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    • 22. 发明申请
    • TARGET POSITIONING FOR MINIMUM DEBRIS
    • 目标定位最低限度
    • WO1989002157A1
    • 1989-03-09
    • PCT/US1988002881
    • 1988-08-23
    • HAMPSHIRE INSTRUMENTS, INC.
    • HAMPSHIRE INSTRUMENTS, INC.FRANKEL, Robert, D.DRUMHELLER, Jerry
    • H01J35/00
    • H05G2/001B82Y10/00G03F7/70033G03F7/70916G21B1/19Y02E30/16
    • An improved target (18, 44, 56, 66, 76 or 102) for use in a laser pulse (12 or 104) induced plasma X-ray lithography system (10 or 100) has a plurality of small holes (74 or 90) fabricated through a base (68 or 84) against which the laser beam (121 or 104) is focused. A film (70 or 86) covers each hole (74 or 90) and a thin layer of metal target material (72 or 88) is placed on the film (70 or 86). The thickness of the metal material (72 or 88) is selected to be sufficient to allow the complete ablation of the material during the existence of the laser beam (12 or 104) inducing the X-ray emitting plasma (20). In this manner, a minimal amount of debris (30) will be generated. The angle of the plane of the target (18, 44, 76 or 102) relative to the mask (24 or 110) plane and the angle of incidence of the laser beam (12 or 104) relative to the normal line to the target (18, 44, 76 or 102) are selected so that both the X-ray mask (24 or 110) and the laser beam (12 or 104) optical elements (113) are positioned in an area where few, if any, molten droplets of debris (30) are emitted.
    • 用于激光脉冲(12或104)感应等离子体X射线光刻系统(10或100)的改进目标(18,44,56,66,76或102)具有多个小孔(74或90) 通过激光束(121或104)聚焦的基座(68或84)制造。 薄膜(70或86)覆盖每个孔(74或90),薄膜(70或86)上放置一层金属靶材料(72或88)。 选择金属材料(72或88)的厚度足以允许在存在激光束(12或104)的情况下完全消融材料,诱导X射线发射等离子体(20)。 以这种方式,将产生最小量的碎屑(30)。 靶(18,44,76或102)相对于掩模(24或110)平面的角度和激光束(12或104)相对于目标的法线的入射角( 18,44,76或102),使得X射线掩模(24或110)和激光束(12或104)光学元件(113)都位于几个(如果有的话)熔融液滴 的碎片(30)被排出。
    • 25. 发明申请
    • DISPOSITIVO CONCENTRADOR DE FLUENCIA DE RADIACIÓN IONIZANTE, QUE FOCALIZA ELECTRONES Y FOTONES X ADAPTABLE
    • WO2020021516A1
    • 2020-01-30
    • PCT/IB2019/056419
    • 2019-07-26
    • UNIVERSIDAD DE LA FRONTERA
    • FIGUEROA SAAVEDRA, Rodolfo Gabriel
    • A61N5/00G21K1/00G21K1/02H01J35/00H05G2/00H05H9/00
    • Un dispositivo concentrador de fluencia de radiación ionizante (500) de foco variable adaptable a una fuente de electrones de alta energía de un dispositivo de radioterapia externa con acelerador lineal, para focalizar y guiar el foco de manera continua y menos invasiva, dentro de una zona determinada, que comprende: una estructura de acople que une al dispositivo de radioterapia externa con acelerador lineal con una estructura exterior (101 ), cuyo eje central (5) es hueco con una ventana (6) de entrada por el cual ingresan los electrones y medios anclaje para adosarse al dispositivo de rotación mediante medios de sujeción (4); un sistema de rotación que se une a la estructura de acople con una brida de acople (8) hace girar una estructura interior (102); un sistema de deflexión (503) de electrones que está en la estructura interior (102), en donde el sistema de deflexión (503) comprende, un primer y un segundo dispositivo de deflexión magnética (13, 14); un sistema de control de foco, que está en el sistema de deflexión (503) de electrones, que comprende un sistema electrónico de control (31) que controla un conjunto a los motores (12, 22) que generan desplazamientos coordinados del segundo dispositivo de deflexión magnética (14), un elemento de corrección y un colimador (25), que permiten cambiar la posición del punto focal; y al menos dos diodos láser (74) ubicado en el borde del colimador (25) apuntando hacia el foco permitiendo determinar la posición de haz de electrones generado.
    • 28. 发明申请
    • 開放型X線源用冷却構造及び開放型X線源
    • 开放X射线源的冷却结构和开放X射线源
    • WO2012118155A1
    • 2012-09-07
    • PCT/JP2012/055262
    • 2012-03-01
    • 浜松ホトニクス株式会社鈴木 直伸高瀬 欣治
    • 鈴木 直伸高瀬 欣治
    • H01J35/00H01J35/14H01J35/16
    • H01J35/02H01J35/14H01J35/16H01J2235/06H01J2235/087H01J2235/12
    •  本発明は開放型X線源(1)の電子通路(4)上において電子ビーム(E)の通過を制限するアパーチャ(33)が形成されたアパーチャ部(31)を冷却するアパーチャ冷却構造(10)に関する。前記アパーチャ冷却構造(10)は、前記アパーチャ部(31)を保持する保持部(34)と、前記保持部(34)に接続された放熱部(36)とを備え、前記放熱部(36)は、冷媒流路構成部(41)を含む放熱部材(37)、及び冷媒流路構成部(42)を含む放熱部材(38)を備える。前記冷媒流路構成部(41)と前記冷媒流路構成部(42)とは、組み合わせられることにより、冷媒流路(43)を構成している。
    • 本发明涉及一种用于冷却孔径单元(31)的孔径冷却结构,其中形成有孔(33),其限制电子束(E)在该开放X射线的电子路径(4)上的通过 来源(1)。 孔径冷却结构(10)设有用于保持孔单元(31)的保持单元(34)和与保持单元(34)连接的散热单元(36),散热单元(36)是 设置有包含制冷剂流路构造单元(41)的散热构件(37)和包含制冷剂流路构造单元(42)的散热构件(38)。 制冷剂流路(43)通过组合制冷剂流路构成单元(41)和制冷剂流路构成单元(42)构成。