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1. 发明申请

WO2019077970A1 イオン源及びイオン注入装置审中-公开
公开(公告)号：WO2019077970A1
公开(公告)日：2019-04-25
申请号：PCT/JP2018/036195
申请日：2018-09-28
申请人：株式会社アルバック
发明人：佐々木　徳康 , 東　明男 , 寺澤　寿浩
IPC分类号： H01J27/20 , C23C14/48 , H01J37/08 , H01J37/317 , H01L21/265 , H05H1/24
摘要：多量のアルミニウムイオンを生成できる長寿命のイオン源を提供する。チャンバー２１の内部に配置されたカソード電極２２をフィラメント２０に通電して昇温させ、カソード電極２２の側方に配置された窒化アルミニウムの原料ブロック２８を加熱し、導入されたフッ素化合物ガスと反応させ、フッ化アルミニウムを放出させる。カソード電極２２から放出・加速された熱電子をカソード電極２２とリペラ電極２３との間で往復移動させ、フッ化アルミニウムガスを分解し、アルミニウムイオンを生成する。多量のアルミニウムイオンを生成できる長寿命のイオン源が得られる。

2. 发明申请

WO2018084214A1 真空処理装置审中-公开
标题翻译：真空处理设备
公开(公告)号：WO2018084214A1
公开(公告)日：2018-05-11
申请号：PCT/JP2017/039629
申请日：2017-11-01
申请人：株式会社アルバック
发明人：南　展史 , 鈴木　傑之 , 武者　和博 , 中尾　裕利 , 佐藤　誠一
IPC分类号： C23C14/56 , C23C14/34 , C23C14/50 , H01L21/677
摘要：設置面積が小さい真空処理装置を提供する。真空槽１２の内部に昇降板１５を配置し、基板保持装置２７を昇降板１５に配置して昇降移動可能にする。昇降板１５が昇降移動する昇降領域１２ｂの側方に位置する処理領域１２ａ内に上方側処理装置４０と下方側処理装置５０とを設け、上方側移動装置３５と下方側移動装置３６とによって、基板保持装置２７に処理領域１２ａ内を通過させ、受渡装置３７によって上方側移動装置３５又は下方側移動装置３６と昇降板１５との間で基板保持装置２７の受け渡しを行う。上方側と下方側で真空処理を行うことができるので真空処理装置１０の設置面積は小さい。
摘要翻译：提供一种安装面积小的真空处理装置。真空室12的升降板15内布置成允许设置在升降板15上的基板保持装置27的垂直运动。和上侧处理器40和升降板15的处理区12a的下侧处理装置50被定位在提升区域12b侧用于垂直移动由上侧移动装置35和下侧移动装置36提供的，该基板保持装置27并穿过处理区域12a中，用于转移所述衬底的上侧移动装置35或下侧的移动装置36，并通过输送装置37的升降用板15之间保持装置27。由于可以在上侧和下侧进行真空处理，所以真空处理装置10的安装面积小。

3. 发明申请

WO2017061498A1 混合器、真空処理装置审中-公开
标题翻译：混合器和真空处理装置
公开(公告)号：WO2017061498A1
公开(公告)日：2017-04-13
申请号：PCT/JP2016/079681
申请日：2016-10-05
申请人：株式会社アルバック
发明人：田宮　慎太郎 , 神保　洋介 , 阿部　洋一
IPC分类号： C23C16/455 , B01F3/02 , H01L21/31
CPC分类号： B01F3/02 , C23C16/455 , H01L21/31
摘要：第一ガスと第二ガスとを均一に混合する混合器と、その混合器を用いた真空処理装置を提供する。　第二筒開口４６が、第一筒本体１１の中に位置するように、第二筒本体１２を第一筒本体１１の内部に互いに非接触で配置し、第一筒本体１１内部の第一筒開口４５と第二筒開口４６との間に助走空間４８を形成し、第二筒開口４６から助走空間４８に第二ガスを流出させ、第一、第二筒本体１１，１２の間に形成された隙間４７から助走空間４８に第一ガスを流出させ、第一、第二ガスを、第二ガスが第一ガスに包まれた状態で助走空間４８に流し、第一筒開口４５から混合容器１０内に流出させる。第一、第二ガスは混合容器１０内を直進し、混合容器１０の第一筒開口４５に対面する壁面に衝突し、第一、第二ガスの渦が形成され、混合溶器１０に供給される第一、第二ガスの流量の差が大きくても均一に混合される。
摘要翻译：提供：用于均匀混合第一气体和第二气体的混合器; 和使用该混合器的真空处理装置。第二缸体12以彼此不接触的方式布置在第一缸体11的内部，使得第二气缸开口46位于第一缸体11的内部; 在第一气缸体11内部的第一气缸开口45和第二气缸开口46之间形成有接近运行空间48; 第二气体从第二气缸开口46排出到接近运行空间48; 第一气体从形成在第一和第二缸体11,12之间的间隙47排出到进入行程空间48; 使第一和第二气体在第二气体被包裹在第一气体中的状态下流入进入流动空间48，并从第一气缸开口45排放到混合容器10的内部; 第一气体和第二气体直接通过混合容器10，并与面对第一气缸开口45的混合容器10的壁面碰撞，由此形成第一和第二气体的涡流; 结果，即使当供给到混合容器10的第一和第二气体之间的流量差异较大时，第一和第二气体均匀混合。

4. 发明申请

WO2016159238A1 熱拡散シート审中-公开
标题翻译：热扩散片
公开(公告)号：WO2016159238A1
公开(公告)日：2016-10-06
申请号：PCT/JP2016/060664
申请日：2016-03-31
申请人：デクセリアルズ株式会社
发明人：長島　稔 , 樋山　晃男
IPC分类号： H05K7/20 , B32B9/04 , H01L23/36 , H01L23/373
CPC分类号： B32B9/04 , B32B7/12 , B32B27/36 , B32B2307/30 , B32B2309/105 , H01L23/36 , H01L23/373 , H01L23/3735 , H01L23/3737 , H01L51/0034 , H01L51/004 , H01L51/529 , H05K7/20
摘要：　広がり方向の熱伝導率が高く、被着体から剥離させても再使用できる熱拡散シートを提供する。　グラファイトシート１０の厚みを２０μｍ以上８０μｍ未満にし、厚みが５μｍ以上１５μｍ以下の範囲であり、熱伝導性材料を含有しないアクリル系粘着剤層２１と、厚みが５μｍ以上３０μｍ以下の範囲であるポリエステルフィルム２２と、前記ポリエステルフィルムよりも薄く、厚みが２μｍ以上２５μｍ以下の範囲であり、熱伝導性材料を含有せず、且つ剥離強度が０．００５Ｎ/ｃｍ以上１．０Ｎ/ｃｍ以下であるシリコーン粘着剤層２３を、グラファイトシート１０から順次積層してなる熱拡散シート２を提供する。シリコーン粘着剤層２３を貼付する被着体の発熱がグラファイトシート１０に伝達されやすく、また、剥離して再利用もしやすい。
摘要翻译：本发明提供一种在扩散方向上具有高导热性的热扩散片，即使从要散布热扩散片的物体剥离也可以重新使用。设置有从厚度为20μm以上且小于80μm的石墨片10依次层叠的热扩散片2，厚度为5〜15μm的丙烯酸系粘合剂层21 μm，不含导热材料，厚度为5-30μm的聚酯膜22和比聚酯膜22薄的硅粘合剂层23的厚度为2〜25μm，不含导热材料，剥离强度为0.005〜1.0N / cm。由硅粘合剂层23所附着的物体产生的热容易转移到石墨片10上，并且热扩散片2容易剥离并重新使用。

5. 发明申请

WO2016076096A1 熱硬化性接着組成物审中-公开
标题翻译：热固性胶粘剂组合物
公开(公告)号：WO2016076096A1
公开(公告)日：2016-05-19
申请号：PCT/JP2015/079867
申请日：2015-10-22
申请人：デクセリアルズ株式会社
发明人：田中　芳人 , 名取　稔城 , 峯岸　利之
IPC分类号： C09J133/00 , C09J7/00 , C09J9/02 , C09J133/06 , C09J163/00
CPC分类号： C09J7/00 , C09J9/02 , C09J133/00 , C09J133/06 , C09J163/00
摘要：　樹脂しみ出しを抑制することができる熱硬化性接着組成物、及び熱硬化性接着シートを提供する。　熱硬化性接着シート２０を構成する本発明の熱硬化性接着組成物は、アクリル系共重合体と、熱硬化性エポキシ樹脂と、エポキシ樹脂硬化剤と、樹枝状の導電性フィラー２１と、平均粒径が３μｍ以上１５μｍ以下の範囲の非導電性フィラー２２とを含有する。これにより、非導電性フィラー２２が樹枝状の導電性フィラー２１に絡むため、樹脂成分の流動を抑制し、樹脂しみ出しを抑制しながら、金属板３０と端子１１とを電気的に接続する。
摘要翻译：提供：不会从树脂渗出的热固性粘合剂组合物; 和热固性粘合片。构成本发明的热固性粘合剂组合物，其构成热固性粘合片20，并且包含丙烯酸共聚物，可热固化环氧树脂，环氧树脂固化剂，树枝状导电填料21和平均粒径为3〜15μm的非导电性填料22。在热固性粘合剂组合物中，由于不导电填料22与树枝状导电填料21缠结，可以防止树脂成分的流化。因此，热固性粘合剂组合物可以将金属板30与端子11，同时防止树脂从其中的繁殖。

6. 发明申请

WO2016039261A1 真空処理装置审中-公开
标题翻译：真空加工装置
公开(公告)号：WO2016039261A1
公开(公告)日：2016-03-17
申请号：PCT/JP2015/075177
申请日：2015-09-04
申请人：株式会社アルバック
发明人：益山　純一 , 脇田　伸市 , 内山　豊司
IPC分类号： B65G49/00 , B65G49/06 , H01L21/677
CPC分类号： B65G49/00 , B65G49/06 , H01L21/677
摘要：　搭載装置の搬出入を簡単に行うことができる真空処理装置を提供する。　レール装置（１０）の案内部（４８）を、搭載車（４０）に乗せた搭載装置（３０）の走行部（３２）によって挟み、搭載車（４０）を移動させる。昇降部（２３）を降下させ、搭載装置（３０）をレール装置（１０）の槽外部（１６）に懸吊させ、搭載車（４０）を後退させて搭載装置（３０）の真下から、昇降部（２３）及び車台（２２）を抜去し、接続状態の接続部（１４）によって、槽外部（１６）に接続された槽内部（１５）に懸吊させて、搭載装置（３０）を真空槽（８）内部に異動させ、接続部を分離状態にして真空槽（８）を蓋装置（９）によって密閉する。狭い場所で、搭載装置（３０）の搬出入を行うことができる。
摘要翻译：提供一种真空处理装置，其允许载体容易地在其中传输。虽然轨道装置（10）的引导部分（48）由放置在运输车辆（40）上的托架（30）的行进部分（32）保持，但运输车辆（40）被移动。升降部分（23）被降下，使得托架（30）从轨道装置（10）的室外部部分（16）悬挂。然后运输车辆（40）被背离，使得可升降部分（23）和起落架（22）不再直接在托架（30）的下方。在连接状态下的连接部分（14）中，托架（30）从连接到室外部（16）的室内部（15）悬挂并移动到真空室（8）的内部。连接部分处于分离状态，真空室（8）由盖装置（9）密封。因此，可以使用狭窄的空间将载体（30）输入和输出。

7. 发明申请

WO2014002842A1 有機薄膜形成装置审中-公开
标题翻译：有机薄膜形成装置
公开(公告)号：WO2014002842A1
公开(公告)日：2014-01-03
申请号：PCT/JP2013/066804
申请日：2013-06-19
申请人：株式会社アルバック
发明人：齋藤　和彦 , 飯島　正行 , 廣野　貴啓 , 中森　建治
IPC分类号： C23C14/12 , C23C14/58
CPC分类号： C23C14/12 , B05D1/60 , B05D3/06 , B05D2252/02 , C23C14/228 , C23C14/562 , C23C14/58 , H01J37/32761 , H01J37/3277
摘要：　本発明は、加熱により生成した有機化合物の蒸気によって高成膜レートで有機薄膜を形成する。　成膜室４３をバッファー室４２の内部に配置し、中央ローラ１７の一部側面を成膜室開口５４から成膜室４３内に挿入し、その部分の側面に密着させながら、基材フィルム２３を走行させる。成膜室４３に接続された蒸気生成装置２６から蒸気をキャリアガスによって運搬し、冷却装置３０によって中央ローラ１７を冷却し、基材フィルム２３を蒸気の凝集温度以下の温度に冷却し、成膜室４３内に放出された蒸気によって基材フィルム２３の表面に有機原料層３５を形成し、中央ローラ１７を回転させて硬化室４４に於いてエネルギー線を照射し、硬化させる。バッファー室４２は低圧力に真空排気して、成膜室開口５４から流出したキャリアガスと蒸気が硬化室４４やロール室４１に流入しないようにされている。
摘要翻译：本发明通过加热产生的有机化合物的蒸汽以高成膜速度形成有机薄膜。成膜室（43）设置在缓冲室（42）的内部，中心辊（17）的一部分的侧面从成膜室开口部（43）插入成膜室（43） 54），并且在与上述部分的侧部紧密接触的同时使基材膜（23）进行行进运动。连接到成膜室（43）的蒸汽产生装置（26）的蒸汽由载气承载，中心辊（17）通过冷却装置（30），基材膜 23）被冷却到等于或低于蒸气的冷凝温度的温度，并且通过释放的蒸气在基材膜（23）的表面上形成有机原料层（35）成膜室（43），并通过使中心辊（17）旋转并通过在固化室（44）中发射的能量射线来固化。缓冲室（42）被抽空到低压，使得从成膜室开口（54）流出的蒸汽和载气不流入固化室（44）或辊室（41）。

8. 发明申请

WO2012118129A1 真空処理装置及び真空処理方法审中-公开
标题翻译：真空处理装置和真空处理方法
公开(公告)号：WO2012118129A1
公开(公告)日：2012-09-07
申请号：PCT/JP2012/055123
申请日：2012-02-29
申请人：株式会社アルバック , 佐竹徹
发明人：佐竹　徹
IPC分类号： C23C14/30 , C01B33/037 , C23C14/24 , G01N23/225
CPC分类号： C23C14/30 , C01B33/037 , C23C14/548 , C23C14/564
摘要：【課題】照射対象物に電子線を照射して加熱し、照射対象物に含まれる特定成分を気化させながら、照射対象物に含まれる不純物の濃度を知ることができる真空処理装置及び真空処理方法を提供する。【解決手段】　真空槽１１と、真空槽１１内に配置された照射対象物に電子線を照射して加熱し、前記照射対象物に含まれる特定成分を気化させる電子銃２０とを有する真空処理装置であって、所定のエネルギー範囲内のＸ線のエネルギーと強度との関係を測定するＸ線測定装置６２と、電子線の照射によって照射対象物５０から放出されたＸ線が入射し、入射したＸ線を減衰させて通過させ、Ｘ線測定装置６２に入射させる減衰フィルタ６１とを有する真空処理装置である。
摘要翻译：本发明提供一种真空处理装置和真空处理方法，该真空处理装置和真空处理方法能够通过用电子束照射被照射物体来加热被照射物体而能够知道包含在被照射物体中的杂质的浓度，从而汽化包含在待照射物体中的特定成分。 [解决方案]一种真空处理装置，其包括真空室（11）和电子枪（20），该电子枪通过用电子束照射被照射物体来加热设置在真空室（11）中的被照射物体从而使包含在被照射物体中的特定成分气化，所述真空处理装置包括测定能量与X射线在预定能量范围内的强度之间的关系的X射线测量单元（62），以及衰减滤波器（61），通过照射电子束从被照射物体（50）射出的X射线入射，并使入射的X射线衰减，从而通过其入射到 X射线测量单元（62）。

9. 发明申请

WO2012060226A1 基板縦方向揺動装置、基板ステージ装置及びイオン注入装置审中-公开
标题翻译：用于摇动基板的纵向方向的装置，基板阶段装置和离子植入装置
公开(公告)号：WO2012060226A1
公开(公告)日：2012-05-10
申请号：PCT/JP2011/074150
申请日：2011-10-20
申请人：株式会社アルバック , 佐藤誠一 , 伊藤慎也
发明人：佐藤　誠一 , 伊藤　慎也
IPC分类号： H01L21/683 , H01J37/317
CPC分类号： H01J37/20 , H01J37/3171 , H01J2237/20221
摘要：　真空槽内での位置を移動できる基板縦方向揺動装置と、真空槽内で基板を縦方向及び横方向に往復移動できる基板ステージ装置及びイオン注入装置を提供する。　基板縦方向揺動装置(５１)は真空槽(１１)内に配置され、回転軸(３７)を中心に上下に回動する腕部(３３ａ)、(３３ｂ)と、本体(３１)に鉛直に固定されたガイド手段(３２ａ)、(３２ｂ)と、ガイド手段(３２ａ)、(３２ｂ)に案内されて上下に移動する縦方向摺動部材(３４ａ)、(３４ｂ)とを有し、縦方向摺動部材(３４ａ)、(３４ｂ)は腕部(３３ａ)、(３３ｂ)に連結され、基板保持台(２１)は一方の縦方向摺動部材(３４ａ)に設けられ、他方の縦方向摺動部材(３４ｂ)には重り(２５)が設けられ、基板保持台(２１)の移動の負荷が低減されている。
摘要翻译：本发明提供一种用于使基板沿长度方向摆动的装置，其可使基板的位置在真空室内移动;以及基板台装置和离子注入装置，其能够使基板在纵向和横向方向上往复移动在真空室内。用于在纵向（51）上摆动基板的装置包括：布置在真空室（11）内的臂部（33a，33b），并且以旋转轴（37）在上下方向上枢转为枢轴的中心; 引导装置（32a，32b）垂直于主体（31）锚定; 以及由引导装置（32a，32b）引导并沿上下方向移动的纵向滑动构件（34a，34b）。纵向滑动件（34a，34b）连接到臂部（33a，33b）上，一个纵向滑动部件（34a）上安装有基板保持基座（21），并且重物（25）是安装在另一个纵向滑动构件（34b）上，以减少在基板保持基座（21）移动时产生的载荷。

10. 发明申请

WO2012046706A1 誘電体薄膜の成膜方法审中-公开
标题翻译：生产电介质薄膜的方法
公开(公告)号：WO2012046706A1
公开(公告)日：2012-04-12
申请号：PCT/JP2011/072805
申请日：2011-10-03
申请人：株式会社アルバック , 木村勲 , 神保武人 , 小林宏樹 , 遠藤洋平 , 大西洋平
发明人：木村　勲 , 神保　武人 , 小林　宏樹 , 遠藤　洋平 , 大西　洋平
IPC分类号： H01L21/316 , C01G21/06 , C01G25/00 , C23C14/02 , C23C14/08 , C23C14/34
CPC分类号： C23C14/088 , C01G21/06 , C01G25/006 , C01P2002/72 , C01P2006/40 , C23C14/024 , C23C14/35 , H01J37/34 , H01J37/3426 , H01J37/3464 , H01L41/316
摘要：　（１００）／（００１）配向したＰＺＴの薄膜を形成できる誘電体薄膜の成膜方法を提供する。　基板の表面にＰｂＯのガスを付着させてシード層を形成した後、真空排気された真空槽内で基板を加熱しながら、チタン酸ジルコン酸鉛（ＰＺＴ）のターゲットに電圧を印加してスパッタし、基板の表面にＰＺＴの薄膜を成膜する。シード層からＰｂとＯとが供給されてＰＺＴ薄膜にＰｂ欠損は生じず、（００１）／（１００）配向したＰＺＴ膜が得られる。
摘要翻译：提供一种能够形成具有（100）/（001）取向的PZT薄膜的电介质薄膜的制造方法。使PbO气体附着于基板表面，形成种子层，然后在真空室内加热基板的同时，向锆钛酸铅（PZT）靶施加电压，溅射靶在基板的表面上形成PZT薄膜。从种子层供给Pb和O，因此得到在PZT薄膜中不产生Pb缺陷的（001）/（100）取向的PZT膜。

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