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1. 发明申请

WO2010041874A2 줄기세포 증식용 나노패턴과 이를 이용하여 줄기세포의 증식을 증대시키는 방법 审中-公开
标题翻译：用于干细胞增殖的纳米图案和使用该纳米图案增强干细胞增殖的方法
公开(公告)号：WO2010041874A2
公开(公告)日：2010-04-15
申请号：PCT/KR2009/005740
申请日：2009-10-08
申请人： 서울대학교산학협력단 , 이규백 , 박용두 , 이원배
发明人： 이규백 , 박용두 , 이원배
IPC分类号： C12M1/18
CPC分类号： C12N5/0068 , C12N2533/10 , C12N2535/10
摘要： 본 발명은 줄기세포 증식용 나노패턴과 이를 이용하여 줄기세포의 증식을 증대시키는 방법에 관한 것으로 보다 상세하게는 잘 제어된 나노미터 크기의 반복 구조를 가지는 미세 패턴을 체계적으로 제조하고 그 패턴의 형태와 크기 등에 따라 줄기 세포의 세포 반응을 조절하는, 특히 증식력을 증대시키는 기술에 관한 것이다. 이를 위한 본 발명은 나노미터 수준의 패턴을 알루미늄 양극 산화 기법으로 제조하고 이로부터 임프란트 기법으로 전사한 육각 밀집 구조의 나노패턴에 있어서, 상기 패턴 구조의 직경은 45 ~ 90 nm 인 것을 특징으로 하는 줄기세포 증식용 나노패턴이다. 그리고 상기 나노 패턴의 간격은 100 ~ 120 nm인 정도인 것이 정도의 것이 바람직하다. 상기 범위의 경우에 줄기세포의 증식이 잘 이루어진다.
摘要翻译：本发明涉及用于干细胞增殖的纳米图案和用于增强干细胞增殖的方法，并且更具体地涉及具有良好控制的纳米级图案的微图案，更具体地说，涉及根据图案的形状和大小调节干细胞的细胞应答的技术，特别是增殖增强技术。本发明为此提供了六边形密集结构的纳米图案，其中，传送到所述植入物的技术来制备，从该铝阳极氧化技术的和纳米级的图案，图案结构的直径是干，其特征在于45〜90纳米它是细胞增殖的纳米图形。纳米图案的间隔优选为约100至120nm。在上述范围内，干细胞的增殖已经确立。

2. 发明申请

WO2011105870A3 마스크 없이 반응성 이온 식각만으로 쉽게 나노 패턴을 형성하는 방법 审中-公开
标题翻译：如何在没有掩模的情况下用反应离子刻蚀容易地形成纳米图案
公开(公告)号：WO2011105870A3
公开(公告)日：2011-09-01
申请号：PCT/KR2011/001388
申请日：2011-02-28
申请人： 고려대학교 산학협력단 , 이규백 , 이원배 , 김정숙
发明人： 이규백 , 이원배 , 김정숙
IPC分类号： H01L21/027
摘要： 본 발명은 나노 패턴을 형성하는 방법에 관한 것으로서, 보다 구체적으로는 1) 기판 상에 고분자 레지스트를 도포하는 단계, 2) 상기 고분자 레지스트가 도포된 기판에 산소 플라즈마 공정을 수행하여 다음 단계 3)에서 자가 마스크(self-mask) 형성 시 자가 마스크 물질의 부착 선택성을 부여할 수 있는 고분자 모패턴(polymeric mother pattern)을 만드는 단계, 및 3) 불소계 플라즈마 공정을 수행하여 고분자 모패턴에 자가 마스크(self-mask) 물질이 선택적으로 부착되도록 하고 반응성 이온 식각에 의하여 나노 패턴을 제조하는 단계를 포함하는 나노 패턴의 제조방법을 포함한다. 본 발명에 따른 나노 패턴을 형성하는 방법에 따라 포토마스크 및 현상의 단계가 필요 없이 간단한 공정만으로 기판 위에 나노 패턴을 제조할 수 있다.
摘要翻译：本发明涉及一种形成纳米图案的方法，更具体地，1）在衬底上涂覆聚合物抗蚀剂，2）对涂覆有聚合物抗蚀剂的衬底施加氧等离子体工艺，为了在下一步骤3）中形成自掩模形成期间能够赋予自掩模材料粘合选择性的聚合物母图案，以及3）通过进行含氟聚合物形成聚合物母图案的步骤，以及选择性地将自掩模材料附着到母图案并通过反应离子蚀刻来制造纳米图案的步骤。根据本发明的形成纳米图案的方法，可以通过没有光掩模和显影步骤的简单工艺在衬底上形成纳米图案。

3. 发明申请

WO2011078625A3 물방울의 표면부착 특성 조절이 가능한 알루미늄의 표면 처리방법 审中-公开
公开(公告)号：WO2011078625A3
公开(公告)日：2011-06-30
申请号：PCT/KR2010/009331
申请日：2010-12-24
申请人： 고려대학교 산학협력단 , 이규백 , 이원배 , 박보기
发明人： 이규백 , 이원배 , 박보기
IPC分类号： C25D11/04 , C23F1/02 , C25D11/18 , C23F1/20
摘要： 본 발명은 물방울의 표면부착 특성 조절이 가능한 알루미늄의 표면 처리방법에 관한 것으로, 보다 구체적으로는 알루미늄의 표면을 단계적 양극 산화 기법에 의하여 다중 미세구조로 형성하고 그 표면에 초소수성 개질을 통하여 양극 산화 코팅의 기존 장점을 모두 살리면서 이에 더하여 초소수적 점착 제어 특성이 부여되도록 알루미늄을 표면 처리하는 방법에 관한 것이다. 본 발명에 따르면, 양극 산화 피막 형성을 단계적으로 조절하고 자기 조립 단분자막을 형성하여 초소수성 점착특성의 조절이 가능한 알루미늄 표면 처리방법이 제공될 수 있어 다양한 기능성을 지닌 고부가가치의 알루미늄 제공이 가능하다.

4. 发明申请

WO2010041873A2 진공효과를 이용한 고분자 전구체의 나노기공 내 삽입방법 및 이를 이용한 나노패턴의 정밀 복제방법 审中-公开
标题翻译：使用真空效应将聚合物前体纳入纳米聚合物的方法和使用其的纳米复合材料的精密重复方法
公开(公告)号：WO2010041873A2
公开(公告)日：2010-04-15
申请号：PCT/KR2009/005739
申请日：2009-10-08
申请人： 서울대학교산학협력단 , 이규백 , 이원배 , 김정숙
发明人： 이규백 , 이원배 , 김정숙
IPC分类号： B82B1/00 , B82B3/00
CPC分类号： B81C99/008
摘要： 본 발명은 진공효과를 이용한 고분자 전구체의 나노기공 내 삽입방법 및 이를 이용한 나노패턴의 정밀 복제방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 수 ~ 수십 나노미터의 크기의 미세 구멍에 고분자 전구체와 같은 점성유체를 자유로이 삽입하여 수십 ~ 수백 제곱 센티미터에 걸친 대면적 고분자 기판에 미세 패턴을 정밀하게 제어된 형태로 전이하는 기술에 관한 것이다. 이를 위한 본 발명은 나노미터 수준의 미세 구멍을 가진 주형에 점성유체를 삽입하는 방법에 있어서, 상기 미세 구멍에 특정기체를 노출시켜 이를 충진 시킨 후 상기 특정기체에 대한 용해도가 높은 용매에 노출하여 상기 미세 구멍에 순간적으로 발생하는 음압효과(또는 진공효과)에 의해 상기 용매가 미세 구멍에 채워지고, 상기 용매와 잘 섞이는 또 다른 용매들을 순차적으로 노출시켜 최종적으로 상기 점성유체로 교환되는 것을 특징으로 하는 방법이다.
摘要翻译：本发明涉及使用真空效应将聚合物前体纳入纳米孔的方法，以及使用该方法精确复制纳米图案的方法，更具体地说，涉及一种粘合流体如聚合物前体自由插入的方法形成尺寸为数十纳米的细孔，以精确控制的形式将精细图案转印到几十到几百平方厘米的大面积聚合物基材上。为此，本发明提供了一种将粘性流体插入到具有纳米级细孔的模具中的方法，其中在所述细孔通过曝光填充了某些气体之后，然后对溶剂进行曝光，其溶解度为对于所述特定气体为高，使得所述细孔通过在所述细孔处突然和瞬时产生的负压效应（真空效应）填充所述溶剂，然后依次暴露出与所述溶剂良好混合的其它溶剂，因此使用所述粘性流体进行逐渐交换。

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