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1. 发明申请

WO2010067974A2 복수기판 처리장치 审中-公开
标题翻译：用于处理多个基板的装置
公开(公告)号：WO2010067974A2
公开(公告)日：2010-06-17
申请号：PCT/KR2009/007004
申请日：2009-11-26
申请人： 주식회사 아이피에스 , 황희 , 허필웅 , 서태욱 , 박상준 , 이호영 , 김영준
发明人： 황희 , 허필웅 , 서태욱 , 박상준 , 이호영 , 김영준
IPC分类号： H01L21/205 , H01L21/00
CPC分类号： H01L21/68764 , C23C16/45565 , H01L21/68771
摘要： 본 발명은 기판에 박막이 균일한 두께로 증학될 수 있으며, 샤워헤드를 용이하게 재구성할 수 있도록 구조가 개선된 복수기판 처리장치에 관한 것이다. 본 발명에 따른 복수기판 처리장치는 내부에 공정 공간이 형성되어 있는 챔버와, 챔버의 공정 공간에 설치되며, 상면의 둘레 방향을 따라 기판이 안착되는 복수의 안착부가 마련되어 있는 기판 지지대와, 기판 지지대의 상측에 방사형으로 배치되며, 기판을 향하여 원료가스를 분사하는 복수의 원료가스분사유닛을 가지는 샤워헤드를 구비하되, 원료가스분사유닛에는, 기판 지지대의 중앙으로부터 가장자리 쪽으로 갈수록 원료가스의 분사량이 증가되도록 원료가스가 분사되는 복수의 노즐이 마련되어 있다.
摘要翻译：本发明涉及一种用于处理多个基板的设备，其具有改进的结构，以便在均匀厚度的基板上沉积薄膜，并且以简单的方式布置淋浴头。根据本发明的用于处理多个基板的设备包括：具有内部的室，其具有用于处理的空间; 基板支撑体，其安装在所述室的空间中，并且沿着其上表面的周向具有多个安装部，以使基板能够安装在各个安装部中; 以及径向设置在基板支撑件上的喷头，并且具有多个用于将材料气体喷射到基板上的材料气体喷射单元。材料气体喷射单元配备有多个喷嘴，用于喷射材料气体，使得被喷射的原料气体的量随着从基板支撑件的中心朝向角落而增加。

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