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    • 61. 发明申请
    • 半導体装置およびその製造方法
    • 半导体器件及其制造方法
    • WO2011065362A1
    • 2011-06-03
    • PCT/JP2010/070889
    • 2010-11-24
    • シャープ株式会社相地 広西
    • 相地 広西
    • H01L27/146G02F1/1333G02F1/135G02F1/136H01L27/14H01L29/786
    • G02F1/1368G06F3/0412H01L27/14621H01L27/14623H01L27/14645H01L27/14678H01L29/78633
    •  第1薄膜ダイオード(100A)は、第1半導体層(10A)と、第1半導体層の基板側に配置された第1遮光層(12A)とを有し、第2薄膜ダイオード(100B)は、第2半導体層(10B)と、第2半導体層の基板側に配置された第2遮光層(12B)とを有し、第1半導体層(10A)と第1遮光層(12A)との間及び第2半導体層(10B)と第2遮光層(12B)との間に形成された絶縁膜(14)のうち第1半導体層(10A)と第1遮光層(12A)との間に位置する部分の厚さD1は、第2半導体層(10B)と第2遮光層(12B)との間に位置する部分の厚さD2と異なっており、第1半導体層(10A)に入射する第1の波長域の光の強度は、第2半導体層(10B)に入射する第1の波長域の光の強度よりも大きく、第2半導体層(10B)に入射する第1の波長域の最大波長よりも長い波長を含む第2の波長域の光の強度は、第1半導体層(10A)に入射する第2の波長域の光の強度よりも大きい。
    • 第一薄膜二极管(100A)具有放置在第一半导体层的基板侧的第一半导体层(10A)和第一遮光层(12A)。 第二薄膜二极管(100B)具有放置在第二半导体层的基板侧上的第二半导体层(10B)和第二遮光层(12B)。 在形成在第一半导体层(10A)和第一遮光层(12A)之间以及第二半导体层(10B)和第二遮光层(12B)之间的绝缘膜(14)中,厚度(D1 位于第一半导体层(10A)和第一遮光层(12A)之间的部分的厚度(D2)与位于第二半导体层(10B)和第二遮光层 (12B)。 入射在第一半导体层(10A)上的第一波长带中的光的强度比入射在第二半导体层(10B)上的第一波长带中的光的强度更强。 包括入射在第二半导体层(10B)上的第一波长带中比最大波长长的波长的第二波长带的光的强度比入射在第一半导体层(10A)上的第二波长带中的光强度强 )。
    • 64. 发明申请
    • EINRICHTUNG ZUR AMPLITUDEN- UND PHASEMODULATION VON LICHT
    • DEVICE FOR幅度和相位调制LIGHT
    • WO2008151980A1
    • 2008-12-18
    • PCT/EP2008/057000
    • 2008-06-05
    • SEEREAL TECHNOLOGIES S.A.LEISTER, NorbertHÄUSSLER, RalfBUSCHBECK, Steffen
    • LEISTER, NorbertHÄUSSLER, RalfBUSCHBECK, Steffen
    • G03H1/02G03H1/22G02F1/1343G02F1/135
    • G03H1/02G02F1/135G02F1/13725G02F1/13768G02F2001/134381G03H1/2294G03H2001/0224G03H2225/22G03H2225/25G03H2225/33
    • Bei bekannten Lichtmodulationsmitteln werden komplexe Phasen- und Amplitudenwerte zur Modulation von Lichtwellen entweder getrennt durch zwei verschiedene Lichtmodulationsmittel oder ein Lichtmodulationsmittel mit zwei Schichten von doppelbrechenden Materialien dargestellt und moduliert. Dies bedeutet einen erhöhten Aufwand an Material und Justierung. Die neue Einrichtung soll die Modulation von Lichtwellen in Phase und Amplitude in einem einzelnen Lichtmodulationsmittel aus doppelbrechendem Material vereinfachen. In einer Einrichtung mit regulär angeordneten steuerbaren lichtmodulierenden Elementen, die zur komplexwertigen Modulation kohärenter Lichtwellen ein doppelbrechendes Material (LC) aufweist und bei der eine Modulationssteuerung eine durch Kraft einwirkung hervorgerufene Ausrichtung der optischen Achsen der Moleküle (M) des doppelbrechenden Materials (LC) steuert, sind Mittel vorgesehen, um die optischen Achsen der Moleküle (M) in den lichtmodulierenden Elementen unabhängig voneinander zweidimensional auszurichten. Die Ausrichtung kann durch elektrisch, magnetisch oder optisch wirkende Mittel erfolgen. Die Einrichtung ermöglicht durch Einsatz gleichartiger bzw. kombinierter Mittel die komplexwertige Lichtmodulation von Lichtwellen in einem Lichtmodulationsmittel mit einzelner Materialschicht.
    • 在已知的光调制装置,复相位和用于光波的调制振幅值供给单独地通过两个分离的光调制装置,或调节与双折射材料和调制的两个层所解说的装置的灯。 这意味着材料和调整量增加。 新设备是为了简化在双折射材料的单个光调制装置中的相位和振幅光波的调制。 在将设备与规则排列可控光调制元件,其包括相干光波的复值调制,双折射材料(LC),并且其中一个调制控制器控制通过力的作用引起的双折射材料的分子(M)的光轴(LC)的对准, 设置装置在光调制元件的彼此独立地二维地对准分子(M)的光轴。 对准可以通过电来进行,磁或光作用剂。 该设备使得能够通过使用类似的或组合的装置中的光调制光波的复值调制光与材料的单个层是指。
    • 67. 发明申请
    • REFLEKTIERENDES OPTISCHES SYSTEM, NACHFÜHRSYSTEM SOWIE HOLOGRAFISCHES PROJEKTIONSSYSTEM UND -VERFAHREN
    • 反射光学系统,跟踪系统的全息投影系统和程序
    • WO2007131810A1
    • 2007-11-22
    • PCT/EP2007/051094
    • 2007-02-06
    • SeeReal Technologies S.A.SCHWERDTNER, Armin
    • SCHWERDTNER, Armin
    • G02B27/22G03H1/08G03H1/22H04N13/00G02F1/135
    • G03H1/22G02B5/32G02B27/0037G02B27/0068G02B27/225G02B27/4211G02B27/4294G02F1/1354G02F2203/01G02F2203/12G02F2203/50G03H1/2205G03H1/2294
    • Die Erfindung betrifft ein reflektierendes optisches System (10, 11) mit einem Reflektionseiement (14, 15) zum Reflektieren von Rekonstruktionslichtwellen, einem Einfallsbrennpunkt (28), von welchem her Rekonstruktionslichtwellen auf das Reflektionseiement (14, 15) treffen, und einem Ausfallsbrennpunkt (26), zu welchem hin sich die von dem Reflektionseiement (14, 15) reflektierten Rekonstruktionslichtwellen ausbreiten. Ferner betrifft die Erfindung ein Nachführsystem und ein holografisches Projektionssystem mit einem solchen reflektierenden optischen System sowie ein entsprechendes holografisches Projektionsverfahren. Um zu erreichen, dass mit einem solchen reflektierenden optischen System (10, 11 ) eine Aberrationskorrektur und Nachführung des Sichtbarkeitsbereiches ermöglicht wird und eine größere Rekonstruktion als im Stand der Technik realisierbar ist, umfasst das erfindungsgemäße reflektierende optische System (10, 11 ) ein Ablenkelement (12, 13) mit optisch steuerbaren Ablenkungseigenschaften sowie ein Ablenksteuermittel (42, 43) zum optischen Steuern der Ablenkungseigenschaften des Ablenkelementes (12, 13) zum Steuern der Position mindestens des Ausfallsbrennpunktes (26) des reflektierenden optischen Systems (10, 11 ).
    • 本发明涉及一种反射型光学系统(10,11)配有一个Reflektionseiement(14,15)用于反射重建光波,入射焦点(28),从该前重建光波到Reflektionseiement(14,15)配合,和焦点的故障(26 ),向其中(从Reflektionseiement 14,15)反射的重建光波传播。 此外,本发明提供了一种跟踪系统,以及包括这种反射光学系统中的全息投影系统和相应的全息投影方法涉及。 为了实现与这种反射光学系统(10,11)使像差校正和可见区域的更新和较大的重建如在现有技术中能够实现,包含本发明的反射式光学系统(10,11),偏转器( 12,13)具有光学可控偏转特性,以及一个偏转控制装置(42,43),用于光学地控制所述偏转元件(12,13)的偏转特性,用于控制至少所述反射光学系统(10,11)的故障焦点(26)的位置。