专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

81. 发明申请

WO2015122250A1 インジウムと亜鉛とスズおよび酸素からなる酸化物のエッチング用液体組成物およびエッチング方法审中-公开
标题翻译：用于蚀刻含有氧化锌，锌，锡和氧的氧化物的液体组合物和蚀刻方法
公开(公告)号：WO2015122250A1
公开(公告)日：2015-08-20
申请号：PCT/JP2015/051498
申请日：2015-01-21
申请人：三菱瓦斯化学株式会社
发明人：茂田　麻里 , 夕部　邦夫
IPC分类号： H01L21/308 , C09K13/04 , C09K13/06
CPC分类号： C09K13/06 , C09K13/04 , G02F1/13439 , H01L21/30604 , H01L33/005 , H01L33/36
摘要：　本発明は、インジウムと亜鉛とスズおよび酸素からなる酸化物のエッチングにおいて好適なエッチングレートを有し、該酸化物の溶解に対してエッチングレートの変化が小さく、かつ析出物の発生が実質的になく、しかも配線材料への腐食性が無視できる程度に小さいエッチング用液体組成物を提供する。本発明においては、（Ａ）硫酸、メタンスルホン酸、またはこれらの塩からなる群より選ばれる１種以上と水を含み、ｐＨ値が－１～３であるエッチング用液体組成物を用いる。
摘要翻译：提供一种用于蚀刻的液体组合物，其在蚀刻包含铟，锌，锡和氧的氧化物期间具有合适的蚀刻速率，在氧化物溶解期间的蚀刻速率几乎没有变化，基本上不发生沉淀，并且对布线的腐蚀性可忽略不计材料。本发明使用包括水和至少一种选自（A）硫酸，甲磺酸或它们的盐中的至少一种的蚀刻用液体组合物，其pH值为-1-3。

82. 发明申请

WO2015112419A1 METHOD FOR PATTERNING A MICROSTRUCTURE 审中-公开
标题翻译：用于绘制微结构的方法
公开(公告)号：WO2015112419A1
公开(公告)日：2015-07-30
申请号：PCT/US2015/011560
申请日：2015-01-15
申请人： 3M INNOVATIVE PROPERTIES COMPANY
发明人： SEBASTIAN, Muthu , DOLEZAL, Michael W
IPC分类号： G02F1/1343 , H01L31/18 , C09K13/04 , G06F3/044
CPC分类号： G06F3/041 , B32B15/08 , B32B15/20 , B32B27/281 , B32B27/32 , B32B27/325 , B32B2255/10 , B32B2255/20 , B32B2307/202 , B32B2307/412 , B32B2307/518 , B32B2457/208 , G02F1/13439 , G06F3/044 , G06F2203/04102 , G06F2203/04103
摘要： The invention relates to a method for patterning one or more portions of a microstructure comprised of a flexible substrate, a conductor disposed on the substrate, and a metal layer disposed on the conductor, wherein the conductor is comprised of a stack of a first and a second transparent conductive oxide (TCO) layer, and a metal doped silicon oxide layer sandwiched between the two TCO layers.
摘要翻译：本发明涉及一种用于图案化微结构的一个或多个部分的方法，所述微结构包括柔性基板，设置在基板上的导体和设置在导体上的金属层，其中导体由第一和第第二透明导电氧化物（TCO）层和夹在两个TCO层之间的金属掺杂的氧化硅层。

83. 发明申请

WO2015060196A1 樹脂材料のエッチング処理用組成物审中-公开
标题翻译：用于蚀刻树脂材料处理的组合物
公开(公告)号：WO2015060196A1
公开(公告)日：2015-04-30
申请号：PCT/JP2014/077580
申请日：2014-10-16
申请人：奥野製薬工業株式会社
发明人：永峯　伸吾 , 北　晃治 , 大塚　邦顕
IPC分类号： C23C18/24 , C09K13/04 , C09K13/06 , C23C18/30 , C25B1/30
CPC分类号： C09K13/00 , C08J7/14 , C09K13/04 , C23C18/1641 , C23C18/1653 , C23C18/2086 , C23C18/24 , C23C18/285 , C23C18/30 , C23C18/32 , C23C18/38 , C23F1/14 , C23F3/02 , C25B1/28 , C25D5/14 , H01L21/02052 , H01L21/30604
摘要：　本発明は、過マンガン酸イオンの濃度が0.2mmol/L以上であって、酸成分を合計濃度として10 mol/L以上含有し、且つ、（１）有機スルホン酸を1.5 mol/L以上含有すること、（２）２価マンガンイオンのモル濃度を過マンガン酸イオンのモル濃度に対して15倍以上とすること、及び（３）マグネシウム無水塩の添加量を0.1～1.0 mol/Lとすること、からなる条件の少なくとも一つを満足する水溶液からなる、樹脂材料のエッチング処理用組成物を提供するものである。本発明のエッチング処理用組成物は、６価クロムを含まないエッチング処理用組成物であって、優れたエッチング性能を有し、浴安定性も良好である。
摘要翻译：本发明提供了一种用于树脂材料的蚀刻处理的组合物，其包含含有浓度为10mol / L以上的酸成分的高锰酸盐离子浓度为0.2mmol / L以上的水溶液，并且满足选自以下要求中的至少一个要求：（1）1.5mol / L以上的有机磺酸的含量; （2）二价锰离子的摩尔浓度为高锰酸盐离子摩尔浓度的15倍以上; 和（3）加入的无水镁盐的量为0.1〜1.0mol / L。根据本发明的用于蚀刻处理的组合物不含六价铬，蚀刻性能优异，并且具有良好的浴稳定性。

84. 发明申请

WO2015041214A1 半導体基板用エッチング液审中-公开
标题翻译：用于半导体衬底的蚀刻液
公开(公告)号：WO2015041214A1
公开(公告)日：2015-03-26
申请号：PCT/JP2014/074442
申请日：2014-09-16
申请人：攝津製油株式会社
发明人：山本　裕三 , 斎田　利典 , 大八木　伸 , 鎌田　義輝
IPC分类号： H01L21/308 , C09K13/04 , H01L31/0236
CPC分类号： H01L31/02363 , C09K13/06 , Y02E10/50
摘要：　本発明は、太陽電池用半導体基板の表面を処理するためのアルカリ性のエッチング液であって、リグニンスルホン酸及びその塩からなる群より選択される少なくとも一種を含むエッチング液に関する。本発明のエッチング液を使用することによって、比較的低温側でより短時間でテクスチャー形成が可能で生産性に優れるという効果が発揮される。また多数枚処理時に多量に発生する泡の微細化や泡の表面脱離性に優れた効果をもたらし、エッチング中の基板の浮きをなくせるので歩留りが向上する。さらに表面欠陥が減ることから表面品質にすぐれたテクスチャーを形成することができる。
摘要翻译：本发明涉及一种用于处理太阳能电池用半导体基板的表面的碱性蚀刻液，所述蚀刻液含有选自木素磺酸及其盐中的至少一种物质。本发明的蚀刻液的使用表现出优异的生产率和能够在相当低的温度下在短时间内形成纹理的效果。此外，蚀刻液产生在多片处理期间大量产生的气泡的细化和优异的表面消除效果，并且由于可以消除蚀刻期间的基板漂浮，所以产量提高。此外，由于表面缺陷降低，可以形成具有优异表面质量的纹理。

85. 发明申请

WO2014089941A1 一种蚀刻剂及其制备方法和应用审中-公开
公开(公告)号：WO2014089941A1
公开(公告)日：2014-06-19
申请号：PCT/CN2013/073276
申请日：2013-03-27
申请人：北京七星华创电子股份有限公司
发明人：亨利·萨莉·安 , 黄金涛 , 马嘉 , 吴仪 , 苏宇佳
IPC分类号： C09K13/04 , H01L21/02 , C23G1/00 , C23F1/00
CPC分类号： C09K13/04 , G03F1/82 , G03F7/423 , H01L21/02052 , H01L21/31133
摘要：本发明提供一种蚀刻剂，其是由硫酸和过硫酸铵反应而成，过硫酸铵的质量浓度为1-25%。硫酸为98%质量浓度的硫酸。本发明还提出制备该蚀刻剂的方法，其是将过硫酸铵加入100-200℃的硫酸中。本发明用过硫酸铵替代氧化剂过氧化氢。过硫酸铵是一种粉末，使操作更简单；本发明提出的蚀刻剂处理晶片或光掩模，因为硫酸是与有机物反应的副产物，而不是水，所以多次清洗后蚀刻剂也不会被稀释，节约了生产成本。

86. 发明申请

WO2014032143A1 PROCESSO DE LIMPEZA SUPERFICIAL COM ATAQUE ISOTRÓPICO PARA LÂMINAS DE SILÍCIO TEXTURADAS 审中-公开
标题翻译：表面清洁方法与等离子体蚀刻用于纹理硅陶瓷
公开(公告)号：WO2014032143A1
公开(公告)日：2014-03-06
申请号：PCT/BR2013/000325
申请日：2013-08-27
申请人： UNIÃO BRASILEIRA DE EDUCAÇÃO E ASSISTÊNCIA - MANTENEDORA DA PUCRS , COMPANHIA ESTADUAL DE GERAÇÃO E TRANSMISSÃO DE ENERGIA ELÉTRICA-CEEE-GT , ELETROSUL CENTRAIS ELÉTRICAS S.A.
发明人： ZANESCO, Izete , MOEHLECKE, Adriano , FILOMENA, Gabriel Zottis
IPC分类号： C01B33/023 , C09K13/04 , H01L21/306
CPC分类号： H01L31/02363 , C09K13/04 , Y02E10/50
摘要： A presente invenção proporciona um processo de limpeza química superficial para lâminas de silício cristalino texturadas adaptado a partir de um processo de limpeza química padrão chamado RCA. No processo da invenção, a limpeza química compreende um ataque isotrópico em CP4, seguida da imersão das lâminas de silício na solução RCA-2. O ataque planar aumenta o gettering químico e não altera a estrutura das micropirâmides, pois o tempo de imersão é controlado e curto, preferencialmente apenas 10 segundos. Dentre outras vantagens técnicas, o processo da invenção proporciona aumento de ao menos 175 % no tempo de vida dos portadores minoritários e redução no tempo de processamento de aproximadamente 9 minutos.
摘要翻译：本发明提供了通过改变标准化学清洁方法RCA获得的纹理晶体硅晶片的化学表面清洁方法。在根据本发明的方法中，化学清洗包括CP4蚀刻中的各向同性蚀刻，然后将硅晶片浸入RCA-2溶液中。平面化增加了化学吸气性，并且不改变微米团的结构，因为浸渍时间短且受控，优选仅为10秒。除了其他技术优点之外，根据本发明的方法增加少量载体寿命的至少175％，并且将加工时间减少大约9分钟。

87. 发明申请

WO2010127844A3 SOLAR CELL AND METHOD FOR THE PRODUCTION THEREOF 审中-公开
标题翻译：太阳能电池及其制备方法
公开(公告)号：WO2010127844A3
公开(公告)日：2011-12-29
申请号：PCT/EP2010002755
申请日：2010-05-05
申请人： INVENTUX TECHNOLOGIES AG , SILLMANN ROLAND , BRANDT HOLGER , CRAMER CHRISTINE , LINDERT THOMAS
发明人： SILLMANN ROLAND , BRANDT HOLGER , CRAMER CHRISTINE , LINDERT THOMAS
IPC分类号： H01L31/0216 , C03C15/00 , C09K13/04 , H01L31/0224 , H01L31/18
CPC分类号： H01L31/02167 , B32B17/10036 , B32B17/10174 , B32B17/10761 , B32B17/10788 , H01L31/022475 , H01L31/022483 , H01L31/1884 , Y02E10/50
摘要： The invention relates to a solar cell or a photovoltaic module and a method for the production thereof, and can be applied in the solar industry and in the utilization of solar energy. The aim of the invention is thus to present a solar cell having good optical properties and a high energy yield that can be produced simply, effectively, at low cost, and reproducibly, and that ensures high process stability and flexibility. A particular advantage of the invention, in addition to cost savings and increased process stability, is the avoidance or reduction of interactions between the individual layers of the solar cell, in that a reflector layer (17) is disposed between the laminate layer (18) and the cover (19), or is integrated in the laminate layer or the cover. A greater flexibility with regard to the method for optimizing the production process results from applying a laminate layer (18) directly on the layer system and applying a reflector layer (17) directly thereon or on the outer surface of the cover (19).
摘要翻译：本发明涉及一种太阳能电池或光伏模块和它们的制备方法，并且可应用于在太阳能行业，以及使用太阳能。因此，本发明基于这样的目的上提供一种具有良好的光学性能和高的能量产出，这是简单的，有效的，便宜的，并且可再现的方式的太阳能电池，并确保高加工稳定性和工艺灵活性。本发明另外的一个特别的优点，以节省成本并通过增加太阳能电池的各个层之间的相互作用的预防或减少的过程稳定性（层压层（18）和所述盖（19）或与该层压层或覆盖反射层集成之间 17）设置。在方法方面的较高的灵活性，从以下事实：在生产直接太阳能电池中的层系统上的是一个层压层（18）和上或在盖（19）的外表面具有反射器层优化生产过程的结果（17）被施加。

88. 发明申请

WO2011059281A3 ETCHANT COMPOSITION FOR A SINGLE MOLYBDENUM FILM 审中-公开
标题翻译：一种单层薄膜的复合组合物
公开(公告)号：WO2011059281A3
公开(公告)日：2011-08-25
申请号：PCT/KR2010008045
申请日：2010-11-15
申请人： DONGWOO FINE CHEM CO LTD , LIM MIN-KI , JANG SANG-HOON , SHIN HYE-RA , YOU IN-HO
发明人： LIM MIN-KI , JANG SANG-HOON , SHIN HYE-RA , YOU IN-HO
IPC分类号： C09K13/04
CPC分类号： C23F1/38
摘要： The present invention relates to an etchant composition for a single molybdenum film, comprising: 5 to 25 wt % of H2O2; 0.5 to 3 wt % of a cyclic amine compound; 0.5 to 5 wt % of an additive containing one or two or more selected from among a group consisting of sodium dihydrogen citrate, disodium hydrogen citrate, disodium hydrogen phosphate, trisodium citrate and acetate salts; with the remainder being water.
摘要翻译：本发明涉及单个钼膜的蚀刻剂组合物，其包含：5至25重量％的H 2 O 2; 0.5〜3重量％的环胺化合物; 0.5至5重量％的添加剂，其含有选自柠檬酸二氢钠，柠檬酸氢二钠，磷酸氢二钠，柠檬酸三钠和乙酸盐中的一种或两种以上的添加剂; 其余的是水。

89. 发明申请

WO2010056051A8 ETCHING SOLUTION FOR A TRANSPARENT CONDUCTIVE FILM 审中-公开
标题翻译：用于透明导电膜的蚀刻解决方案
公开(公告)号：WO2010056051A8
公开(公告)日：2011-04-21
申请号：PCT/KR2009006657
申请日：2009-11-12
申请人： TECHNO SEMICHEM CO LTD , RHEE SEOK JOONG , PARK CHOUNG WOO , RHEE TAI HYUNG
发明人： RHEE SEOK JOONG , PARK CHOUNG WOO , RHEE TAI HYUNG
IPC分类号： C09K13/00 , C09K13/04
CPC分类号： C09K13/00 , H01L31/022466 , H01L31/1884 , Y02E10/50
摘要： The present invention relates to etching solution compositions for transparent conductive film formed into fine pattern during manufacture of thin film transistors for flat panel liquid crystal displays. The compositions of the present invention comprise: 0.05 to 15 wt % of a halogen compound, 0.1 to 20 wt % of a secondary oxidant, 0.05 to 15 wt % of an etching adjustment agent, 0.1 to 15 wt % of a residue inhibitor, 0.3 to 10 wt % of a corrosion inhibitor, and balance water bringing total weight of the composition to 100 wt %. The compositions according to the present invention do not degrade copper film, copper alloy film, molybdenum film, molybdenum alloy film or laminations thereof.
摘要翻译：本发明涉及在用于平板液晶显示器的薄膜晶体管的制造期间形成微细图案的透明导电膜的蚀刻溶液组合物。本发明的组合物包含：0.05〜15重量％的卤素化合物，0.1〜20重量％的二次氧化剂，0.05〜15重量％的蚀刻调节剂，0.1〜15重量％的残留抑制剂，0.3 至10重量％的防腐剂，并且将组合物的总重量平衡至100重量％。根据本发明的组合物不会降解铜膜，铜合金膜，钼膜，钼合金膜或其叠层。

90. 发明申请

WO2008012984A1 プラスチック表面の金属化方法审中-公开
标题翻译：塑料表面金属化处理
公开(公告)号：WO2008012984A1
公开(公告)日：2008-01-31
申请号：PCT/JP2007/060332
申请日：2007-05-21
申请人：荏原ユージライト株式会社 , 倉持保之 , 中山香織
发明人：倉持保之 , 中山香織
IPC分类号： C23C18/28 , C09K13/04 , C23C18/30
CPC分类号： C23C18/28 , C23C18/30
摘要：　クロムフリーのプラスチック表面の金属化プロセスにおいて、プラスチック表面に十分に密着しためっきをすることができ、しかも、治具にめっき析出しない、実用性の高いプラスチック表面の金属化方法を提供することを目的とする。当該方法は、プラスチックを、過マンガン酸塩および無機酸を含有するエッチング処理液で処理し、次いで、前記処理されたプラスチックを、その表面に露出した官能基に選択吸着性のある化合物を含有する触媒付与増強液で処理し、更に、前記触媒付与増強液で処理されたプラスチックに、触媒付与処理液にて触媒を付与し、その後、前記触媒を付与されたプラスチックに金属めっきを施すことを特徴とするプラスチック表面の金属化方法である。
摘要翻译：本发明旨在为塑料表面的无铬金属化提供实用的方法，通过该方法可以形成紧密地粘附在塑料部件表面上的镀膜，并且不会在夹具上沉积。一种用于金属化塑料表面的方法，其特征在于用含有高锰酸盐和无机酸的蚀刻流体处理塑料部件，用增强剂流体处理所得到的塑料部件，用于包含显示选择性的化合物的催化剂吸附到暴露在塑料部件表面上的官能团，通过赋予流体的催化剂赋予经处理的塑料部件催化剂，然后将所得塑料部件进行金属镀覆。

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式