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1. 发明申请

WO2012028334A2 MARKER FOR SUNITINIB RESISTANCE FORMATION 审中-公开
标题翻译：耐药性标志物
公开(公告)号：WO2012028334A2
公开(公告)日：2012-03-08
申请号：PCT/EP2011004566
申请日：2011-09-05
申请人： MAX PLANCK GESELLSCHAFT , BENDER CLAUS , ULLRICH AXEL
发明人： BENDER CLAUS , ULLRICH AXEL
IPC分类号： C12Q1/68
CPC分类号： C12Q1/6886 , C12Q2600/106 , C12Q2600/158 , C12Q2600/178
摘要： The present invention relates to marker for sunitinib resistance formation and modulators thereof for the prevention and reduction of sunitinib resistance of hyperproliferative cells, in particular cancer cells. Further, the present invention relates to compositions comprising agents suitable for anticancer therapy in combination with the modulators for treating proliferative diseases.
摘要翻译：本发明涉及舒尼替尼抗性形成的标记物及其调节剂，用于预防和降低过度增殖细胞特别是癌细胞的舒尼替尼耐药性。此外，本发明涉及包含适合抗癌治疗的药物与用于治疗增殖性疾病的调节剂的组合物。

2. 发明申请

WO2004085908A3 HEIGHT-ADJUSTING DEVICE AND SUPPORT FOR OPTICAL SYSTEMS, WHICH COMPRISES HEIGHT-ADJUSTING DEVICES 审中-公开
标题翻译：装置：用于光学系统具有高度调节器件的高度调节和支持
公开(公告)号：WO2004085908A3
公开(公告)日：2005-01-13
申请号：PCT/EP2004050233
申请日：2004-03-02
申请人： LEICA MICROSYSTEMS , BENDER CLAUS
发明人： BENDER CLAUS
IPC分类号： A47B91/02 , F16M7/00 , G02B21/24 , F16M11/12 , G02B7/00 , G02B23/16
CPC分类号： F16M7/00 , A47B91/028
摘要： Disclosed is a device for adjusting the height of an apparatus (2) relative to a rest surface (3). Said height-adjusting device (1) is embodied such that no friction at all is created by rotating the contact points of the height-adjusting devices (1) with the rest surface (3). The inventive height-adjusting device (1) comprises a rotating wheel (8), a seat (9), and a base (11). The rotating wheel (8) and the base (11) are movable like a telescope relative to the stationary seat (9) when the height is adjusted. The height-adjusting device (1) is configured in such a way that the base (11) is displaced twice as far as the rotating wheel (8). A support (30) for an optical system comprises several height-adjusting devices (1) that are connected to the bottom (5) of a basic body (31) of the support (30). A left and a right hand support (31a and 31b) which are fixed to the basic body (31) of the support (30) by means of a hinge (32) are provided on the support (30) such that the edges (32a) of the left or right hand support (31a and 31b), which are located opposite the hinge, permanently rest upon the rest surface (3) regardless of the vertical adjustment of the support (30).
摘要翻译：它是用于装置（2）相对于安装表面（3）的高度调节，公开了一种设备。对于高度调节的装置（1）被设置成使得没有摩擦所造成的设备（1），用于与所述支撑表面（3）的高度调节的接触点的旋转通过摩擦高度调节过程中引起的。对于高度调节的装置（1）包括旋钮（8），插座（9）和一个支脚（11）。在这种情况下，高度调节过程中，旋转头（8）和脚（11）相对于所述固定壳体（9）是可伸缩地移动。对于高度调节的装置（1）被配置为使得所述脚（11）的旋钮（8）相对行进的双移。一种用于在具有多个装置（1），用于高度调节，它们被连接到所述载体（30）的基体（31）的底部（5）的光学系统的载体（30）。在载体（30）是左和右手支撑件（31A）和（31b）分别设置其中的载体（30）的（31）附接有在基体上的铰链系统（32），使得所述铰链相对的边缘（32A ）搁置在左手或右手支撑件（31A）和（31B）独立于所述载体（30）总是的高度调整（在设定器3）的。

3. 发明申请

WO2012028334A3 MARKER FOR SUNITINIB RESISTANCE FORMATION 审中-公开
公开(公告)号：WO2012028334A3
公开(公告)日：2012-03-08
申请号：PCT/EP2011/004566
申请日：2011-09-05
申请人： MAX-PLANCK-GESELLSCHAFT ZUR FÖRDERUNG DER FÖRDERUNG DER WISSENSCHAFTEN E.V. , BENDER, Claus , ULLRICH, Axel
发明人： BENDER, Claus , ULLRICH, Axel
IPC分类号： C12Q1/68
摘要： The present invention relates to marker for sunitinib resistance formation and modulators thereof for the prevention and reduction of sunitinib resistance of hyperproliferative cells, in particular cancer cells. Further, the present invention relates to compositions comprising agents suitable for anticancer therapy in combination with the modulators for treating proliferative diseases.

4. 发明申请

WO2004085908A2 VORRICHTUNG ZUR HÖHENVERSTELLUNG UND TRÄGER FÜR OPTISCHE SYSTEME MIT VORRICHTUNGEN ZUR HÖHENVERSTELLUNG 审中-公开
标题翻译：装置：用于光学系统具有高度调节器件的高度调节和支持
公开(公告)号：WO2004085908A2
公开(公告)日：2004-10-07
申请号：PCT/EP2004/050233
申请日：2004-03-02
申请人： LEICA MICROSYSTEMS WETZLAR GMBH , BENDER, Claus
发明人： BENDER, Claus
IPC分类号： F16M
CPC分类号： F16M7/00 , A47B91/028
摘要： Es ist eine Vorrichtung zur Höhenverstellung einer Einrichtung 2 gegenüber einer Aufstellfläche 3 offenbart. Die Vorrichtung 1 zur Höhenverstellung ist dabei derart ausgestattet, dass bei der Höhenverstellung keinerlei Reibung durch Drehung der Kontaktstellen der Vorrichtungen 1 zur Höhenverstellung mit der Aufstellfläche 3 durch Reibung hervorgerufen wird. Die Vorrichtung 1 zur Höhenverstellung besteht dabei aus einem Drehrad 8, einer Aufnahme 9 und einem Fuss 11. Dabei ist bei der Höhenverstellung das Drehrad 8 und der Fuss 11 gegenüber der ortsfesten Aufnahme 9 teleskopartig verschiebbar. Die Vorrichtung 1 zur Höhenverstellung ist dabei derart ausgestaltet, dass der Fuss 11 gegenüber dem Drehrad 8 eine doppelte Verschiebung zurücklegt. Ein Träger 30 für ein optisches System besitzt mehrere Vorrichtungen 1 zur Höhenverstellung, die mit dem Boden 5 eines Grundkörpers 31 des Trägers 30 verbunden sind. Am Träger 30 ist eine linke und eine rechte Handauflage 31 a und 31 b vorgesehen, die mit einer Scharnierung 32 am Grundkörper 31 des Trägers 30 befestigt sind, so dass die der Scharnierung gegenüberliegenden Kanten 32a der linken bzw. rechten Handauflage 31 a und 31 b unabhängig von der Höhenverstellung des Trägers 30 immer auf der Aufstellfläche 3 aufliegen.
摘要翻译：它是用于相对于所公开的安装面3a装置2的高度调节的装置。高度调节装置1被设置为使得没有摩擦是通过用于与通过摩擦安装表面3的高度调节装置1的接触点的转动高度调节过程中引起的。高度调节装置1包括一旋钮8，座9和脚11。在这种情况下，高度调节过程中，旋转旋钮8和相对于所述固定插座9的脚11是可伸缩地移动。高度调节装置1被构造成使得脚11行进相对于所述旋钮双移8 一个编码一种具有高度调节，其被连接到载体30日的基体31的底部5的多个装置1的光学系统中的载波30 上支撑件30，左和31和31b提供了一种右手的支持，这是在载体30，从而的基座31安装有一个铰链系统32的是，左手或右手支撑件31和31b的铰接边32a相反侧保持在支承面3上独立地支撑第30的高度调节的

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