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1. 发明申请

WO2010038372A1 表面処理装置审中-公开
标题翻译：表面处理设备
公开(公告)号：WO2010038372A1
公开(公告)日：2010-04-08
申请号：PCT/JP2009/004634
申请日：2009-09-16
申请人：積水化学工業株式会社 , 梅岡尚 , 八木沢博史 , 真弓聡
发明人：梅岡尚 , 八木沢博史 , 真弓聡
IPC分类号： H01L21/3065 , H01L21/304
CPC分类号： H01J37/32376 , H01J37/3244 , H01J37/32449 , H01J37/32761 , H01J37/32834 , H01L21/3065 , H01L21/67051 , H01L21/6776
摘要：　表面処理用の処理槽に設けた、被処理物の出し入れ用の開口でのガスの流れを安定させる。　被処理物９を搬送方向に沿って搬入開口１３から処理槽１０の内部に搬入し、処理空間１９に配置する。供給系３０から処理ガスを処理空間１９に供給し、被処理物９を表面処理する。その後、被処理物９を搬出開口１４から搬出する。排気系４０で処理槽１０の内部からガスを排出する。開口１３，１４を、互いに上記搬送方向と直交する対向方向に対向距離Ｄを隔てて対向する一対の整流面１７，１８によって画成する。開口１３，１４の上記搬送方向に沿う奥行きＬを、対向距離Ｄの２倍以上とし、好ましくは６倍以上とする。
摘要翻译：为了进出待处理对象的目的而布置在表面处理槽上的开口中的气体流动是稳定的。待处理对象（9）从搬入口（13）沿传送方向被搬送到处理槽（10）中，并且布置在处理空间（19）中。处理气体从供给系统（30）供给到处理空间（19），处理对象物（9）的表面。然后，从进出口（14）进行待处理对象（9）。气体通过空气释放系统（40）从处理罐（10）的内部释放。开口（13,14）由一对流动整流面（17,18）限定，所述一对流动矫正面（17,18）在与传送方向正交的相对方向上面对着相对的距离（D）。开口（13,14）在传送方向上的深度（L）设定为相对方向（D）的两倍以上，优选为六倍以上。

2. 发明申请

WO2010029718A1 プラズマ処理方法及び装置审中-公开
标题翻译：用于等离子体处理的方法和装置
公开(公告)号：WO2010029718A1
公开(公告)日：2010-03-18
申请号：PCT/JP2009/004403
申请日：2009-09-07
申请人：積水化学工業株式会社 , 真弓聡 , 功刀俊介 , 佐藤崇 , 梅岡尚
发明人：真弓聡 , 功刀俊介 , 佐藤崇 , 梅岡尚
IPC分类号： B01J19/08 , B01D53/22 , H01L21/3065
CPC分类号： B01D53/229 , B01D2257/2027 , B01D2258/0216 , H01L21/32137
摘要：　大気圧プラズマ処理において、フッ素原料の回収率又は回収濃度の変動を抑制し、処理の安定性を確保する。　大気圧プラズマ処理部２から排出ライン３０に出された排出ガスを、分離部４の分離膜４１で回収ライン５０への回収ガスと放出ライン６０への放出ガスに分離する。回収ガスをプロセスガスの少なくとも一部に充てる。上記分離に際し、フッ素系原料の回収率及び回収濃度のうち何れか一方又は両方が所望になるよう、回収ガス、放出ガス、排出ガスのうち少なくとも２つのガスの上記分離に係る物理量（好ましくは圧力）をプロセスガスの流量に応じて調節する。
摘要翻译：提供了一种用于等离子体处理的方法和装置，其中在大气压等离子体处理中抑制氟原料的回收率或回收浓度的变化，以确保处理的稳定性。从大气压等离子体处理部（2）向排气管（30）排出的排气，通过分离膜（102）将回收气体分离回到回收管路（50），排出气体通过分离膜（60） 41）分离部分（4）。回收气体被施加至至少一部分处理气体。在分离时，根据处理气体的流量调节与分离回收气体，排放气体和排气中的至少两种有关的物理量（优选地，压力），使得氟化原料的回收率或/和回收浓度中的一种或两种变得需要一种。

3. 发明申请

WO2010038371A1 表面処理装置审中-公开
标题翻译：表面加工设备
公开(公告)号：WO2010038371A1
公开(公告)日：2010-04-08
申请号：PCT/JP2009/004632
申请日：2009-09-16
申请人：積水化学工業株式会社 , 梅岡尚 , 八木沢博史 , 真弓聡 , 佐藤崇 , 功刀俊介
发明人：梅岡尚 , 真弓聡 , 佐藤崇 , 功刀俊介
IPC分类号： H01L21/3065 , H01L21/304 , H01L21/31
CPC分类号： H01J37/32752 , H01J37/3244 , H01J37/32449 , H01L21/67069
摘要：　被処理物を表面処理する処理槽から処理ガスが漏れるのを防止し、かつ処理空間での処理ガスの流れを安定化する。　被処理物９を搬送手段２０によって搬入開口１３から処理槽１０の内部に搬入し、処理空間１９に配置する。供給系３０から処理ガスを処理空間１９に供給し、被処理物９を表面処理する。その後、被処理物９を搬出開口１４から搬出する。排気系４０で処理槽１０の内部からガスを排出する。このガス排出によって外部のガスが開口１３，１４を通して処理槽１０の内部に流入する。この流入ガスの平均流速が、０．１ｍ／ｓｅｃ以上、かつ流入ガスが処理空間１９に達する大きさ未満になるよう設定する。
摘要翻译：防止处理气体从处理槽泄漏，对处理对象进行表面处理，并且处理气体的流动在处理空间中稳定。待处理对象（9）通过来自搬入开口（13）的转印装置（20）运送到处理罐（10）的内部，并且布置在处理空间（19）中。从供给系统（30）向处理空间（19）供给处理气体，对被处理物（9）的表面进行处理。然后，从进出口（14）进行待处理对象（9）。气体通过气体释放系统（40）从处理罐（10）的内部释放。通过这种气体释放，外部气体通过开口（13,14）流到处理罐（10）的内部。流入气体的平均流速设定为0.1m /秒以上但不高于流入气体到达处理空间（19）的水平。

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