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1. 发明申请

WO2011108705A1 感光性樹脂組成物审中-公开
标题翻译：感光树脂组合物
公开(公告)号：WO2011108705A1
公开(公告)日：2011-09-09
申请号：PCT/JP2011/055074
申请日：2011-03-04
申请人：株式会社ADEKA , 原憲司
发明人：原　憲司
IPC分类号： G03F7/075 , C08F299/08 , C08G77/14 , C08G77/20 , C08L83/04 , H01L21/027
CPC分类号： C08G77/20 , C08F283/124 , C08F299/08 , C08G77/80 , C08K5/56 , G03F7/027 , G03F7/032 , G03F7/0757
摘要：　本発明は、フォトリソグラフィにより微細なパターンを形成でき、２００℃を超える熱処理を行なわずに絶縁膜が形成でき、しかも有機薄膜トランジスタのゲート絶縁膜として使用した場合にキャリヤーがトラップされて電荷移動度が低下するという問題のない感光性樹脂組成物を提供するものであり、下記一般式（１）～（４）で表わされるユニットを有するポリシロキサン化合物及び光ラジカル発生剤を含有する感光性樹脂組成物を提供するものである。（式（１）中、Ｒ１は水素原子又はメチル基を表わし、Ｒ２は置換アルキル基を有していてもよい炭素数１～５のアルキレン基を表わし、式（２）中、Ｒ３は水素原子又は炭素数１～４のアルキル基を表わし、式（３）中、Ｒ４は炭素数１～６のアルキル基又は炭素数５～６のシクロアルキル基を表わし、式（４）中、Ｒ５は水素原子又は炭素数１～４のアルキル基を表わす。）
摘要翻译：公开了通过光刻法形成微小图案的感光性树脂组合物，能够在不超过200℃的情况下形成不进行热处理的绝缘膜，并且当用作栅极绝缘膜时不存在载流子被捕获和电荷迁移率降低的问题含有光激发生剂的有机薄膜晶体管和具有下述通式（1-4）表示的单元的聚硅氧烷化合物。（式1中，R 1表示氢原子或甲基，R 2表示可具有取代基的碳原子数为1〜5的亚烷基，式2中，R 3表示氢原子或烷基在式3中，R 4表示碳数为1-6的烷基或碳数为5-6的环烷基，在式4中，R 5表示氢原子或碳数为1-4的烷基）

2. 发明申请

WO2008133228A1 ケイ素含有化合物、硬化性組成物及び硬化物审中-公开
标题翻译：含硅化合物，可固化组合物和固化产品
公开(公告)号：WO2008133228A1
公开(公告)日：2008-11-06
申请号：PCT/JP2008/057664
申请日：2008-04-21
申请人：株式会社ADEKA , 末吉孝 , 原憲司 , 斎藤誠一
发明人：末吉孝 , 原憲司 , 斎藤誠一
IPC分类号： C08G77/50 , C08G59/20 , C08G77/14 , C08K3/20 , C08L83/06 , C08L83/14
CPC分类号： C08G77/50 , C08G59/306 , C08G59/3254 , C08L63/00 , C08L83/14
摘要：　本発明のケイ素含有化合物は、下記一般式（０）で表されるものである。本発明の硬化性組成物は、該ケイ素含有化合物１００質量部に対し、エポキシ硬化性化合物０．０１～２０質量部を含有するものであり、得られる硬化物が耐熱性及び可撓性に優れる。（一般式（０）中、Ｒ a ～Ｒ g はＣ 1-12 飽和脂肪族炭化水素基又はＣ 1-12 芳香族炭化水素基であり、ＹはＣ 2-4 アルキレン基であり、Ｚは式（２）～（６）のいずれかで表される基であり、Ｋは２～７の数であり、Ｔは１～７の数であり、Ｐは０～３の数である。Ｍ及びＮは、Ｎ：Ｍ＝１：１～１：１００且つ全てのＭと全てのＮの合計が１５以上となる数であって、該化合物の質量平均分子量を３０００～１００万とする数である；式（２）～（６）中、Ｘ a ～Ｘ c はＣ 1-8 アルカンジイル基、－ＣＯＯ－又は単結合を表し、Ｒ h ～Ｒ j は、水素原子又はメチル基を表し、ｒは０又は１を表す。）
摘要翻译：公开了由下述通式（0）表示的含硅化合物。还公开了每100质量份含硅化合物含有0.01〜20质量份环氧固化性化合物的固化性组合物。该固化性组合物能够得到耐热性和柔软性优异的固化物。（在通式（0）中，R 100和R 10b各自表示C 1-12饱和脂族烃基或C 1〜 SUB> 1-12芳族烃基; Y表示C 2-4亚烷基; Z表示由上述式（2） - （6）之一表示的基团; K表示2-7的数，T表示1-7的数; P表示0-3的数; M和N表示满足以下关系的数：N：M = 1：1-1：100，总共为M，全N为15以上，使化合物的质均分子量为3000〜1,000,000，式（2）〜（6）中，X a > -X 各自表示C 1-8烷基，-COO-基团或单键; R h- 各自表示氢原子或甲基; r表示0或1.）

3. 发明申请

WO2011043264A1 絶縁膜形成用塗布液、それを用いた絶縁膜およびそれに用いる化合物の製造方法审中-公开
标题翻译：用于形成绝缘膜的涂布液，使用该绝缘膜的绝缘膜以及用于制造其的化合物的方法
公开(公告)号：WO2011043264A1
公开(公告)日：2011-04-14
申请号：PCT/JP2010/067247
申请日：2010-10-01
申请人：株式会社ADEKA , 原憲司 , 小林純 , 横田洋大 , 森田博 , 斎藤誠一
发明人：原　憲司 , 小林　純 , 横田　洋大 , 森田　博 , 斎藤　誠一
IPC分类号： C08G77/62 , C01B21/068 , C01B21/087 , C08L83/16 , C09D5/25 , C09D183/16 , H01L21/314 , H01L21/316
CPC分类号： C08G77/62 , C08G77/12 , C08L83/16 , C09D1/00 , C09D183/16 , H01B3/02 , H01L21/02164 , H01L21/02222 , H01L21/02282 , Y10T428/24008
摘要：　水蒸気中における焼成工程での収縮が小さく、シリカ被膜の亀裂や半導体基板との剥離が発生しにくい絶縁膜形成用塗布液、それを用いた絶縁膜およびそれに用いる化合物の製造方法を提供する。　１Ｈ－ＮＭＲスペクトルにおいて、ＳｉＨ３基に由来する４．３～４．５ｐｐｍのピーク面積に対する、ＳｉＨ１基とＳｉＨ２基とに由来する４．５～５．３ｐｐｍのピーク面積の比が、４．２～５０である無機ポリシラザンと、有機溶媒とを有する絶縁膜形成用塗布液である。絶縁膜は、上記絶縁膜形成用塗布液を用いて得る。無機ポリシラザンは、ジハロシラン化合物、トリハロシラン化合物、又はこれらの混合物と塩基とを反応させてアダクツを形成した後、アダクツの溶液または分散液にアンモニアを－５０～－１℃にて反応させることにより得る。
摘要翻译：提供一种用于形成绝缘膜的涂布液，在蒸汽中烘烤时几乎没有收缩，实际上没有二氧化硅膜破裂或从半导体基板剥离。还提供了使用涂布液的绝缘膜和用于涂布液中的化合物的制造方法。用于形成绝缘膜的涂布液包括有机溶剂和无机聚硅氮烷，其以1H-NMR谱比为4.2〜50，以SiH1基团为基准的峰面积为4.5〜5.3ppm， SiH2基团相对于归属于SiH 3基团的4.3至4.5ppm的峰表面积。使用用于形成绝缘膜的涂布液获得绝缘膜。无机聚硅氮烷是通过将二卤代硅烷化合物，三卤硅烷化合物或其混合物与碱反应以形成加合物，然后使氨在加氢物的溶液或分散体中在-50℃至-1℃下反应而获得的。

4. 发明申请

WO2004089368A1 皮膚炎の治療または予防剤审中-公开
标题翻译：治疗或预防剂用于治疗
公开(公告)号：WO2004089368A1
公开(公告)日：2004-10-21
申请号：PCT/JP2004/005021
申请日：2004-04-07
申请人：塩野義製薬株式会社 , 堀洋三 , 桑原憲司 , 竹内三津男
发明人：堀洋三 , 桑原憲司 , 竹内三津男
IPC分类号： A61K31/422
CPC分类号： C07D417/12 , C07D417/14
摘要： A therapeutic or preventive agent for allergic dermatitis including psoriasis and contact dermatitis and for atopic dermatitis, which contains as an active ingredient a compound represented by the general formula (I): wherein R is optionally substituted aralkyl, etc.; Z is -S-, etc.; X is -(CH2)s-N(R )-CO- (wherein R is hydrogen, etc. and s is an integer of 0 to 3), etc.; A, B, and E each independently is oxygen or sulfur; D is hydrogen, etc.; Y is -(CH2)mCO- (wherein m is an integer of 0 to 3), etc.; and Y is optionally substituted aryl, etc.
摘要翻译：包含作为活性成分的通式（I）表示的化合物的过敏性皮炎的治疗或预防剂，包括牛皮癣和接触性皮炎和特应性皮炎，其中R 1为任选取代的芳烷基等; Z是-S-等; X 1为 - （CH 2）s -N（R 18）-CO-（其中R 18为氢等，s为0〜3的整数）等; A，B和E各自独立地为氧或硫; D是氢等; Y 1为 - （CH 2）m CO-（其中m为0〜3的整数）等。 Y 2为任选取代的芳基等

5. 发明申请

WO2007105556A1 光学材料用硬化性組成物及び光導波路审中-公开
标题翻译：光学材料和光波导的可固化组合物
公开(公告)号：WO2007105556A1
公开(公告)日：2007-09-20
申请号：PCT/JP2007/054419
申请日：2007-03-07
申请人：株式会社ADEKA , 藤上和生文 , 原憲司 , 石川佳寛 , 東海林義和
发明人：藤上和生文 , 原憲司 , 石川佳寛 , 東海林義和
IPC分类号： C08G59/20 , G02B6/12 , G02B6/13 , C08G77/14
CPC分类号： G02B6/1221 , C08G59/22 , C08G59/226 , C08G59/306 , C08G77/14 , C08G77/70 , C08L63/00 , C09D183/06 , G02B6/138 , C08L2666/14
摘要：　本発明の光学材料用硬化性組成物は、必須の構成成分として、（Ａ）特定のケイ素含有重合体；（Ｂ）特定のエポキシ樹脂；及び（Ｃ）：エネルギー線感受性カチオン重合開始剤を含有してなることを特徴とする。
摘要翻译：公开了一种光学材料用固化性组合物，其特征在于含有特定的含硅聚合物（A），特定环氧树脂（B）和能量射线敏感性阳离子聚合引发剂（C）作为必要成分。

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