会员体验
专利管家(专利管理)
工作空间(专利管理)
风险监控(情报监控)
数据分析(专利分析)
侵权分析(诉讼无效)
联系我们
交流群
官方交流:
QQ群: 891211   
微信请扫码    >>>
现在联系顾问~
热词
    • 2. 发明申请
    • 不飽和脂肪酸エステル及びこれを用いた重合性液晶組成物、光学異方性材料、光学素子
    • 不饱和脂肪酸酯和可聚合的液晶组合物,光学的各向异性材料和光学元素,通过使用ESTERS
    • WO2008026482A1
    • 2008-03-06
    • PCT/JP2007/066215
    • 2007-08-21
    • 旭硝子株式会社海田 由里子中野 貴志山本 祐治澤口 正紀森澤 義富
    • 海田 由里子中野 貴志山本 祐治澤口 正紀森澤 義富
    • C07C69/653C07C255/54C08F220/30C09K19/12C09K19/30C09K19/38G02B5/30G02F1/13
    • C09K19/12C07C69/653C07C255/54C08F220/30C09K19/3003C09K19/3852C09K2019/0448
    •  膜厚むら及び配向乱れを同時に抑制し、室温に放置しても結晶が析出し難く、耐熱性を有する重合物を調製可能な新規不飽和脂肪酸エステル、これを用いた重合性液晶組成物、光学異方性材料及び光学素子を提供する。  不飽和脂肪酸エステルは下式(1)で表され、これを含む重合性液晶組成物を調製し、重合して光学異方性材料及び光学素子が提供される。式中、R F :炭素数2~12のポリフルオロアルキレン基、又は-CF 2 -(OCF 2 CF 2 ) x -OCF 2 -で表される基(xは1~6の整数)。R 1 :水素原子又はメチル基。R 2 :炭素数1~8のアルキル基、炭素数1~8のアルコキシ基、フッ素原子、又はシアノ基。E 1 :1,4-フェニレン基。E 2 、E 3 、E 4 :各々独立に1,4-フェニレン基又はトランス-1,4-シクロヘキシレン基である。m:1~3の整数。n:1~3の整数。k:0又は1。h:0又は1。    CH 2 =CR 1 -COO-(CH 2 ) m -R F -(CH 2 ) n -O-E 1 -(E 2 ) k -(E 3 ) h -E 4 -R 2  (1)
    • 新型不饱和脂肪酸酯,即使在室温下放置并且可以得到耐热聚合物,其膜厚不均匀性降低,取向紊乱也很少引起结晶, 和可聚合液晶组合物,通过使用酯制成的光学各向异性材料和光学元件。 由通式(1)表示的不饱和脂肪酸酯; 含有酯的聚合性液晶组合物; 和通过聚合组合物制备的光学各向异性材料和光学元件:CH 2 = CR 1 -COO-(CH 2 2) 米 -R ˚F - (CH 2 名词 -OE 1 - (E 2 ķ - (E 3 ħ -E 4 -R (1)其中R F是具有2至12个碳原子的多氟亚烷基或-CF 2 - (OCF 2 CF 2) (其中x是1至6的整数);和(c)其中x是1至6的整数。 R 1是氢或甲基; R 2是具有1至8个碳原子的烷基,具有1至8个碳原子的烷氧基,氟或氰基; E 1是1,4-亚苯基; E 2,E 3和E 4各自独立地为1,4-亚苯基或反式-1,4-亚环己基; m为1〜3的整数。 n为1〜3的整数, k为0或1; h为0或1。
    • 4. 发明申请
    • 電子線、X線またはEUV光を用いたリソグラフィー法に用いられるレジスト組成物
    • 使用电子束,X射线或EUV光的光刻工艺使用的耐蚀组合物。
    • WO2009011364A1
    • 2009-01-22
    • PCT/JP2008/062847
    • 2008-07-16
    • 旭硝子株式会社佐々木 崇澤口 正紀横小路 修
    • 佐々木 崇澤口 正紀横小路 修
    • G03F7/039H01L21/027
    • G03F7/0392G03F7/0046
    •  電子線、X線またはEUV光を用いたリソグラフィー法に用いられるレジスト組成物を提供する。  主鎖に結合したフッ素原子または含フッ素アルキル基を有し、側鎖に芳香族環構造を有する繰り返し単位(F)を含む酸の作用によりアルカリ溶解性が増大する含フッ素重合体(PF)と、酸発生剤とを含む、電子線、X線またはEUV光を用いたリソグラフィー法に用いられるレジスト組成物。たとえば、前記繰り返し単位(F)は、下記繰り返し単位(F V 1)、(F V 2)、(F V 3)および(F V 4)からなる群から選ばれる少なくとも1種の繰り返し単位(F V n)である(X F1 は-Fまたは-CF 3 を、r1およびr2はそれぞれ独立に0~2の整数(r1とr2の和は1~3の整数である。)を、Y F はアルキル基、アルコキシアルキル基、アルキルカルボニル基およびアルコキシカルボニルアルキル基からなる群から選ばれる、フッ素原子を有していてもよい炭素数1~20の基、W F はアルキル基、アルコキシアルキル基およびアルコキシカルボニルアルキル基からなる群から選ばれる、フッ素原子を有していてもよい炭素数1~20の基、を示す。)。
    • 公开了用于使用电子束,X射线或EUV光的光刻工艺的抗蚀剂组合物。 具体公开了用于使用电子束,X射线或EUV光的光刻工艺的抗蚀剂组合物,其含有含有氟原子或含氟的重复单元(F)的含氟聚合物(PF) 与主链键合的烷基和在酸的作用下碱溶性增加的侧链中的芳香环结构和酸发生剂。 例如,重复单元(F)为选自下述重复单元(FV1),(FV2),(FV3),(FV4))中的至少一种重复单元(FVn)。 (在下式中,XF1表示-F-或-CF3-; r1和r2独立地表示0-2的整数(r1和r2的和为1-3的整数); YF表示具有1 -20个碳原子,并且任选地含有选自烷基,烷氧基烷基,烷氧基羰基和烷氧基羰基烷基的氟原子; WF表示具有1-20个碳原子并且任选地含有氟原子的基团,其中 选自烷基,烷氧基烷基和烷氧基羰基烷基。)