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    • 52. 发明申请
    • ガスバリア性積層体及びその製造方法並びにガスバリア性積層フィルム
    • 气体阻隔层压板,其制造方法和气体阻隔层压薄膜
    • WO2012093597A1
    • 2012-07-12
    • PCT/JP2011/079823
    • 2011-12-22
    • 凸版印刷株式会社樫村 雅之河口 克己
    • 樫村 雅之河口 克己
    • B32B27/30B32B27/00
    • B05D7/58C08J7/042C08J2433/02C08J2435/00C08J2475/04
    • 本発明の目的は、高温高湿処理を施さなくても高いガスバリア性を発揮し、高湿度条件下においても高いガスバリア性を有するガスバリア性積層体及びガスバリア性積層フィルムを提供することである。本発明に係るガスバリア性積層体は、基材の少なくとも片面又はアンカーコート層を設けた基材のアンカーコート層の表面にガスバリア層を備えるガスバリア性積層体であって、ガスバリア層は、ポリカルボン酸系重合体を含有するメインコート層(A)と、レジンコート層(B)と、多価金属化合物、分散剤及びバインダ樹脂を含有する多価金属イオン供給層(C)とを有し、メインコート層(A)と多価金属イオン供給層(C)とがレジンコート層(B)を介して積層されており、温度20℃及び相対湿度80%の条件下で測定した酸素ガス透過度が、10cm 3 (STP)/(m 2 ・day・MPa)以下である。
    • 本发明的目的是提供一种在不进行高温高湿处理的情况下实现高阻气性,并且在高湿度条件下具有高阻气性的阻气层压板和阻气性层压膜。 该气体阻隔层叠体在基材的至少一个表面上或在具有锚涂层的基材的锚固涂层的表面上设置有阻气层。 阻气层包括含有多元羧酸聚合物的主涂层(A),树脂涂层(B)和含有多价金属化合物,分散剂和粘合剂树脂的多价金属离子供给层(C)。 主涂层(A)和多价金属离子供给层(C)与树脂被覆层(B)层叠。 在温度20℃,相对湿度80%的条件下测定的氧气透过度为10cm 3(STP)/(m2·天·MPa)以下。
    • 55. 发明申请
    • ガスバリア性薄膜コーティングプラスチック容器の製造方法
    • 制造气体阻隔薄膜包覆塑料容器的方法
    • WO2010119578A1
    • 2010-10-21
    • PCT/JP2009/061582
    • 2009-06-25
    • 麒麟麦酒株式会社中谷 正樹清水 真里
    • 中谷 正樹清水 真里
    • C23C16/505B65D1/00B65D23/02C23C16/27C23C16/44
    • B65D23/02B65D1/0215C23C16/045C23C16/26C23C16/505H01J37/32541H01J37/32568H01J2237/332
    • 本発明の目的は、特別な形状の外部電極を用いることなく、炭素粉等の異物の堆積を抑制し、ガスバリア性、膜の呈色性及び膜の密着性が良好な薄膜をコーティングしたプラスチック容器を製造することである。本発明に係るガスバリア性薄膜コーティングプラスチック容器の製造方法は、成膜ユニットとなる外部電極にプラスチック容器を収容する工程と、前記プラスチック容器の内部に原料ガス供給管となる内部電極を配置する工程と、真空ポンプを作動させて前記外部電極の内部のガスを排気する工程と、前記プラスチック容器の内部に原料ガスを減圧下で吹き出させる工程と、前記外部電極に電力を供給するプラズマ発生用電源の電源周波数を5.5~6.5MHzに設定し、前記原料ガスをプラズマ化して、前記プラスチック容器の内壁面にガスバリア性を有する薄膜を成膜する工程と、を有する。
    • 公开了一种涂覆有具有良好阻气性,薄膜着色和膜粘附性的薄膜的塑料容器的方法,其不会使用特殊形状的外部电极而抑制异物如碳粉的沉积。 一种制造阻气薄膜涂覆塑料容器的方法包括以下步骤:将塑料容器容纳在用作成膜单元的外部电极中,将用作源气体供应管的内部电极设置在塑料容器中,抽空气体 在外部电极中通过操作真空泵,在减压下将源气体吹入塑料容器中,并将等离子体发生电源的电源频率设定为向5.5MHz至6.5MHz的外部电极供电, 将气体进入等离子体,并在塑料容器的内壁表面上沉积具有阻气性的薄膜。
    • 59. 发明申请
    • CVD成膜装置及びCVD膜コーティングプラスチック容器の製造方法
    • CVD膜形成装置及制造CVD膜的塑料容器的制造方法
    • WO2005035825A1
    • 2005-04-21
    • PCT/JP2004/013464
    • 2004-09-15
    • 三菱商事プラスチック株式会社株式会社ユーテック麒麟麦酒株式会社竹本 圭秀鹿毛 剛小林 巧白倉 昌
    • 竹本 圭秀鹿毛 剛小林 巧白倉 昌
    • C23C16/505
    • C23C16/045B65D1/0215B65D2501/0009
    • 本発明の目的は、プラスチック容器の形状に制約されずに自己バイアス電圧を印加させて成膜でき且つ電極へのダスト付着を防止したCVD成膜装置を提供することである。 本発明に係るCVD成膜装置は、容器を収容するための空所を有し、容器内部ガスと容器外部ガスとが相交わらないように容器を空所に収容し得る真空チャンバーを兼用する容器側電極と、容器側電極と絶縁状態で容器の開口部上方に配置した口側電極と、容器の内部に挿脱自在に配置され、原料ガス等の容器内部ガスを容器の内部に導入する絶縁材からなる内部ガス導入管と、容器内部ガス供給手段と、原料ガス等の容器外部ガスを空所内で容器外部に供給する容器外部ガス供給手段と、容器内部ガスを排気する排気手段と、容器側電極に高周波を供給する高周波供給手段と、を備えることを特徴とする。      
    • 一种能够通过施加自偏压而不受塑料容器的形状限制并防止灰尘附着在电极上而形成膜的CVD成膜装置。 CVD成膜装置的特征在于,容器侧电极同时在具有容纳容器的空间的真空室中使用,并且能够将容器储存在空间中,使得容器内部气体不与容器外部气体交叉,嘴部 在与容器侧电极绝缘的状态下设置在容器开口上方的侧面电极,由可拆卸地设置在容器中并将诸如原料气体的容​​器中的气体导入到内部气体的内部气体引入管, 容器内部气体供给装置,将容器外部气体(例如原料气体)供给到空间内的容器外部的容器外部气体供给装置,排出容器内部气体的排气装置和高频供给装置 意味着向容器侧电极提供高频。