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    • 1. 发明申请
    • 縦型熱処理装置及びその制御方法
    • 垂直热处理装置及其控制方法
    • WO2005064254A1
    • 2005-07-14
    • PCT/JP2004/019251
    • 2004-12-22
    • 東京エレクトロン株式会社中島 誠齋藤 孝規滝澤 剛本間 学
    • 中島 誠齋藤 孝規滝澤 剛本間 学
    • F27B5/18
    • F27B17/0025F27B5/04F27B5/18
    •  縦型熱処理装置は、処理領域(A1)を有する処理容器(5)を含む。処理領域(A1)は上下方向に間隔をおいて保持された複数枚の被処理基板(W)を収容するように設定される。装置はまた、処理容器(5)を包囲するように配設された電気ヒータ(15)を有する加熱炉(8)と、加熱炉(8)内に冷却ガスを送風する電気送風機(16)と、を含む。制御部(22)は、処理領域(A1)を目標温度に収束させるため、ヒータ(15)に給電して目標温度の直下の所定温度まで処理領域を加熱する。所定温度になった時点で、ヒータ(15)への給電を低下させると共に、送風機(16)により供給される冷却ガスにより処理領域(A1)を強制的に冷却する。
    • 立式热处理装置包括具有处理区域(A1)的处理容器(5)。 处理区域(A1)被设定为接收以垂直间隔保持的被处理基板(W)。 该装置还具有加热炉(8),该加热炉具有设置成围绕处理容器(5)的电加热器(15),并具有用于将冷却气体吹入加热炉(8)的电动鼓风机(16)。 为了使处理区域(A1)的温度收敛于目标温度,控制部件(22)向加热器(15)供电以将处理区域(A1)加热到直接低于目标温度的预定温度 。 当达到预定温度时,减少对加热器(15)的供电,同时,处理区域(A1)被由鼓风机(16)供应的冷却气体强制冷却。