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1. 发明申请

WO2009122846A1 ターゲット交換式プラズマ発生装置审中-公开
标题翻译：目标交换型等离子发生器
公开(公告)号：WO2009122846A1
公开(公告)日：2009-10-08
申请号：PCT/JP2009/054015
申请日：2009-03-04
申请人：株式会社フェローテック , 椎名祐一
发明人：椎名祐一
IPC分类号： C23C14/32
CPC分类号： C23C14/3464 , C23C14/325 , H01J37/32055 , H01J37/3435
摘要：　本発明は、２つのターゲットの位置を独立に調整することができるターゲット交換式プラズマ発生装置を提供することを目的とする。　本発明は、真空アーク放電によりプラズマを発生させるプラズマ発生装置に具備されるターゲット交換機構６が、主モータＭにより半回転駆動される主ホルダ３２と、これらの直径方向の対向位置に設けられた収容部３２ａ、３２ｂと、収容部３２ａ、３２ｂに回転自在に収納された副ホルダ１６、１８と、これらを自転させる２つの副モータＭ１、Ｍ２と、副ホルダ１６、１８をその自転軸方向に昇降させるスライダＳ１、Ｓ２と、副ホルダ１６、１８に嵌合されるターゲットＴ１、Ｔ２から構成され、主ホルダ３２を半回転させてターゲットＴ１、Ｔ２の位置を交換し、主ホルダ３２の不動時にターゲットＴ１、Ｔ２を放電位置と研磨位置に独立に昇降自転駆動するターゲット交換式プラズマ発生装置である。
摘要翻译：一种目标交换式等离子体发生器，其中可以彼此独立地调节两个目标的位置。用于通过真空电弧放电产生等离子体的等离子体发生器的目标交换机构（6）包括由主电动机（M）驱动半转的主保持器（32），包含彼此相对布置的部分（32a，32b）主保持件的直径，可旋转地容纳在容纳部分（32a，32b）中的辅助保持器（16,18），用于使辅助保持器旋转的两个辅助马达（M1，M2），用于垂直移动辅助保持器（16,18）沿着辅助保持器的旋转轴线的方向，以及装配到辅助保持器（16,18）的目标（T1，T2）。通过使主保持器（32）旋转半个旋转来交换目标（T1，T2）的位置。当主支架（32）不移动时，目标（T1，T2）被驱动以便彼此独立地旋转和垂直移动到排出位置和抛光位置。

2. 发明申请

WO2008038700A1 拡径管型プラズマ生成装置审中-公开
标题翻译：放射式放大型等离子体发生装置
公开(公告)号：WO2008038700A1
公开(公告)日：2008-04-03
申请号：PCT/JP2007/068777
申请日：2007-09-27
申请人：株式会社フェローテック , 椎名祐一
发明人：椎名祐一
IPC分类号： H05H1/24 , C23C14/24 , C23C14/32
CPC分类号： H01J37/32357 , C23C14/325 , H01J37/32055
摘要：　本発明の目的は、プラズマに混入するドロップレットを効率的に除去し、しかも簡易かつ安価にドロップレット除去部を構成でき、高純度プラズマによる成膜等の表面処理精度の向上を図ることのできるプラズマ生成装置を提供することである。　プラズマ進行路５には、プラズマの発生時に陰極４から副生するドロップレットを除去するドロップレット除去部が配置されている。このドロップレット除去部は、プラズマ進行路５を形成する拡径管３と、拡径管３のプラズマ導入側始端に連接された導入側縮径管３４と、拡径管３のプラズマ排出側終端に連接された排出側縮径管３９と、拡径管３の始端及び終端に形成された段差部４０とから構成される。
摘要翻译：旨在提供一种等离子体发生装置，其可以有效地消除这样的液滴，否则其可以迁移到等离子体中，并且可以简单且廉价地构成液滴消除部分，从而提高表面处理精度，例如用高纯度等离子体。在等离子体行进路径（5）中，设置有用于消除在等离子体产生时由阴极（4）副产生的液滴的液滴消除部分。该液滴消除部分包括形成等离子体行进路径（5）的放大管（3），与放大管（3）的等离子体引入侧初始端连接的引入侧径向缩径管（34），排出侧连接到放大管（3）的等离子体放电侧终端的径向缩径管（39）和形成在放大管（3）的初始端和末端的阶梯部（40）。

3. 发明申请

WO2005089031A1 プラズマ生成装置审中-公开
标题翻译：等离子发生器
公开(公告)号：WO2005089031A1
公开(公告)日：2005-09-22
申请号：PCT/JP2005/002477
申请日：2005-02-17
申请人：株式会社フェローテック , 滝川浩史 , 椎名祐一
发明人：滝川浩史 , 椎名祐一
IPC分类号： H05H1/50
CPC分类号： C23C14/325 , H01J37/32055 , H01J37/32614 , H05H1/50
摘要：　陰極アークプラズマの起動・維持・停止などのシーケンス操作を繰り返す断続稼働を長期間行うことができるプラズマ発生装置を実現する。　本発明に係る薄膜生成用プラズマ生成装置は、アークプラズマの構成粒子を供給する陰極４とアークプラズマの起動及び維持用のトリガー兼陽極６が配置されている。前記陰極４の陰極面４ａは平坦又は微細な凹凸形状を有し、前記陰極面４ａと接触するトリガー兼陽極６の陽極面６ｃは平坦な表面を有している。プラズマ起動時に前記陽極面６ｃが陰極面４ａの全面に当接するように配置され、前記陰極面４ａの微細な凸部先端４ｂと前記陽極面６ｃの接触点をプラズマ放出点とし、プラズマの放出により凸部が消耗した場合、陽極面６ｃと接触可能な他の凸部先端を新たなプラズマ放出点とし、前記シーケンス操作を持続的に繰り返す断続稼働をする場合に、安定したプラズマを長期間生成できる。
摘要翻译：一种等离子体发生器，能够长时间执行重复包括阴极电弧等离子体的开始，维持和停止的序列操作的间歇操作。用于形成薄膜的等离子体发生器包括用于供应电弧等离子体的构成颗粒的阴极（4）和用于启动和维持电弧等离子体的触发器 - 阳极（6）。阴极（4）的阴极表面（4a）是平坦的或细微的，并且与阴极表面（4a）接触的触发器 - 阳极（6）的阳极表面（6c）是平坦的。阳极表面（6c）被布置成当等离子体开始时与整个阴极表面（4a）接触。阴极表面（4a）的细突出端（4b）和阳极表面（6c）之间的接触点被制成等离子体发射点。当通过等离子体发射消耗投影时，可以将与阳极表面（6c）接触的另一突出端用作另一等离子体发射点，从而能够间歇地操作持续重复序列操作。因此，可以长时间地产生稳定的等离子体。

4. 发明申请

WO2005074334A1 プラズマ生成装置审中-公开
标题翻译：等离子体生产设备
公开(公告)号：WO2005074334A1
公开(公告)日：2005-08-11
申请号：PCT/JP2005/001010
申请日：2005-01-26
申请人：株式会社フェローテック , 滝川浩史 , 椎名祐一
发明人：滝川浩史 , 椎名祐一
IPC分类号： H05H1/50
CPC分类号： H05H1/50
摘要：　アーク放電部から進行するプラズマとドロップレットを確実に分離でき、プラズマはプラズマ進行路に導きドロップレットはドロップレット捕集部に確実に捕集でき、プラズマ進行路へのドロップレットの進入を防止する。　アーク放電部１の真空アーク放電でプラズマを発生させ、プラズマ発生時に陰極から副生するドロップレットをドロップレット捕集部３に捕集するもので、プラズマとドロップレットが混合状態で進行する主進行路２を設け、主進行路２をドロップレットが進行するドロップレット進行路４とプラズマが進行する第１プラズマ進行路５とに分岐し、主進行路２の途中部にプラズマとドロップレットの進行を制限するための制限板７を設け、制限板７を通過したドロップレットをドロップレット捕集部３に向けて反射させる斜行壁８をドロップレット進行路４の途中部に設け且つ第１プラズマ進行路５を越えた位置に形成する。
摘要翻译：从电弧放电部分行进的等离子体与液滴完全分离。等离子体被引导到等离子体行进通道中，并且液滴被完全收集在液滴收集部分中，从而防止液滴进入等离子体行进通道。在电弧放电部分（1）中通过真空电弧放电产生等离子体，并且当产生等离子体时在阴极处作为副产物产生的液滴被收集在液滴收集部分（3）中。提供等离子体和液滴的混合物行进的主行进通道（2）。主行进通道（2）分支成液滴行进的液滴行进通道（4）和等离子体行进的第一等离子体行进部分（5）。在主行进通道（2）的一部分中，设置有用于限制等离子体和液滴的行进的限制板（7）。在第一等离子体行进部分（5）之外，在液滴行进通道（4）的一部分中设置有用于将通过限制板（7）的液滴反射向液滴收集部（3）的倾斜壁（8）。

5. 发明申请

WO2011001739A1 陽極壁多分割型プラズマ発生装置及びプラズマ処理装置审中-公开
标题翻译：多分离阳极壁等离子体生成装置和等离子体处理装置
公开(公告)号：WO2011001739A1
公开(公告)日：2011-01-06
申请号：PCT/JP2010/057770
申请日：2010-05-06
申请人：株式会社フェローテック , 椎名祐一 , 渡邊巖
发明人：椎名　祐一 , 渡邊　巖
IPC分类号： C23C14/24 , C23C14/06 , H01L21/31 , H05H1/48
CPC分类号： H01J37/3255 , C23C14/0605 , C23C14/325 , C23C14/564 , H01J37/32357 , H01J37/32467 , H01J37/32477
摘要：　本発明の目的は、拡散プラズマにより陽極内壁に付着、堆積した堆積物が剥落して陰極と陽極間を短絡することを防止することができる陽極壁多分割型プラズマ発生装置及びそれを用いたプラズマ処理装置を提供することである。　陰極２と陽極３の間で発生したプラズマＰが陰極２より前方に向けて放出され、拡散する際、拡散物質４１が電極筒体内壁に再結晶化して付着、堆積して、カーボンフレーク４０として剥落する。電極筒体内壁を縦横の溝３７、３８によってマトリクス状に多分割されている。多数の突部３５の堆積物分離作用により、拡散プラズマが陽極３に付着、堆積しても、堆積物が微細化され、大型乃至長尺状の堆積物が生じない。小片の突部３９から微細片としてのカーボンフレーク４０が剥落して、堆積物が剥落して陰極２と陽極３に跨って架橋することがなく、両極間の短絡現象の発生を防止することができる。
摘要翻译：公开了一种多分离阳极壁等离子体生成装置，其中即使沉积物通过扩散等离子体剥离附着并沉积在阳极的内壁上，也不会引起阴极和阳极之间的短路。还公开了使用其的等离子体处理装置。当阴极（2）和阳极（3）之间产生的等离子体（P）从阴极（2）向前排出并扩散时，扩散物质（41）重结晶，粘附并沉积在阴极电极圆筒，并且作为碳薄片（40）剥离。电极圆柱体的内壁通过纵向和横向凹槽（37,38）被多分成矩阵。即使扩散等离子体粘附并沉积在阳极（3）上，由于多个突起（35）的沉积分离作用，沉积物非常小，并且不产生大的沉积物并且不产生长的沉积物。碳薄片（40）从小尺寸的突起（39）剥离为小块，没有剥离的沉积物延伸并且阴极（2）和阳极（3）之间的短路，从而在防止两个电极。

6. 发明申请

WO2010113544A1 絶縁体介装型プラズマ処理装置审中-公开
标题翻译：绝缘子等离子体处理装置
公开(公告)号：WO2010113544A1
公开(公告)日：2010-10-07
申请号：PCT/JP2010/051936
申请日：2010-02-10
申请人：株式会社フェローテック , 椎名祐一
发明人：椎名　祐一
IPC分类号： C23C14/24 , H05H1/48
CPC分类号： H01J37/32422 , C23C14/325 , C23C14/564 , H01J37/32055 , H01J37/32357 , H01J37/32376 , H01J37/32669 , H01J37/32871
摘要：　プラズマに混入する帯電ドロップレット及び中性ドロップレットをより効率的に除去でき、高純度プラズマによる成膜等の表面処理精度の向上を図る。　プラズマ発生部Ａとプラズマ輸送管Ｂとプラズマ処理部Ｃを含むプラズマ処理装置において、プラズマ輸送管の始端側と終端側に絶縁体ＩＳ及び絶縁体ＩＦを介し、プラズマ輸送管Ｂをプラズマ発生部Ａとプラズマ処理部Ｃから電気的に独立させた絶縁体介装型プラズマ処理装置を構成する。プラズマ輸送管Ｂを中間絶縁体ＩＩ１を介して複数の小輸送管Ｂ０１、Ｂ２３に分割し、各小輸送管を電気的に独立させる。プラズマ輸送管又は複数の小輸送管を電気的浮動状態にし、又は輸送管用バイアス電源ＥＢ０１、ＥＢ２３を接続して、プラズマ輸送管又は小輸送管の電位をＧＮＤ、可変正電位又は可変負電位に設定可能にする。又、小輸送管を屈曲状に連接して幾何学的構造でドロップレットを除去する。
摘要翻译：通过高纯度等离子体可以更有效地消除混合在等离子体中的电荷液滴和中性液滴，以提高沉积等的表面处理精度。一种等离子体处理装置，包括等离子体产生部分（A），等离子体输送管（B）和等离子体处理部分（C），其中等离子体输送管（B）电绝缘等离子体发生部分（A）和等离子体处理部分（C）构造在等离子体输送管的前缘侧和端边缘侧，其间插入有绝缘体（IS）和绝缘体（IF）。等离子体输送管（B）被分成多个小型输送管（B01，B23），其间插入有中间绝缘体（II1），以引起每个小输送管的电独立性。等离子体输送管或多个小输送管进入电浮动状态，或输送管偏压电源（EB01，EB23）连接到等离子体输送管或小输送管，以便能够设定等离子体输送管或小输送管对GND，可变正电位或可变负电位的电位。此外，小的输送管以弯曲的形式连续地安装，以消除几何结构中的液滴。

7. 发明申请

WO2006104056A1 プラズマ生成装置におけるドロップレット除去装置及びドロップレット除去方法审中-公开
标题翻译：等离子体生成装置中的去除液体脱除装置和脱墨方法
公开(公告)号：WO2006104056A1
公开(公告)日：2006-10-05
申请号：PCT/JP2006/306007
申请日：2006-03-24
申请人：株式会社フェローテック , 国立大学法人豊橋技術科学大学 , 椎名祐一 , 滝川浩史
发明人：椎名祐一 , 滝川浩史
IPC分类号： C23C14/32
CPC分类号： H01J37/3266 , H01J2237/022
摘要：　プラズマ生成装置において生成されるプラズマとドロップレットとの混合状態からドロップレットを確実に除去することができるプラズマ生成装置におけるドロップレット除去装置を提供することである。　真空アーク放電を行ってプラズマを発生させ、このプラズマとプラズマの発生時に陰極から副生するドロップレットとの混合状態であるドロップレット混合プラズマが進行する筒状進行路が設けられ、この筒状進行路の断面周方向に回転磁場を発生させる回転磁場印加手段が少なくとも１つ以上設けられ、この回転磁場印加手段により前記ドロップレット混合プラズマに回転磁場を印加し、前記ドロップレット混合プラズマを回転させながら前記筒状進行路を進行させて前記ドロップレットを遠心力により除去するプラズマ生成装置におけるドロップレット除去装置である。
摘要翻译：在等离子体产生装置中提供了一种液滴去除装置，其能够可靠地从等离子体产生装置中产生的等离子体和液滴的混合物中除去液滴。液滴去除装置用于执行真空电弧放电以产生等离子体的等离子体产生装置中，包括：当产生等离子体时，从阴极产生的作为副产物的等离子体和液滴混合等离子体沿其行进的圆柱形前进路径; 以及用于在圆柱形前进路径的横截面圆周方向上产生旋转磁场的至少一个旋转磁场施加装置。旋转磁场施加装置向液滴混合等离子体施加旋转磁场，使得液滴混合等离子体沿着圆柱形前进路径前进，同时旋转，以通过离心力除去液滴。

8. 发明申请

WO2006104055A1 プラズマ生成装置におけるドロップレット除去装置及びドロップレット除去方法审中-公开
标题翻译：等离子体发生器中的脱墨装置和方法
公开(公告)号：WO2006104055A1
公开(公告)日：2006-10-05
申请号：PCT/JP2006/306004
申请日：2006-03-24
申请人：株式会社フェローテック , 椎名祐一
发明人：椎名祐一
IPC分类号： C23C14/32
CPC分类号： C23C14/325 , H01J37/32633 , H01J2237/022
摘要：　アーク放電部から進行してくるプラズマとドロップレットを確実に分離して、ドロップレットを確実に除去できる。ドロップレットが被処理物に到達することを防ぐことができるプラズマ生成装置におけるドロップレットにおけるドロップレット除去装置を提供する。　プラズマＰとドロップレットＤが混合状態で進行する筒状進行路３が形成され、偏心位置に通過孔６ａを有するアパーチャー６が筒状進行路３内に設けられ、筒状進行路３の外周にプラズマＰをアパーチャー６の偏心通過孔６ａに通過させるための磁場発生手段が配設され、磁場発生手段に基づく磁場により、プラズマＰは筒状進行路３内で湾曲してアパーチャー６の偏心通過孔６ａを通過し、湾曲時にドロップレットＤをアパーチャー６の壁面に衝突させて除去する。
摘要翻译：一种用于去除等离子体发生器中的液滴的装置，通过该液滴可以通过从电弧放电部分的等离子体中分离确定地可以可靠地去除液滴，并且可以防止液滴到达待处理的物品。形成有等离子体P和液滴D在混合状态下行进的管状行进通道（3），在管状行进通道（3）中设置有在偏心位置具有通孔（6a）的孔（6），并且用于使等离子体P穿过孔（6）的偏心通过孔（6a）的磁场产生装置设置在管状行进通道（3）的外周。在通过由磁场产生装置产生的磁场在管状行进通道（3）中弯曲之后，等离子体P穿过孔（6）的偏心通孔（6a），并使液滴D撞击壁在弯曲时孔径（6）的面，从而去除液滴D.

9. 发明申请

WO2011002036A1 分割環状リブ型プラズマ処理装置审中-公开
标题翻译：分体式RIB形状等离子体处理装置
公开(公告)号：WO2011002036A1
公开(公告)日：2011-01-06
申请号：PCT/JP2010/061193
申请日：2010-06-30
申请人：株式会社フェローテック , 椎名祐一 , 渡邊巖
发明人：椎名　祐一 , 渡邊　巖
IPC分类号： C23C14/32 , C23C14/24 , H05H1/48
CPC分类号： C23C14/564 , C23C14/325 , H01J37/32357 , H01J37/32477
摘要：　本発明の目的は、プラズマ処理装置におけるドロップレット捕獲用の環状リブ上に形成されたプラズマ流由来の堆積物が、プラズマ発生部へ落下して短絡を起こすことを防止することである。　ドロップレット捕集用の環状リブを複数のリブ片に分割することにより、プラズマ流の物質の凝集により前記環状リブ上に形成する堆積物の、形成当初からの細分化が達成される。この堆積物の細分化により、この堆積物が破片としてプラズマ発生部に落下する際に、この破片が陰極と前記プラズマ発生部の壁面の間に設けられる溝部に入り込み、前記陰極と前記壁面の電気短絡が防止される。
摘要翻译：沉积在等离子体处理装置中用于液滴捕获的环形肋上的等离子体流衍生的沉积物被防止落入等离子体产生单元中并导致短路。用于液滴捕获的环形肋被分成多个肋片。因此，由于等离子体流动物质的聚集而从沉积物沉积在环状肋上开始，可能会使沉淀物破碎。通过切碎沉淀物，当一片沉积物落入等离子体产生单元时，沉积物进入设置在等离子体发生单元的阴极和壁表面之间的凹槽部分中，从而防止了等离子体发生单元之间的电短路阴极和墙面。

10. 发明申请

WO2009119655A1 プラズマ生成装置及びプラズマ処理装置审中-公开
标题翻译：等离子体发生装置和等离子体处理装置
公开(公告)号：WO2009119655A1
公开(公告)日：2009-10-01
申请号：PCT/JP2009/055935
申请日：2009-03-25
申请人：株式会社フェローテック , 椎名祐一
发明人：椎名祐一
IPC分类号： C23C14/32 , H05H1/32
CPC分类号： H01J37/32366 , C23C14/325 , C23C14/564 , H01J37/32357 , H05H1/50
摘要：　本発明の目的は、プラズマに混入するドロップレットをより効率的に除去でき、高純度プラズマによる成膜等の表面処理精度の向上を図ることのできるプラズマ生成装置及びそれを用いたプラズマ処理装置を提供することである。　本発明において、プラズマ進行路に設けたドロップレット除去部は、プラズマ発生部Ａに連接されたプラズマ直進管Ｐ０と、プラズマ直進管Ｐ０に屈曲状に連接された第1プラズマ進行管Ｐ１と、第1プラズマ進行管Ｐ１の終端に、その管軸に対して所定屈曲角で傾斜配置させて連接された第２プラズマ進行管Ｐ２と、第２プラズマ進行管Ｐ２の終端に屈曲状に連接され、プラズマ出口よりプラズマを排出する第３プラズマ進行管Ｐ３とから構成されている。
摘要翻译：提供了一种等离子体产生装置，其中可以有效地去除混合在等离子体中的液滴，并且可以在使用高纯度等离子体的成膜中提高表面处理精度。还提供了一种使用这种等离子体生成装置的等离子体处理装置。设置在等离子体行进路径中的液滴除去部由与等离子体产生部（A）连接的直线等离子行进管（P0）构成。通过弯曲连接到直等离子体行进管（P0）的第一等离子体行进管（P1）通过相对于第一等离子体行进管的管轴以规定的弯曲角度对角地配置而连接到第一等离子行进管（P1）的端部的第二等离子体行进管（P2）以及第三等离子体行进管（P3），其通过弯曲等离子体连接到第二等离子体行进管（P2）的端部，并从等离子体排放口排出。

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