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    • 40. 发明申请
    • スパッタリングターゲット
    • 飞溅目标
    • WO2009128495A1
    • 2009-10-22
    • PCT/JP2009/057642
    • 2009-04-16
    • 株式会社平昭高木 健平昭 大成中島 邦彦
    • 高木 健平昭 大成中島 邦彦
    • C23C14/34C04B35/453C04B35/628
    • C23C14/3414C04B35/453C04B35/628C22C29/12C25D7/00H01J37/3414H01J37/3426H01J37/3429H01J37/3435H01J37/3491
    •  従来の導電性無機酸化物粉と比べ、より微粒で且つ良好な粉体抵抗を備える導電性無機酸化物粉を原料として用い、組成が均一で平滑な表面を備えるスパッタリングターゲットの提供を目的とする。この目的を達成するため、アルミニウム、ガリウム及びインジウムから選択される1種又は2種以上の成分を酸化物換算で0.1wt%~20.0wt%ドーピングして導電性を付与した、平均1次粒子径が3nm~40nmの導電性無機酸化物粉を成形して焼結したスパッタリングターゲットとする。この導電性無機酸化物粉は、平均1次粒子径が1nm~30nmの無機酸化物粉含有スラリーにアルミニウム、ガリウム及びインジウムから選択される1種又は2種以上の成分を含有させた状態で電解する電解ドーピング法で製造する。
    • 公开了具有平均光滑表面的溅射靶,其具有均匀的组成,其通过以与常规的导电无机氧化物粉末相比具有更细的粒径和更好的粉末电阻的导电无机氧化物粉末作为原料而获得。 通过将平均一次粒径为3-40nm的导电性无机氧化物粉末成型并烧结而获得溅射靶,该粉末通过掺杂一种或多种选自铝,镓和铟的成分而具有导电性,其量为 0.1-20.0重量%的氧化物。 导电无机氧化物粉末通过电解掺杂获得,其中将含有与一种或多种选自铝,镓和铟的一种或多种组分混合的平均初级粒径为1-30nm的无机氧化物粉末的浆料经受电解 。