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    • 3. 发明申请
    • 電解銅箔製造用銅電解液及び電解銅箔の製造方法
    • 用于生产电解铜箔的铜电解溶液和用于生产电解铜箔的方法
    • WO2005049895A1
    • 2005-06-02
    • PCT/JP2004/016728
    • 2004-11-11
    • 三井金属鉱業株式会社杉元 晶子
    • 杉元 晶子
    • C25D3/38
    • C25D3/38C25D1/04
    • 本発明の目的は、タンパク質等の分子量及び濃度の管理に起因する析離箔の歩留まりを実質的に生じさせないまま、析離箔の粗面の山の形状及び大きさが揃い且つ低粗度の箔を得ることができる電解銅箔製造用銅電解液及びこれを用いた電解銅箔の製造方法を提供することにある。 本発明に係る電解銅箔製造用銅電解液は、電解銅箔製造用の銅電解液であって、該銅電解液中に含まれるタンパク質は、数平均分子量M n が1000~2300、且つ、濃度が2ppm~4.5ppmである。該電解液はCu 2+ 濃度が60g/l~100g/lであることが好ましい。また該電解液はフリーSO 4 2− 濃度が60g/l~250g/lであることが好ましい。さらに該電解液はCl − 濃度が0.5ppm~2.0ppmであることが好ましい。本発明に係る電解銅箔の製造方法は、上記電解銅箔製造用銅電解液を用いるものである。
    • 可以获得生产电解铜箔的铜电解溶液,其中可以基本上抑制归因于控制的沉积箔的产生的任何发生的低粗糙度的箔,其中沉积箔的粗糙表面的堆的构型和尺寸是均匀的 蛋白质的分子量和浓度等; 以及使用铜电解液生产电解铜箔的方法。 提供了一种用于生产电解铜箔的铜电解溶液,其中含有2至4.5ppm浓度的数均分子量为1000至2300的Mn的蛋白质。 电解液的Cu 2+浓度优选为60〜100g / l。 此外,电解液的游离SO 4 2-浓度优选为60〜250g / l。 此外,电解液的Cl - 浓度优选在0.5〜2.0ppm的范围内。 此外,提供了一种用于生产电解铜箔的方法,其中使用上述用于生产电解铜箔的铜电解溶液。