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61. 发明申请

WO2008023071A1 METHOD AND SYSTEM FOR CORRECTING IMAGE CHANGES 审中-公开
标题翻译：用于校正图像变化的方法和系统
公开(公告)号：WO2008023071A1
公开(公告)日：2008-02-28
申请号：PCT/EP2007/058852
申请日：2007-08-25
申请人： CARL ZEISS SMT AG , CONRADI, Olaf , GRUNER, Toralf
发明人： CONRADI, Olaf , GRUNER, Toralf
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70891 , G03F7/70258
摘要： The present invention relates to a method for compensating imaging errors, generated by intensity distributions in optical systems, in particular, in projection lens arrays (3) of microlithography systems, comprising the steps in the following sequence: - determining the location- and time dependent intensity distributions in at least one optical element of the optical system; - determining the location- and/or time based absorbed energy in at least the optical element, for which the intensity distribution has been determined; - determining the deformations and/or changes of the optical properties of the optical element caused by the induced energy; and - selecting one or several compensation measures, depending on the results of the preceding steps. And the invention relates to an optical system for imaging an object, in particular to a projection lens for microlithography, preferably for applying the described method with at least one, preferably several, optical elements (4, 5), wherein at least one image detector (6, 7), which can be located in the optical path, is provided for intensity measurement, which directly measures the location- and/or time resolved intensity distribution in the optical path of the optical system.
摘要翻译：本发明涉及一种用于补偿由光学系统中的强度分布产生的成像误差的方法，特别是在微光刻系统的投影透镜阵列（3）中，包括以下步骤的步骤： - 确定位置和时间相关在光学系统的至少一个光学元件中的强度分布; - 确定至少已经确定了强度分布的至少光学元件中基于位置和/或时间的吸收能量; - 确定由所述感应能量引起的所述光学元件的光学特性的变形和/或变化; 以及 - 根据上述步骤的结果，选择一个或多个补偿措施。本发明涉及一种用于对物体进行成像的光学系统，特别涉及一种用于微光刻的投影透镜，优选地用至少一个，优选几个光学元件（4,5）应用所描述的方法，其中至少一个图像检测器（6,7）可以位于光路中，用于强度测量，其直接测量光学系统的光路中的位置和/或时间分辨强度分布。

62. 发明申请

WO2007138834A1 露光装置及び露光方法审中-公开
标题翻译：曝光装置和曝光方法
公开(公告)号：WO2007138834A1
公开(公告)日：2007-12-06
申请号：PCT/JP2007/059717
申请日：2007-05-11
申请人：株式会社ニコン , 沖田晋一
发明人：沖田晋一
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70258 , G02B26/125 , G03F7/70075 , G03F7/70308 , G03F7/70583
摘要：　露光装置は、第１物体（Ｍ）上のパターンを照明ビーム（ＥＬ）で照明して、該パターンの像で第２物体（Ｐ）上の被露光領域を露光する。露光装置は、照明ビームを、第１物体上で、所定の走査方向に沿って走査させる走査装置（２２）と、第１物体を走査した照明ビームを、第２物体上の被露光領域上に導く導光装置（ＤＫ）とを備える。
摘要翻译：在曝光装置中，通过用照明光束（EL）照射图案，通过第一物体（M）上的图案的图像将曝光在第二物体（P）上的区域曝光。曝光装置设置有用于利用照明光束在规定的扫描方向上扫描第一物体的扫描装置（22），以及用于将已扫描第一物体的照明光束引导到第一物体的区域以上的曝光装置（DK）第二个被暴露的对象。

63. 发明申请

WO2006128713A3 OPTICAL IMAGING ARRANGEMENT 审中-公开
标题翻译：光学成像装置
公开(公告)号：WO2006128713A3
公开(公告)日：2007-05-31
申请号：PCT/EP2006005263
申请日：2006-06-02
申请人： ZEISS CARL SMT AG , KWAN YIM-BUN PATRICK
发明人： KWAN YIM-BUN PATRICK
IPC分类号： G03F7/20 , G02B7/00 , G03F9/00 , H01L21/00
CPC分类号： G03F7/709 , G03F7/70233 , G03F7/70258 , G03F7/70775 , G03F7/70833
摘要： There is provided an optical imaging arrangement comprising: a mask unit (3) comprising a pattern (3.1), a substrate unit (4) comprising a substrate (4.1), an optical projection unit (2) comprising a group (5) of optical element units, the optical projection unit (2) being adapted to transfer an image of the pattern (3.1) onto the substrate (4.1), a first imaging arrangement component (8.1), the first imaging arrangement component (8.1) being a component of one of the optical element units, a second imaging arrangement component (4.2), the second imaging arrangement component (4.2) being different from the first imaging arrangement component (8.1) and being a component of one of the mask unit (3), the optical projection unit (2) and the substrate unit (4), and a metrology arrangement (10). The metrology- arrangement (10) captures a spatial relationship between the first imaging arrangement (8.1) component and the second imaging arrangement component (4.2). The metrology arrangement (10) comprises a reference element (10.2), the reference element (10.2) being mechanically connected directly to the first imaging arrangement component (8.1).
摘要翻译：提供一种光学成像装置，包括：包括图案（3.1）的掩模单元（3），包括基板（4.1）的基板单元（4），包括光学组件（5）的光学投影单元元件单元，所述光学投影单元（2）适于将所述图案（3.1）的图像转印到所述基板（4.1）上;第一成像布置部件（8.1），所述第一成像布置部件（8.1）是光学元件单元中的一个，第二成像布置组件（4.2），第二成像布置组件（4.2）与第一成像布置组件（8.1）不同，并且是掩模单元（3）中的一个的组件，光学投影单元（2）和基板单元（4）以及计量装置（10）。计量装置（10）捕获第一成像布置（8.1）部件和第二成像布置部件（4.2）之间的空间关系。计量装置（10）包括参考元件（10.2），参考元件（10.2）直接机械连接到第一成像布置部件（8.1）。

64. 发明申请

WO2007031182A1 MIKROLITHOGRAPHISCHE PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE UND VERFAHREN ZUR EINSTELLUNG EINER OPTISCHEN ABBILDUNGSEIGENSCHAFT DERSELBEN 审中-公开
标题翻译：用于设置相同的光学图像FEATURE微光刻投射曝光设备和方法
公开(公告)号：WO2007031182A1
公开(公告)日：2007-03-22
申请号：PCT/EP2006/008328
申请日：2006-08-25
申请人： CARL ZEISS SMT AG , BACK, Stephan , SOYEZ, Guido , BUECHELE, Joachim , MUEHLPFORDT, Annette
发明人： BACK, Stephan , SOYEZ, Guido , BUECHELE, Joachim , MUEHLPFORDT, Annette
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70516 , G03F7/70258 , G03F7/70341
摘要： Ein Verfahren zur Einstellung einer optischen Abbildungseigenschaft in einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage, mit der sich eine Maske (22) auf ein eine lichtempfindliche Oberfläche (38) aufweisendes Substrat (36) abbilden lässt, wobei das Substrat in einer Richtung quer zu einer optischen Achse (32) relativ zu einem Projektionsobjektiv (34) schrittweise bewegt werden kann, weist die Schritte auf : Einbringen eines Immersionsmediums unter einem vorbestimmten Druck und/oder einer vorbestimmten Flussrate in mindestens einen ersten Zwischenraum (50) , wobei der mindestens eine erste Zwischenraum - entlang der optischen Achse gesehen - innerhalb einem Beleuchtungssystem (12) und/oder dem Projektionsobjektiv und/oder zwischen dem Beleuσhtungssystem und der Maske und/oder der Maske und dem Projektionsobjektiv und/oder dem Projektionsobjektiv und dem Substrat angeordnet wird; und Überwachen eines Ist-Drucks und/oder einer Ist-Flussrate des Immersionsmediums auf Abweichung von dem vorbestimmten Druck und/oder der vorbestimmten Flussrate.
摘要翻译：一种用于在微光刻投射曝光设备调整的光学成像特性的方法与表现出的感光表面（38）衬底（36）的掩模（22）可以被成像，其中所述衬底在一个方向上横向于光轴（32）相对于投影透镜（34）能够被移动一步一步包括以下步骤：以预定的压力和/或在至少一个第一间隙（50）以预定的流量，其中，所述至少一个第一空间下引入浸没介质 - 沿着光轴可见 - 被定位的照明系统（12）和/或投射物镜和/或之间的Beleushtungssystem和掩模和/或掩模和投影物镜和/或投射物镜和所述基板内; 和监测实际的压力和/或从规定的压力和/或所述预定流率的液浸介质的实际流率的偏差。

65. 发明申请

WO2007018029A1 露光装置及び被露光体审中-公开
标题翻译：曝光装置和要曝光的物体
公开(公告)号：WO2007018029A1
公开(公告)日：2007-02-15
申请号：PCT/JP2006/314545
申请日：2006-07-24
申请人：株式会社ブイ・テクノロジー , 梶山康一 , 渡辺由雄
发明人：梶山康一 , 渡辺由雄
IPC分类号： G03F9/00 , H01L21/68
CPC分类号： G03F7/7085 , G03F7/70258 , G03F9/7003 , G03F9/7088
摘要：　本発明は、表面に設定されたパターン領域の一端部の所定位置にアライメントマークが形成されたカラーフィルタ基板６を載置して、搬送手段１でアライメントマークが形成された側を先頭にして該カラーフィルタ基板６を搬送し、撮像手段３でアライメントマークとピクセルとを撮像し、制御手段４で撮像手段３により取得されたアライメントマークの検出出力に基づいてカラーフィルタ基板６上の基準位置と露光光学系２のフォトマスク１７に予め設定された基準位置とのずれを算出して、該ずれを補正するように撮像手段３と露光光学系２とを搬送手段１のカラーフィルタ基板載置面に平行な面内にて、カラーフィルタ基板６の搬送方向に直交する方向に一体的に移動させ、露光光源１２から発射される露光光を、フォトマスク１７を介してカラーフィルタ基板６に照射するものである。
摘要翻译：具有对准标记的滤色器基板（6）被放置在设置在表面上的图案区域的一端的预定位置。彩色滤光片基板（6）由输送装置（1）以对准标记提前传送。成像装置（3）对对准标记和像素进行成像。控制装置（4）根据由成像装置（3）获得的对准标记检测输出和预设在摄像装置（3）的光掩模（17）上的基准位置，计算滤色器基板（6）上的基准位置之间的差曝光光学系统（2）将成像装置（3）和曝光光学系统（2）作为整体块沿与滤色器基板（6）的输送方向垂直的方向在与其上放置滤色器基板的传送装置（1），并且经由光掩模（17）将从曝光光源（12）发射的曝光光施加到滤色器基板（6）。

66. 发明申请

WO2006094729A3 MICROLITHOGRAPHY PROJECTION SYSTEM WITH AN ACCESSIBLE DIAPHRAGM OR APERTURE STOP 审中-公开
标题翻译：具有可接触的膜片或光刻胶的微型投影系统
公开(公告)号：WO2006094729A3
公开(公告)日：2006-12-28
申请号：PCT/EP2006002005
申请日：2006-03-04
申请人： ZEISS CARL SMT AG , MANN HANS-JUERGEN
发明人： MANN HANS-JUERGEN
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70058 , G02B17/0647 , G03F7/70233 , G03F7/7025 , G03F7/70258 , G03F7/70275 , G03F7/708
摘要： The invention relates to a microlithography projection lens for wavelengths
摘要翻译：本发明涉及用于波长<= 248nm，优选<= 193mm的微光刻投影透镜，特别是用于将物平面（100）中的物体场成像到图像上的范围为1至30nm的EUV光刻在平面（102）中，微光刻投影透镜以为可进入光阑平面（2000）提供的方式展开，其中可以引入例如虹膜光阑。

67. 发明申请

WO2006128713A2 OPTICAL IMAGING ARRANGEMENT 审中-公开
标题翻译：光学成像装置
公开(公告)号：WO2006128713A2
公开(公告)日：2006-12-07
申请号：PCT/EP2006/005263
申请日：2006-06-02
申请人： CARL ZEISS SMT AG , KWAN, Yim-Bun, Patrick
发明人： KWAN, Yim-Bun, Patrick
IPC分类号： G03F7/20 , G02B7/00 , H01L21/00
CPC分类号： G03F7/709 , G03F7/70233 , G03F7/70258 , G03F7/70775 , G03F7/70833
摘要： There is provided an optical imaging arrangement comprising: a mask unit comprising a pattern, a substrate unit comprising a substrate, an optical projection unit comprising a group of optical element units, the optical projection unit being adapted to transfer an image of the pattern onto the substrate, a first imaging arrangement component, the first imaging arrangement component being a component of one of the optical element units, a second imaging arrangement component, the second imaging arrangement component being different from the first imaging arrangement component and being a component of one of the mask unit, the optical projection unit and the substrate unit, and a metrology arrangement. The metrology arrangement captures a spatial relationship between the first imaging arrangement component and the second imaging arrangement component. The metrology arrangement comprises a reference element, the reference element being mechanically connected directly to the first imaging arrangement component.
摘要翻译：提供了一种光学成像装置，包括：掩模单元，包括图案，包括基板的基板单元，包括一组光学元件单元的光学投影单元，所述光学投影单元适于将图案的图像转印到基板，第一成像布置部件，第一成像布置部件是光学元件单元之一的部件，第二成像布置部件，第二成像布置部件不同于第一成像布置部件，并且是第一成像布置部件的一部分掩模单元，光学投影单元和基板单元以及计量装置。计量装置捕获第一成像布置组件和第二成像布置组件之间的空间关系。测量装置包括参考元件，参考元件直接机械地连接到第一成像装置部件。

68. 发明申请

WO2006126522A1 露光方法及び露光装置、並びにデバイス製造方法审中-公开
标题翻译：曝光方法，曝光装置和装置制造方法
公开(公告)号：WO2006126522A1
公开(公告)日：2006-11-30
申请号：PCT/JP2006/310218
申请日：2006-05-23
申请人：株式会社ニコン , 上原祐作 , 鈴木広介 , 中野勝志 , 大村泰弘
发明人：上原祐作 , 鈴木広介 , 中野勝志 , 大村泰弘
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70341 , G03F7/70258 , G03F7/705 , G03F7/70558
摘要：　露光装置（１００）は、液体（Ｌｑ１）を含む光学系と、液体に入射するエネルギビーム（ＩＬ）のエネルギ情報を取得するためのセンサシステム（４６）と、該センサシステムを用いて取得されたエネルギ情報に基づいて、液体のエネルギ吸収に起因する、液体を含む光学系の光学特性の変動を予測し、該予測結果に基づき、物体（Ｗ）に対する露光動作を制御する制御装置５０とを備えている。この露光装置によれば、液体のエネルギ吸収に起因するその液体を含む光学系の光学特性の変動に影響されることのない露光動作が可能になる。
摘要翻译：曝光装置（100）设置有包括液体（Lq1）的光学系统; 传感器系统（46），用于获得要发射到液体中的能量束（1L）的能量信息; 以及控制器（50），其基于通过使用所述传感器系统获得的能量信息，预测由于液体能量吸收而包括液体的光学系统的光学特性的波动，并且基于（W）对预测结果。通过曝光装置，可以不受由于液体能量吸收引起的包括液体的光学系统的光学特性的波动的影响而进行曝光操作。

69. 发明申请

WO2006037444A2 MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS 审中-公开
标题翻译：微型投影曝光装置
公开(公告)号：WO2006037444A2
公开(公告)日：2006-04-13
申请号：PCT/EP2005/009966
申请日：2005-09-16
申请人： CARL-ZEISS SMT AG , FELDMANN, Heiko , EPPLE, Alexander , BLAHNIK, Vladan
发明人： FELDMANN, Heiko , EPPLE, Alexander , BLAHNIK, Vladan
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70258 , G03F7/70341
摘要： A microlithographic projection exposure apparatus contains a projection objective, whose last optical element on the image side is a dry terminating element (TE; TE2; TE3) that has no refractive power and is designed for dry operation of the projection objective (20; 220; 320). According to the invention, the projection exposure apparatus furthermore contains an immersion terminating element (TE’; TE2’; TE3’) that has no refractive power and is designed for immersed operation of the projection objective. The immersion terminating element (TE’; TE2’; TE3’) is replaceable with the dry terminating element (TE; TE2; TE3). Preferably, the dry terminating element (TE; TE2; TE3) and/or the immersion terminating element (TE’; TE2’; TE3’) is composed of a plurality of plates (TP1, TP2; TP31’, TP32’), which are made of materials having different refractive indices.
摘要翻译：微光刻投影曝光设备包含投影物镜，其图像侧的最后一个光学元件是没有折射光焦度的干式终端元件（TE; TE2; TE3），并被设计用于投影物镜（20; 220; 320）。根据本发明，投影曝光设备还包含不具有屈光力且设计用于投影物镜的浸入式操作的浸没式终端元件（TE'; TE2'; TE3'）。浸入式终端元件（TE'; TE2'; TE3'）可以用干式终端元件（TE; TE2; TE3）代替。优选地，干终端元件（TE; TE2; TE3）和/或浸没终端元件（TE'; TE2'; TE3'）由多个板（TP1，TP2; TP31'，TP32'）组成，由具有不同折射率的材料制成。

70. 发明申请

WO2006009573A1 FLUID PRESSURE COMPENSATION FOR IMMERSION LITHOGRAPHY LENS 审中-公开
标题翻译：流体压力补偿用于浸入式光刻镜
公开(公告)号：WO2006009573A1
公开(公告)日：2006-01-26
申请号：PCT/US2004/042808
申请日：2004-12-20
申请人： NIKON CORPORATION , WATSON, Douglas, C. , NOVAK, W., Thomas
发明人： WATSON, Douglas, C. , NOVAK, W., Thomas
IPC分类号： G03B27/42
CPC分类号： G03F7/70258 , G03F7/70341 , G03F7/70833 , G03F7/709
摘要： An immersion lithography system that compensating for any displacement of the optical caused by the immersion fluid. The system includes an optical assembly (14) to project an image defined by the reticle (12) onto the wafer (20). The optical assembly includes a final optical element (16) spaced from the wafer by a gap (24). An immersion element (22) is provided to supply an immersion fluid into the gap and to recover any immersion fluid that escapes the gap. A fluid compensation system is provided for the force on the final optical element of the optical assembly caused by pressure variations of the immersion fluid. The resulting force created by the varying pressure may cause final optical element to become displaced. The fluid compensation system is configured to provide a substantially equal, but opposite force on the optical assembly, to prevent the displacement of the final optical element.
摘要翻译：一种浸没式光刻系统，用于补偿由浸液引起的光学位移。该系统包括光学组件（14），用于将由标线片（12）限定的图像投影到晶片（20）上。光学组件包括通过间隙（24）与晶片间隔开的最终光学元件（16）。提供浸入元件（22）以将浸没流体供应到间隙中并且回收逸出间隙的任何浸没流体。为由于浸没流体的压力变化引起的光学组件的最终光学元件上的力提供流体补偿系统。由变化的压力产生的所产生的力可能导致最终的光学元件变位。流体补偿系统被配置为在光学组件上提供基本相等但相反的力，以防止最终光学元件的位移。

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