的位移距离等于照射窗宽度的分数l / N。从光刻方法所需的总能量的量减去上述总和。要实现能量总量和从那里提供的剩余能量量，通过更特别地选择相应数量的激光源来确定针对第n个脉冲产生的剩余脉冲量子数打开。然后触发这样选择的激光器以便传递脉冲。

3. 发明申请

WO2006136669A1 PROCEDE ET DISPOSITIF D'ABLATION LASER D'UNE COUCHE SUPERFICIELLE D'UNE PAROI, TELLE QU'UN REVETEMENT DE PEINTURE DANS UNE INSTALLATION NUCLEAIRE. 审中-公开
标题翻译：用于激光从墙壁涂层的方法和装置，如作为核工厂涂料的涂层
公开(公告)号：WO2006136669A1
公开(公告)日：2006-12-28
申请号：PCT/FR2006/001119
申请日：2006-05-18
申请人： COMMISSARIAT A L'ENERGIE ATOMIQUE , CHAMPONNOIS, François , CORMONT, Philippe , GELEOC, Marie , HUBERT, Christophe , LASCOUTOUNA, Christian , THRO, Pierre-Yves , WODLING, Pascal
发明人： CHAMPONNOIS, François , CORMONT, Philippe , GELEOC, Marie , HUBERT, Christophe , LASCOUTOUNA, Christian , THRO, Pierre-Yves , WODLING, Pascal
IPC分类号： B08B7/00 , G21F9/00 , B23K26/08 , B08B15/04
CPC分类号： B08B15/04 , B08B7/0042 , B23K26/0006 , B23K26/0066 , B23K26/0087 , B23K26/03 , B23K26/0622 , B23K26/082 , B23K26/147 , B23K26/361 , B23K2201/34 , G21F9/005 , G21F9/30
摘要： La présente invention concerne un procédé d'ablation laser d'une couche superficielle d'une paroi, telle qu'un revêtement mural de peinture, par exemple dans une installation nucléaire à décontaminer, et un dispositif pour la mise en œuvre de ce procédé. Le procédé d'ablation selon l'invention comprend une passe de balayage de tirs sur ladite couche d'au moins un faisceau laser pulsé avec une qualité de faisceau M² inférieure à 20, et il est caractérisé en ce qu'il comprend une commande directionnelle desdits tirs par déflection optique, de telle sorte que les zones d'impact (I1, I2, I3, …) desdits tirs sur ladite couche soient disjointes ou sensiblement jointives avec un recouvrement minimisé.
摘要翻译：本发明涉及一种用于从壁上激光烧蚀表面涂层的方法，例如涂漆的墙面，例如在待净化的核电站中，以及用于实现所述方法的装置。本发明的消融方法包括在至少一个脉冲激光束的涂层上扫射，小于20的激光束质量因子M <2>，其特征在于，其包括通过光学的所述镜头的直接控制使得所述涂层上的所述镜头的冲击区域（I1，I2，I3）与最小化的重叠不相交或基本相邻。

4. 发明申请

WO2013004955A1 PROCEDE DE FABRICATION D'UN COMPOSANT OPTIQUE POUR SUPPRIMER DES DEFAUTS DE SURFACE 审中-公开
标题翻译：制造用于消除表面缺陷的光学元件的方法
公开(公告)号：WO2013004955A1
公开(公告)日：2013-01-10
申请号：PCT/FR2012/051506
申请日：2012-06-29
申请人： COMMISSARIAT A L'ENERGIE ATOMIQUE ET AUX ENERGIES ALTERNATIVES , CORMONT, Philippe , RULLIER, Jean-Luc
发明人： CORMONT, Philippe , RULLIER, Jean-Luc
IPC分类号： C03B29/02 , B23K26/00 , B24B13/00
CPC分类号： B24B51/00 , B23K26/0075 , B23K26/0081 , B23K26/032 , B24B13/00 , C03B29/02 , C03C19/00 , C03C23/0025 , Y02P40/57
摘要： La présente invention concerne un procédé de fabrication d'un composant optique comprenant un substrat en matériau fusible, ledit procédé comprenant les étapes a) et b) ou les étapes a)-b) et c) ou les étapes a)-b) -c) et d) suivantes : a. Ébauchage; b. Doucissage; c. Polissage; d. Finition. Selon l'invention, le procédé comprend, suite à l'une quelconque des étapes b), c) et/ou d), les étapes suivantes: e. Contrôle de la surface optique du composant optique; f. Détection et localisation d'au moins un défaut de surface à supprimer; g. Pour chaque défaut de surface à supprimer, application d'un faisceau laser sur une zone englobant ledit défaut de surface à supprimer, de manière à produire une refonte locale du matériau fusible, et de manière à former, à la place du défaut de surface à supprimer, une zone de matériau refondu par laser; h. Polissage de ladite surface optique comprenant au moins une zone de matériau refondu par laser de manière à obtenir une surface optique polie exempte de défauts de surface à supprimer et poursuite du procédé de fabrication à l'étape c) respectivement d).
摘要翻译：本发明涉及一种包括由易熔材料制成的基片的光学部件的制造方法，所述方法包括以下步骤a）和b）或步骤a），b）和c）或步骤a），b ），c）和d）：a）粗加工; b）细磨; c）抛光; 和d）整理。根据本发明，该方法包括以下步骤：在步骤b），c）和/或d）中的任一步骤之后：e）检查光学部件的光学表面; f）检测和定位要消除的至少一个表面缺陷; g）对于要消除的每个表面缺陷，将激光束施加到包围所述表面缺陷的区域以消除，以便产生可熔材料的局部回流，并且在表面缺陷的位置处形成被淘汰，由激光重熔的材料区域; h）抛光所述光学表面，其包括由激光重熔的材料的至少一个区域，以便产生没有表面缺陷的抛光光学表面，并且继续步骤c）和d）的制造方法。

5. 发明申请

WO2011033234A1 PROCEDE DE TRAITEMENT CORRECTIF D'UN DEFAUT SUR LA SURFACE D'UN COMPOSANT OPTIQUE POUR LASER DE PUISSANCE 审中-公开
标题翻译：光功率激光器光学元件表面缺陷校正处理方法
公开(公告)号：WO2011033234A1
公开(公告)日：2011-03-24
申请号：PCT/FR2010/051939
申请日：2010-09-17
申请人： COMMISSARIAT A L'ENERGIE ATOMIQUE , CORMONT, Philippe , RULLIER, Jean-Luc , GALLAIS, Laurent
发明人： CORMONT, Philippe , RULLIER, Jean-Luc , GALLAIS, Laurent
IPC分类号： B29D11/00 , B23K26/00 , B23K26/38 , B23K26/42 , B29C73/34
CPC分类号： B29D11/00432 , B23K26/0006 , B23K26/0075 , B23K26/389 , B23K2203/52 , B23K2203/54 , B23K2203/56 , B29C73/34 , B29C2035/0838 , B29C2791/009
摘要： La présente invention concerne un procédé de traitement correctif d'un défaut (120) sur la surface (110) d'un composant optique (100) pour laser de puissance comprenant une première étape d'application d'un premier faisceau laser (230) à une puissance P1 pendant une durée t1 de manière à générer un éclairement E 1 sur une première zone adaptée en taille et en position au défaut (120) à corriger, le ledit premier faisceau laser (230) ayant une longueur d'onde λ apte à être absorbée par le matériau du composant optique (100) pour former un cratère sur la surface du composant optique (100). Selon l'invention, le procédé comprend une seconde étape d'application d'un second faisceau laser (240) à une puissance P2 pendant une durée t2 sur une deuxième zone comprenant au moins la périphérie du cratère créé lors de la première étape pour soumettre la deuxième zone à un éclairement E 2 inférieur à l'éclairement E 1 .
摘要翻译：本发明涉及一种用于对功率激光器的光学部件（100）的表面（110）上的缺陷（120）进行校正处理的方法，包括：第一步骤，施加第一激光束（230）功率P1一段时间t1，以在第一区域上产生照明E1，其尺寸和位置与待校正的缺陷（120）匹配，所述第一激光束（230）具有波长λ 其可以由光学部件（100）的材料吸收，以在光学部件（100）的表面上形成火山口。根据本发明，该方法包括：第二步骤，将具有时间t2的功率P2的第二激光束（240）应用于至少包括在第一步骤期间产生的火山口的外围的第二区域，以便使第二区域到比照明E1低的照明E2。

6. 发明申请

WO2005029191A3 METHOD AND DEVICE FOR LITHOGRAPHY BY EXTREME ULTRAVIOLET RADIATION 审中-公开
标题翻译：通过极紫外线辐射进行光刻的方法和装置
公开(公告)号：WO2005029191A3
公开(公告)日：2005-06-09
申请号：PCT/FR2004002226
申请日：2004-09-01
申请人： COMMISSARIAT ENERGIE ATOMIQUE , CORMONT PHILIPPE , THRO PIERRE-YVES , VACHER CHARLIE
发明人： CORMONT PHILIPPE , THRO PIERRE-YVES , VACHER CHARLIE
IPC分类号： G03F7/20 , H05G2/00
CPC分类号： B82Y10/00 , G03F7/70033 , G03F7/70041 , G03F7/70558
摘要： The invention relates to a method and device for photolithography by extreme ultraviolet radiation, using a source resulting from the excitation of plasma by several lasers. The object which is to be photoengraved is displaced behind an irradiation window. The radiation is comprised of N successive current impulses whose surface energy is measured. In particular, each laser emits a quantum of energy having a given duration at each outset.The surface energy of the radiation received by the object in the course of the last N-1 pulses is thus added up for an n iteration of an iterative method. The photosensitive object is displaced from a distance equal to a fraction l/N of the width of the irradiation window according to the axis of said translation. The above-mentioned sum is subtracted from the amount of total energy required for the photoengraving method. The remaining amount of energy to be provided in order to achieve the total amount of energy and from there, the remaining pulse quanta number to be produced for an n pulse is determined by selecting more particularly the corresponding number of laser sources to be turned on. The lasers thus selected are then triggered in order to deliver a pulse.
摘要翻译：本发明涉及用于通过极紫外辐射进行光刻的方法和装置，其使用由几个激光器激发等离子体产生的源。要照相的物体在照射窗后移动。辐射由表面能量被测量的N个连续电流脉冲组成。特别地，每个激光器发射在每个开始时具有给定持续时间的能量的量子。在最后的N-1个脉冲的过程中由对象接收的辐射的表面能量因此被累加以进行第n次迭代一种迭代方法。根据所述平移的轴线，感光物体从等于照射窗口宽度的1 / N的分数的距离位移。从照相制版方法所需的总能量中减去上述总和。为了实现总能量而提供的剩余能量量并且从那里提供，第n个脉冲要产生的剩余脉冲量子数通过更具体地选择相应数量的激光源来确定打开。然后触发这样选择的激光以传送脉冲。

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