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1. 发明申请

WO2011105461A1 露光装置用光照射装置、露光装置、露光方法、基板の製造方法、マスク、及び被露光基板审中-公开
标题翻译：用于曝光装置的光学投影装置，曝光装置，曝光方法，用于制作基板，掩模和曝光基板的方法
公开(公告)号：WO2011105461A1
公开(公告)日：2011-09-01
申请号：PCT/JP2011/054051
申请日：2011-02-23
申请人： NSKテクノロジー株式会社 , 川島洋徳 , 橋永宙 , 富樫工 , 松坂昌明
发明人：川島　洋徳 , 橋永　宙 , 富樫　工 , 松坂　昌明
IPC分类号： G03F7/20 , G03F1/08 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/7035 , G03F7/7005 , G03F7/70075
摘要：　高価なマスクを用いることなく、解像度を改善することが可能な露光装置用光照射装置、近接露光装置、及び近接露光方法、並びに基板の製造方法を提供する。また、カラーフィルタまたは液晶パネルを効率よく製造することができるマスク、被露光基板、露光装置及び露光方法を提供する。　近接露光装置は、複数の光源部７３から出射される光の主光軸Ｌがインテグレータ７４の周辺部に分散して入射される。また、マスクは、被露光基板に露光するパターンが形成された露光パターンと、露光パターンの外縁の第１の辺に隣接した位置に形成された第１のアライメントマークと、露光パターンの外縁の第１の辺に対向する第２の辺に隣接した位置に形成された第２のアライメントマークと、を有し、第１のアライメントマークは、ステップ方向から見た場合において、第２のアライメントマークが形成されている位置とは、重ならない位置に配置されている。
摘要翻译：公开了一种用于曝光装置的光学投影装置，接近曝光装置，接近曝光方法和用于制造基板的方法，其能够在不使用昂贵的掩模的情况下提供改进的分辨率。还公开了掩模，曝光基板，曝光装置和曝光方法，其能够有效地制造滤色器或液晶面板。接近曝光装置允许从多个光源（73）发射的光束的主光轴（L）分散地入射到积分器（74）周围的区域。掩模具有曝光图案，其具有形成为转印到暴露的基板的图案。掩模还包括与曝光图案的外边缘的第一侧相邻形成的第一对准标记，以及与面对曝光图案的外边缘的第一侧的第二侧相邻形成的第二对准标记。第一对准标记被设置成当从步进方向观察时不与第二对准标记重叠。

2. 发明申请

WO2011065380A1 プリアライメント装置及びプリアライメント方法审中-公开
标题翻译：预对准设备和预对准方法
公开(公告)号：WO2011065380A1
公开(公告)日：2011-06-03
申请号：PCT/JP2010/070933
申请日：2010-11-24
申请人：日本精工株式会社 , 橋永宙
发明人：橋永　宙
IPC分类号： G03F9/00 , G03F7/20 , H01L21/027 , H01L21/683
CPC分类号： G03F7/70916 , G03F7/70875 , G03F7/70991 , G03F9/7011 , H01L21/67109 , H01L21/67225
摘要：　露光ユニット全体を小型化することができ、また、タクトタイムの短縮を図ることができるプリアライメント装置及びプリアライメント方法を提供する。　プリアライメント装置２０は、精密温調プレート２２に載置された基板Ｗを温調する基板温調機構、精密温調プレート２２に載置された基板の異物を検出する異物検出機構３４を有することで、プリアライメント装置２０と基板温調機構と異物検出機構が単一の装置となり、また、搬送用ロボットの数も削減でき、露光ユニット全体を小型化することができる。また、温調が行われている基板にプリアライメント、異物検出を行うことで、タクトタイムの短縮を図ることができる。
摘要翻译：公开了一种可以减小整个曝光单元的尺寸的预对准装置，并且可以缩短节拍时间。还公开了预对准方法。预对准装置（20）具有控制放置在精密温度控制板（22）上的基板（W）的温度的基板温度控制机构和检测异物的异物检测机构（34）在放置在精密温度控制板（22）上的基板上。因此，预定位装置（20），基板温度控制机构和异物检测机构被集成到单个装置中，减少了传送机器人的数量，并且减小了整个曝光单元的尺寸。此外，通过对其温度进行控制的基板进行预对准和异物检测来缩短生产节拍时间。

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