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81. 发明申请

WO2009106217A1 METHOD FOR OPERATING AN ILLUMINATION SYSTEM OF A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS 审中-公开
标题翻译：操作微波投影曝光装置照明系统的方法
公开(公告)号：WO2009106217A1
公开(公告)日：2009-09-03
申请号：PCT/EP2009/000861
申请日：2009-02-07
申请人： CARL ZEISS SMT AG , NATT, Oliver , SCHLESENER, Frank
发明人： NATT, Oliver , SCHLESENER, Frank
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70133 , G03F7/70091 , G03F7/70125 , G03F7/70141 , G03F7/70191
摘要： In a method for operating an illumination system (12) of a microlithographic projection exposure apparatus (10), a set of illumination parameters that describe properties of a light bundle which converges at a point (72) on a mask (14) to be illuminated by the illumination system (12), is first determined. Optical elements (26, 36, 44, 46, 74, 76) whose optical effect on the illumination parameters can be modified as a function of control commands are furthermore determined, as well as sensitivities with which the illumination parameters react to an adjustment of the optical elements, induced by the control commands. The control commands are then determined while taking the previously determined sensitivities into account, such that deviations of the illumination parameters from predetermined target illumination parameters satisfy a predetermined minimisation criterion. These control commands are applied to the optical elements, before the mask (14) is illuminated.
摘要翻译：在一种用于操作微光刻投影曝光设备（10）的照明系统（12）的方法中，一组照明参数描述了在要照亮的掩模（14）上的点（72）会聚的光束的属性首先确定照明系统（12）。进一步确定其对照明参数的光学效应可以作为控制命令的函数而被修改的光学元件（26,36,44,47,76）以及照明参数对调整的灵敏度光学元件，由控制命令引起。然后在考虑预先确定的灵敏度的同时确定控制命令，使得照明参数与预定目标照明参数的偏差满足预定的最小化标准。在掩模（14）被照亮之前，将这些控制命令应用于光学元件。

82. 发明申请

WO2008052701A1 VERFAHREN UND VORRICHTUNG ZUR BESTIMMUNG DER LAGE EINER SYMMETRIEACHSE EINER ASPHÄRISCHEN LINSENFLÄCHE 审中-公开
标题翻译：的方法和一种用于确定对称轴的非球面透镜区域的位置
公开(公告)号：WO2008052701A1
公开(公告)日：2008-05-08
申请号：PCT/EP2007/009291
申请日：2007-10-26
申请人： TRIOPTICS GMBH , HEINISCH, Josef , DUMITRESCU, Eugen
发明人： HEINISCH, Josef , DUMITRESCU, Eugen
IPC分类号： G01M11/02 , G01B11/27 , G02B7/02 , G02B27/62
CPC分类号： G01B11/272 , G01M11/0221
摘要： Bei einem Verfahren zur Bestimmung der Lage einer Symmetrieachse (20) einer asphärischen Linsenfläche (16) relativ zu einer Bezugsachse (30, 22) wird die Lage des Krümmungsmittelpunktes (21) des sphärischen Anteils der Linsenfläche (16) gemessen. Ferner wird eine Taumelbewegung gemessen, welche die Linsenfläche (16) während einer Drehung um eine Drehachse (30) beschreibt. Aus den auf diese Weise erhaltenen Meßwerten wird die Lage der Symmetrieachse (20) der asphärischen Linsenfläche (16) relativ zu der Drehachse (30) bestimmt Meßwerten. Eine zur Durchführung des Verfahrens geeignete Vorrichtung weist einen Autokollimator (36a; 136a) zur Messung des sphärischen Anteils der Linsenfläche (16) auf. Die Taumelbewegung wird mit einem zweiten Autokollimator (36b) oder einem Abstandssensor (136b) gemessen.
摘要翻译：在用于确定的非球面透镜表面的对称性（20）的轴的位置的方法（16）相对于参考轴线（30，22）测量的透镜面（16）的球形部分的曲率（21）的中心的位置。此外，摆动被测量，其描述了一种围绕旋转（30）的轴线旋转的过程中所述透镜表面（16）。非球面透镜表面的对称性（20）的轴线的位置（16）相对于旋转（30）的轴线确定测量从以这种方式所获得的测量值的值。适合于执行该方法的装置包括一个自动准直仪（36A; 136A）上的透镜表面（16）的球形部分的测量。摆动与第二自动准直仪（36B），或距离传感器（136B）进行测定。

83. 发明申请

WO2007093396A1 ILLUMINATION SYSTEM FOR A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS 审中-公开
标题翻译：微波投影曝光装置照明系统
公开(公告)号：WO2007093396A1
公开(公告)日：2007-08-23
申请号：PCT/EP2007/001267
申请日：2007-02-14
申请人： CARL ZEISS SMT AG , WANGLER, Johannes , SIEKMANN, Heiko , WEIBLE, Kenneth , SCHARNWEBER, Ralf , MAUL, Manfred , DEGUENTHER, Markus , LAYH, Michael , SCHOLZ, Axel , SPENGLER, Uwe , VÖLKEL, Reinhard
发明人： WANGLER, Johannes , SIEKMANN, Heiko , WEIBLE, Kenneth , SCHARNWEBER, Ralf , MAUL, Manfred , DEGUENTHER, Markus , LAYH, Michael , SCHOLZ, Axel , SPENGLER, Uwe , VÖLKEL, Reinhard
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70191 , G02B3/0056 , G02B27/0911 , G03F7/70058 , G03F7/70075 , G03F7/70083 , G03F7/70158
摘要： An illumination system for a microlithographic projection exposure apparatus comprises a light source (30) and an optical integrator (56) . The latter has first optical subelements (561X, 561Y, 562X, 562Y) and produces a plurality of secondary light sources (82) each emitting a light bundle. A condenser (62) effects a superposition of the light bundles in a mask plane (70) . At least one scattering structure (58, 60) comprises a plurality of individually designed second optical subelements that are arranged in front of or behind the secondary light sources. The first and second optical subelements are configured such that optical subelements illuminated with identical irradiance distributions are separated by more than 5 mm.
摘要翻译：一种用于微光刻投影曝光装置的照明系统，包括光源（30）和光学积分器（56）。后者具有第一光学子元件（561X，561Y，562X，562Y）并且产生多个发射光束的次级光源（82）。冷凝器（62）实现光束在掩模平面（70）中的叠加。至少一个散射结构（58,60）包括多个单独设计的第二光学子元件，其布置在二次光源的前面或后面。第一和第二光学子元件被配置为使得以相同辐照度分布照射的光学子元件被分开超过5mm。

84. 发明申请

WO2006128598A1 HANDHABUNGSGERÄT ZUM HANDHABEN EINER KRAFTFAHRZEUGFELGE IN EINER OBERFLÄCHENBEHANDLUNGSANLAGE 审中-公开
标题翻译：搬运设备用于处理机动车车轮在表面处理厂
公开(公告)号：WO2006128598A1
公开(公告)日：2006-12-07
申请号：PCT/EP2006/004794
申请日：2006-05-20
申请人： EISENMANN MASCHINENBAU GMBH & CO. KG , RAU, Thomas
发明人： RAU, Thomas
IPC分类号： B05B13/02 , B05C13/02
CPC分类号： B05B13/02
摘要： Ein Handhabungsgerät zum Handhaben einer Kraftfahrzeugfelge (11) in einer Anlage zu deren Oberflächenbehandlung weist mindestens einen Greifarm (12) auf, der in eine Nabe (26) der Felge (11) einführbar ist und mindestens ein Anpreßelement trägt, das an eine Innenfläche (28) der Nabe (26) anpreßbar ist. Erfindungsgemäß ist das mindestens eine Anpreßelement (18) als Schneide oder als spitzer Dorn ausgebildet.
摘要翻译：用于处理在安装机动车轮辋（11），用于其表面处理的搬运装置包括至少一个夹紧臂（12），其可插入到轮辋（11）的轮毂（26）和至少一个压力构件熊，其中（的内表面28上）所述轮毂（26）的被按压。所述至少一个压力元件（18）被设计为一个切削刃或根据本发明的一个尖心轴。

85. 发明申请

WO2005076083A1 ILLUMINATION SYSTEM FOR A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS 审中-公开
标题翻译：微波投影曝光装置照明系统
公开(公告)号：WO2005076083A1
公开(公告)日：2005-08-18
申请号：PCT/EP2004/001129
申请日：2004-02-07
申请人： CARL ZEISS SMT AG , SINGER, Wolfgang , WANGLER, Johannes
发明人： SINGER, Wolfgang , WANGLER, Johannes
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70108 , G03F7/70158
摘要： An Illumination system for a microlithographic projection expose apparatus has a light source (14) and a first optical raster element (18; 118; 218) that is positioned in or in close proximity to a first plane (24). The first plane is conjugated to a pupil plane (28) of the illumination system (10) by Fourier transformation. A second optical raster (30; 130; 230) element is positioned in or in close proximity to the pupil plane (28). A third optical raster (36; 136; 236) element is positioned in or in close proximity to a second plane (34) that is also con jugated to the pupil plane (28) by Fourier transformation. The third optical raster element (36; 136; 236), which can be a diffractive optical element, introduces an additional degree of design freedom for the modification of the angular distribution of the projection light bundle.
摘要翻译：用于微光刻投影曝光装置的照明系统具有位于第一平面（24）中或紧邻第一平面（24）的光源（14）和第一光栅元件（18; 118; 218）。第一平面通过傅立叶变换与照明系统（10）的光瞳平面（28）共轭。第二光栅（30; 130; 230）元件位于或靠近光瞳平面（28）。第三光栅（36; 136; 236）元件被定位在第二平面（34）中或紧邻第二平面（34），第二平面（34）也通过傅立叶变换而接收到瞳孔平面（28）。可以是衍射光学元件的第三光栅元件（36; 136; 236）引入了用于修改投影光束的角分布的附加设计自由度。

86. 发明申请

WO2016184560A1 METHOD OF OPERATING A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION APPARATUS 审中-公开
标题翻译：操作微波投影仪的方法
公开(公告)号：WO2016184560A1
公开(公告)日：2016-11-24
申请号：PCT/EP2016/000802
申请日：2016-05-14
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH
发明人： ZIMMERMANN, Jörg , NEUMANN, Jens, Timo , SCHLESENER, Frank , MÜLLER, Ralf
IPC分类号： G03F7/20 , G02B26/08
CPC分类号： G03F7/70116 , G02B26/0833 , G03F7/702
摘要： A method of operating a microlithographic projection apparatus comprises the step of providing a mask (16), an illumination system (12) and a projection objective (20) configured to form an image of an object field (14), which is illuminated on the mask (16) in a mask plane, on an image field positioned on a light sensitive surface (22). Edge placement errors are determined at different field points in the image field. The mask (16) is then illuminated with projection light having an improved field dependency of the angular irradiance distribution. The angular irradiance distribution according to the improved field dependency varies over the object field (14) in such a way that the edge placement errors determined in step b) are reduced at the different field points.
摘要翻译：一种操作微光刻投影设备的方法包括提供掩模（16），照明系统（12）和投影物镜（20）的步骤，该物镜被配置为形成物场（14）的图像掩模（16）在掩模平面上，位于光敏表面（22）上的图像场上。在图像字段中的不同场点确定边缘放置误差。然后用具有改进的角度辐照度分布的场依赖性的投影光照射掩模（16）。根据改进的场依赖性的角度辐照度分布以对象场（14）的方式变化，使得在步骤b）中确定的边缘放置误差在不同的场点减小。

87. 发明申请

WO2015124270A1 BELEUCHTUNGSSYSTEM EINER MIKROLITHOGRAPHISCHEN PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE UND VERFAHREN ZUM BETREIBEN EINES SOLCHEN 审中-公开
标题翻译：的微光刻投射曝光设备用于操作相同的照明系统和方法
公开(公告)号：WO2015124270A1
公开(公告)日：2015-08-27
申请号：PCT/EP2015/000273
申请日：2015-02-10
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH
发明人： DEGÜNTHER, Markus , DAVYDENKO, Vladimir , KORB, Thomas , EISENMENGER, Johannes
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70058 , G03F7/70041 , G03F7/7005 , G03F7/70075 , G03F7/70116
摘要： Ein Beleuchtungssystem einer lithographischen Projektionsbelichtungsanlage (12) umfasst eine Lichtquelle (LS; LS 1, LS 2), die zur Erzeugung einer Abfolge von Lichtpulsen (42-1 bis 42-3; 42-1, 42-2, 52-1, 52-2) eingerichtet ist. Ferner umfasst das Beleuchtungssystem ein Array (28) von optischen Elementen (32), die zwischen zwei Schaltstellungen digital umschaltbar sind. Eine Steuereinrichtung (34) steuert die optischen Elemente (32) so an, dass sie nur zwischen zwei aufeinander folgenden Lichtpulsen ihre Schaltstellung ändern und während der Lichtpulse ihre Schaltstellung beibehalten.
摘要翻译：光刻投射曝光设备（12）的一种照明系统，包括光源（LS; LS 1，LS 2）（用于产生光脉冲的42-1到42-3的序列; 52-1 42-1，42-2，52 -2）被设置。此外，该照明系统包括光学元件（32），其被两个切换位置之间切换的数字的阵列（28）。控制器（34）控制所述光学元件（32）以这样的方式使得它们仅改变两个连续的光脉冲和光脉冲之间它们的开关位置，同时保持他们的切换位置。

88. 发明申请

WO2015022067A1 RÖNTGENBILDREFERENZMARKER MIT GRAVITATIONSRICHTUNGSANZEIGE UND COMPUTERIMPLEMENTIERTES VERFAHREN ZUR GENAUEREN LAGEBESTIMMUNG VON RÖNTGENBILDERN BEI DER AUFNAHME SOWIE AUSGABE DIESBEZÜGLICHER PARAMETER 审中-公开
标题翻译：在这方面参数重力方向显示器和笔记本计算机实现的用于具备捕捉及发行的X射线图像的特定方向的X光片参考标记
公开(公告)号：WO2015022067A1
公开(公告)日：2015-02-19
申请号：PCT/EP2014/002189
申请日：2014-08-08
申请人： SPONTECH SPINE GMBH
发明人： WELSCH, Thomas
IPC分类号： G03B42/04 , A61B19/00
CPC分类号： A61B90/39 , A61B2090/069 , A61B2090/3966 , G01C2009/107 , G03B42/047
摘要： Die Erfindung betrifft einen Röntgenbildreferenzmarker mit einer Hohlkugel (2) aus Röntgenstrahl-teilabsorbierendem Material und mit einer im Inneren der Hohlkugel (2) befindlichen, frei beweglichen Kugel (3) kleineren Durchmessers aus Röntgenstrahl-teilabsorbierendem oder -vollabsorbierendem Material. Außerdem weist der Röntgenbildreferenzmarker ein Haftelement (4) zur Befestigung des Röntgenbildreferenzmarkers (1) auf der Haut des Patienten auf. Dadurch ist eine Durchdringung des Röntgenbildreferenzmarkers (1) durch Röntgenstrahlen bei Bildaufnahmen derart gewährleistet, dass auf dem entstandenen Röntgenbild die Gravitationsrichtung visuell erkennbar ist. Mit dem erfindungsgemäßen Verfahren lassen sich aus den jeweiligen projizierten Abbildungen des Röntgenbildmarkers die Kipp- und Neigungswinkel der Bildebene, stehende, sitzende oder liegende Positionen des Patienten sowie dessen dorsale oder ventrale Ausrichtung bei der Aufnahme exakt ermitteln und angeben.
摘要翻译：（2），其位于本发明涉及包含透视teilabsorbierendem材料的（2）的空心球和具有空心球的内部的X射线图像的参考标记器，可自由移动的球（3）由X射线teilabsorbierendem或-vollabsorbierendem材料更小的直径。此外，用于安装X射线图像的参考标记器的粘合元件（4）上的X射线图像的参考标记器（1）在患者的皮肤上。因此，X射线图像的参考标记器（1）通过在图像记录的X射线的穿透确保使得重力的方向上所产生的X射线照片视觉上可识别。利用本发明的方法中，图像平面的间距和倾斜角，站立，坐下或躺着在记录患者和背侧或腹侧位置的位置能够准确地确定，并从X射线标记物的各自的投影图像指定。

89. 发明申请

WO2014056512A1 METHOD OF OPERATING A MICROLITHOGRAPHIC APPARATUS 审中-公开
标题翻译：操作微型计算机的方法
公开(公告)号：WO2014056512A1
公开(公告)日：2014-04-17
申请号：PCT/EP2012/004211
申请日：2012-10-08
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH
发明人： PATRA, Michael
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70558 , G03F7/70075 , G03F7/70083 , G03F7/70091 , G03F7/70116 , G03F7/70125 , G03F7/70133 , G03F7/70358 , G03F7/704 , G03F7/7055
摘要： A method of operating a microlithographxc apparatus comprises the steps of providing an illumination system (20) comprising an array (34) of tiltable mirrors (M), wherein a light irradiance distribution on the array varies by at least 50% along a first line (76); specifying a scan integrated target angular light distribution and a target light energy for a point moving through an illumination field (26) along a second line (76') that extends parallel to a scan direction (Y) and is an image of the first line (76); determining a group (80) of those mirrors (M) through which the first line (76) extends; determining tilt angles of the mirrors (M) of the group (80) such that a real angular light distribution and a real light energy for the point approximate the respective target values; producing the illumination field (26) by forming an image of the array (34) on a mask (14); and imaging a portion of the mask (14) on a surface (16) while the mask (14) moves along the scan direction (Y).
摘要翻译：一种操作微光刻设备的方法包括以下步骤：提供包括可倾斜反射镜（M）的阵列（34）的照明系统（20），其中阵列上的光照度分布沿着第一条线（至少50％）变化至少50％ 76）; 指定沿着平行于扫描方向（Y）延伸的第二线（76'）移动通过照明场（26）的点的扫描集成目标角度光分布和目标光能，并且是第一行的图像（76）; 确定第一线（76）延伸穿过的那些反射镜（M）的组（80）; 确定所述组（80）的所述反射镜（M）的倾斜角度，使得所述点的实际角度光分布和实际光能量近似于相应的目标值; 通过在掩模（14）上形成阵列（34）的图像来产生照明场（26）; 以及当所述掩模（14）沿扫描方向（Y）移动时，将所述掩模（14）的一部分成像在表面（16）上。

90. 发明申请

WO2013113336A1 METHOD OF OPERATING A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS AND PROJECTION OBJECTIVE OF SUCH AN APPARATUS 审中-公开
标题翻译：微型投影曝光装置的操作方法和这种装置的投影目的
公开(公告)号：WO2013113336A1
公开(公告)日：2013-08-08
申请号：PCT/EP2012/000508
申请日：2012-02-04
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , WALTER, Holger , BITTNER, Boris
发明人： WALTER, Holger , BITTNER, Boris
IPC分类号： G03F7/20 , G02B7/02 , G02B27/00
CPC分类号： G03F7/70891 , G02B7/028 , G02B27/0068 , G03F7/70266 , G03F7/70308
摘要： A projection objective of a microlithographic projection ex- posure apparatus (10) has a wavefront correction device (42) comprising a first refractive optical element (44) and a sec¬ ond refractive optical element (54). The first refractive op- tical element comprises a first optical material having, for an operating wavelength of the apparatus, an index of refrac- tion that decreases with increasing temperature. The second refractive optical element comprises a second optical mate¬ rial having, for an operating wavelength of the apparatus, an index of refraction that increases with increasing tempera- ture. In a correction mode of the correction device (42), a first heating device (46; 146) produces a non-uniform and variable first temperature distribution in the first optical material, and a second heating device (56; 156) produces a non-uniform and variable second temperature distribution in the second optical material.
摘要翻译：微光刻投影实现装置（10）的投影物镜具有包括第一折射光学元件（44）和第二折射光学元件（54）的波前校正装置（42）。第一折射光学元件包括第一光学材料，对于装置的工作波长，具有随着温度升高而降低的反射指数的第一光学材料。第二折射光学元件包括第二光学材料，对于设备的工作波长，其随着温度升高而增加的折射率。在校正装置（42）的校正模式中，第一加热装置（46; 146）在第一光学材料中产生不均匀且可变的第一温度分布，第二加热装置（56; 156）在第二光学材料中均匀且可变的第二温度分布。

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