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    • 7. 发明申请
    • PRETREATMENT PROCESS FOR ALUMINUM AND HIGH ETCH CLEANER USED THEREIN
    • 在其中使用的铝和高度清洁剂的预处理方法
    • WO2011090692A2
    • 2011-07-28
    • PCT/US2010062125
    • 2010-12-27
    • HENKEL AG & CO KGAAKAPIC EDISSIENKOWSKI MICHAELGOODREAU BRUCE HCORNEN SOPHIE
    • KAPIC EDISSIENKOWSKI MICHAELGOODREAU BRUCE HCORNEN SOPHIE
    • C23F1/20C23F17/00
    • C23G1/22C11D7/06C11D7/265C11D7/3245C11D11/0029C23C22/78C23F1/36
    • Disclosed is a high etch cleaner for aluminum and aluminum alloy substrates that leads to enhanced corrosion protective performance of a variety of anti-corrosion pretreatments. The cleaner comprises very low levels of silicate of from 0 to 250 ppm, 50 to 500 ppm of at least one chelator selected from EDTA or its salts, NTA or its salts, DTPA or its salts, iminodisuccinic acid or its salts, EDDS or its salts, tartaric acid or its salts, or a mixture thereof, and has a high pH of from 11.0 to 13.5. Preferably the cleaner is used to etch from 0.5 to 4.0 grams per meter squared from the substrates. Substrates treated with the cleaner and then coated with a variety of anti-corrosion pretreatments and outer coatings show enhanced corrosion resistance compared to substrates cleaned with standard cleaners that have low etch rates, high silicate levels and no chelating agents followed by anti-corrosion pretreatments and outer coatings.
    • 公开了用于铝和铝合金基底的高蚀刻清洁剂,其导致各种防腐蚀预处理的增强的防腐蚀性能。 该清洁剂包含非常低含量的0-250ppm硅酸盐,50-500ppm至少一种螯合剂,选自EDTA或其盐,NTA或其盐,DTPA或其盐,亚氨基二琥珀酸或其盐,EDDS或其盐 盐,酒石酸或其盐,或其混合物,并且具有11.0至13.5的高pH。 优选地,清洁器用于从基底每平方米0.5到4.0克的蚀刻。 与使用标准清洁剂清洁的基材相比,使用清洁剂处理过的基材经过多种防腐蚀预处理和外涂层处理后表现出更强的耐腐蚀性,标准清洁剂的蚀刻速率较低,硅酸盐含量较高,不含螯合剂,接着进行防腐蚀预处理, 外涂层。
    • 8. 发明申请
    • アルミニウム塗装材及びその製造方法
    • 包覆铝材料及其制造方法
    • WO2011071105A1
    • 2011-06-16
    • PCT/JP2010/072109
    • 2010-12-09
    • 日本軽金属株式会社高澤 令子遠藤 正憲
    • 高澤 令子遠藤 正憲
    • B32B15/08B05D3/10B32B15/20C23F1/20
    • C23F1/20B05D2202/25C23C22/78
    •  アルミニウム又はアルミニウム合金製のアルミ形状体とクロムフリーの塗膜との間の界面の密着性及び気密性が極めて高く、過酷な環境下でも優れた耐食性を保持し、また、優れた耐久性を発揮し得るアルミニウム塗装材及びその製造方法を提供する。 表面に形成された凹凸部に起因する複数の凹状部を有するアルミニウム合金製のアルミ形状体と、この凹状部内に塗料が進入して固化した嵌入部を有する塗膜とで形成されており、前記凹状部と嵌入部とによりアルミ形状体と塗膜とが互いに係止されているアルミニウム塗装材であり、また、その製造方法である。
    • 提供一种涂覆铝材料,其包括由铝或铝合金构成的成形铝物体和无铬涂层,并且在成形铝物体和涂层之间具有极高的界面粘合性和气密性,即使在 恶劣的环境,可以表现出优异的耐久性。 还提供了用于生产涂覆的铝材料的方法。 涂覆的铝材料由以下部件构成:成形铝件,由铝合金构成,具有多个由于表面形成的凹凸而产生的凹部; 以及涂层,其具有通过将涂料渗透到凹部中并形成的填充部分。 通过凹部和填充部分的作用,成形的铝物体和涂层已经彼此接合。
    • 10. 发明申请
    • ELECTRON BEAM POLISHING OF ALUMINUM
    • 铝的电子束抛光
    • WO2013142442A1
    • 2013-09-26
    • PCT/US2013/032860
    • 2013-03-18
    • APPLE INC.
    • LANCASTER-LAROCQUE, Simon R.RAHARJO, PurwadiUEMURA, Kensuke
    • C23F4/04C23F1/20H01L21/3065
    • B23K15/0013B44C1/227C25F3/20
    • A highly polished surface on an aluminum substrate is formed using any number of machining processes. During the machining process, intermetallic compounds are typically generated at a top surface area of the aluminum substrate caused by spot heat generated between the tool edge and the cut tip of the aluminum substrate during the cutting process. The intermetallic compounds can leave surface imperfections after conventional mechanical polishing operations that render the surface of the aluminum substrate difficult to obtain a desired high glossiness due to exfoliation of the intermetallic compounds from the top surface. In order to remove the effect of the intermetallic compounds, an electron beam is applied to the surface resulting in Joule heating to melt down a top surface zone. In this way, any tooling traces and intermetallic compounds are eliminated.
    • 使用任何数量的加工工艺形成铝基板上高度抛光的表面。 在加工过程中,金属间化合物通常在铝基板的顶表面区域产生,这是由于在切割过程中工具边缘与铝基板的切割尖端之间产生的点热引起的。 金属间化合物可以在常规机械抛光操作之后留下表面缺陷,使得铝基材的表面由于顶表面的金属间化合物的剥落而难以获得期望的高光泽度。 为了去除金属间化合物的影响,电子束被施加到表面,导致焦耳加热以使顶表面区域熔化。 以这种方式,消除了任何工具痕迹和金属间化合物。