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21. 发明申请

WO2012165310A1 流体圧インプリント装置およびインプリント方法审中-公开
标题翻译：流体压力印刷装置和印刷方法
公开(公告)号：WO2012165310A1
公开(公告)日：2012-12-06
申请号：PCT/JP2012/063397
申请日：2012-05-24
申请人： SCIVAX株式会社 , 河口宏輔 , 田村裕宣 , 田中覚
发明人：河口宏輔 , 田村裕宣 , 田中覚
IPC分类号： B29C59/02 , G11B5/84 , H01L21/027
CPC分类号： G11B5/855
摘要：　型と被成形物との間の気体を確実に除去することができるインプリント装置およびインプリント方法を提供する。型100の成型パターンを被成形物200に転写するためのインプリント装置であって、型100と被成形物200を流体によって加圧するための加圧室51を有する加圧部５と、加圧部５の圧力を受けた型100および被成形物200を支持するステージ２と、加圧室51内の流体の圧力を調節する加圧手段６と、型100と被成形物200の周りの雰囲気を減圧するための減圧室91を有する減圧部９と、減圧室91内において、型100と被成形物200の間を離す離間手段７と、で構成する。
摘要翻译：提供了一种压印装置和压印方法，通过该方法可以可靠地去除模具和被模制物体之间的气体。将模具（100）的模制图案转印到待模制对象（200）上的压印装置通过以下方式构成：加压单元（5），包括加压室（51）以对模具（100）加压待流体物体（200）; 支撑来自加压单元（5）的压力的模具（100）和待模制对象物（200）的阶段（2）; 加压装置（6），用于调节加压室（51）中的流体的压力; 减压单元（9），包括用于使模具（100）周围的气氛和被成型体（200）减压的减压室（91）以及分离装置（7），用于将模具（100）与待模制对象（200）分离到减压室（91）中。

22. 发明申请

WO2012117930A1 インプリント装置审中-公开
标题翻译：印刷设备
公开(公告)号：WO2012117930A1
公开(公告)日：2012-09-07
申请号：PCT/JP2012/054389
申请日：2012-02-23
申请人： SCIVAX株式会社 , 河口宏輔 , 谷口豊 , 田中覚
发明人：河口宏輔 , 谷口　豊 , 田中覚
IPC分类号： B29C59/04 , H01L21/027 , B29L7/00
CPC分类号： B29C59/04
摘要：　フィルム状の被成形物に加わる圧力をコントロールできるインプリント装置を提供する。フィルム状の型100のパターンをフィルム状の被成形物200に転写するためのインプリント装置であって、円周面上で回転方向に所定距離Ｓの間、型100及び被成形物200を押圧する成型ロール１と、成型ロール１に型100を搬送する型搬送手段２と、無限軌道構造の被成形物用送りベルト31を有し、被成形物200を成型ロール１に搬送する被成形物搬送手段３と、成型ロール１が型100と被成形物200とを押圧している間に、被成形物200を露光又は加熱する定着手段４と、を具備する。
摘要翻译：提供一种能够控制施加到要形成的薄膜状制品的压力的压印装置。压印装置被配置为将膜状模具（100）的图案转印到待成形的薄膜状物品（200）上，并设置有：用于按压模具（100）的成形辊（1）和在辊（1）的圆周表面上沿旋转方向形成（200）预定距离（S）的制品; 用于将模具（100）输送到成型辊（1）的模具输送装置（2）; 一种物品输送装置（3），包括具有用于将待成形物品（200）输送到成形辊（1）的环形履带结构的物品进给带（31）; 以及用于当模具（100）和制品（200）被成形辊（1）按压时，用于使要形成的制品（200）露出以照亮或加热制品（200）的固定装置（4）。

23. 发明申请

WO2007097121A1 スフェロイドおよびスフェロイド群並びにこれらの製造方法审中-公开
标题翻译： SPHEROID，SPHEROIDS及其生产方法
公开(公告)号：WO2007097121A1
公开(公告)日：2007-08-30
申请号：PCT/JP2007/000107
申请日：2007-02-21
申请人： SCIVAX株式会社 , 小澤ふじ子 , 楠浦崇央 , 島田純 , 田中覚
发明人：小澤ふじ子 , 楠浦崇央 , 島田純 , 田中覚
IPC分类号： C12M3/00 , C12N5/06
CPC分类号： C12N5/0075 , C12M23/02 , C12M23/12 , C12N2535/10
摘要：　ナノインプリント技術等の微細加工技術を用いて凹凸の幅が３μｍ以下の凹凸構造を有する細胞培養構造体を形成する。この細胞培養構造体又はこれを組み込んだ細胞培養容器によって細胞を培養し、周囲の単位長さ当たりの仮足の数が０．１本／μｍ以上であるスフェロイド及びスフェロイド郡を形成する。これにより、たとえば薬剤のスクリーニング評価等に適したスフェロイドを形成することができる。
摘要翻译：通过使用纳米压印等微细加工技术，形成具有峰谷结构的细胞培养结构，其中峰和谷之间的间隔为3μm以下。通过在该细胞培养结构体中培养细胞或将细胞培养结构体整合在其中的细胞培养容器，形成周边单位长度（μm）为0.1个以上的薄片状球状体或球状体。因此，可以形成适合于例如筛选药物的球体。

24. 发明申请

WO2007097120A1 細胞培養構造体、細胞培養容器、スフェロイド付き構造体、スフェロイド付き容器およびこれらの製造方法审中-公开
标题翻译：细胞培养结构，细胞培养容器，具有SPHEROID的构造物，具有SPHEROID的容器及其生产方法
公开(公告)号：WO2007097120A1
公开(公告)日：2007-08-30
申请号：PCT/JP2007/000106
申请日：2007-02-21
申请人： SCIVAX株式会社 , 小澤ふじ子 , 楠浦崇央 , 島田純 , 田中覚
发明人：小澤ふじ子 , 楠浦崇央 , 島田純 , 田中覚
IPC分类号： C12M3/00 , C12N5/06
CPC分类号： C12N5/0075 , C12M23/02 , C12M23/12 , C12N2535/10
摘要：　ナノインプリント技術等の微細加工技術を用いて凹凸の幅が３μｍ以下の凹凸構造を有する細胞培養構造体を形成する。また、この細胞培養構造体又はこれを組み込んだ細胞培養容器によって細胞を培養し、仮足を有するスフェロイドが形成されたスフェロイド付き構造体又はスフェロイド付き容器を得る。これにより、凹凸構造の形状や大きさ、材質が制御された細胞培養構造体、細胞培養容器を製造できる。また、たとえば薬剤のスクリーニング評価に適したスフェロイドを簡単かつ短時間、更に低コストで培養することができる。
摘要翻译：通过使用纳米压印等微细加工技术，形成具有峰谷结构的细胞培养结构，其中峰和谷之间的间隔为3μm以下。通过在该细胞培养结构体中培养细胞，或者将细胞培养结构体整合到细胞培养容器中，可以得到具有球状体的构造体或具有球状体的容器，其中形成了具有鳞片状体的球状体。因此，可以制备其中控制了峰谷结构的形状，尺寸和材料的细胞培养构建体或细胞培养容器。此外，适合于例如筛选药物的球体可以在短时间内容易地以低成本进行培养。

25. 发明申请

WO2020004591A1 可撓性のある対象物を支持するためのフレーム审中-公开
公开(公告)号：WO2020004591A1
公开(公告)日：2020-01-02
申请号：PCT/JP2019/025721
申请日：2019-06-27
申请人： SCIVAX株式会社
发明人：伊藤大介 , 橋本昌一郎 , 道上広文 , 田中覚
IPC分类号： B29C33/30
摘要：運搬時や加圧時には簡単に型を固定でき、離型時には簡単に型の固定を解除できるフレームを提供することを目的とする。　可撓性のある対象物100を支持するためのフレームであって、対象物100の両端をそれぞれ支持する第１サポートフレーム１および第２サポートフレーム２と、第１サポートフレーム１と第２サポートフレーム２を着脱可能であると共に、当該第１サポートフレーム１と第２サポートフレーム２を離間させる方向に力を付与する張設フレーム３と、で構成する。

26. 发明申请

WO2018062481A1 反射防止材およびその製造方法审中-公开
标题翻译：防反射材料及其制造方法
公开(公告)号：WO2018062481A1
公开(公告)日：2018-04-05
申请号：PCT/JP2017/035465
申请日：2017-09-29
申请人： SCIVAX株式会社
发明人：谷口豊 , 縄田晃史 , 北原淑行 , 田中覚
IPC分类号： G02B1/11 , G02B5/00 , G02B5/02 , G02B5/22 , G03B9/02
CPC分类号： G02B1/11 , G02B5/00 , G02B5/02 , G02B5/22 , G03B9/02
摘要：光の反射を十分に抑えることができる吸収型の反射防止材を提供することを目的とする。反射防止材１は、入射した光の反射を抑制する凹凸構造３が第１の面21に形成された反射抑制層２と、反射抑制層２の第２の面22に形成され、反射抑制層２を透過した光を吸収する光吸収層４と、で主に構成される。反射抑制層２は、自己修復機能を有する材料からなる方が良い。また、凹凸構造は、大きさや配置をランダムにする等、回折光が生じない形態にする方が良い。
摘要翻译：本发明的目的是提供能够充分抑制光的反射的吸收型抗反射材料。抗反射材料1形成在具有凹凸结构3的反射抑制层2上，用于抑制在反射抑制层2的第一表面21和第二表面22上形成的入射光的反射，以及吸收透过光吸收层2的光的光吸收层4。反射抑制层2优选由具有自我修复功能的材料制成。另外，最好形成凹凸结构以便不产生衍射光，例如使尺寸和排列随机。

27. 发明申请

WO2018042830A1 光結像装置审中-公开
标题翻译：光学成像设备
公开(公告)号：WO2018042830A1
公开(公告)日：2018-03-08
申请号：PCT/JP2017/022447
申请日：2017-06-19
申请人： SCIVAX株式会社
发明人：縄田晃史 , 粟屋信義 , 田中覚
IPC分类号： G02B27/22 , G02B5/124 , G02B5/30
CPC分类号： G02B5/124 , G02B5/30 , G02B5/3025 , G02B5/3083 , G02B27/22 , G02B27/26
摘要：虚像の明度が高く、製造が簡単で低コストな光結像装置を提供する。Ｐ偏光を透過し、Ｓ偏光を反射する偏光子２と、偏光子２を透過したＰ偏光および偏光子２で反射したＳ偏光のいずれか一方又は両方を円偏光又は楕円偏光に変換する位相差素子３と、位相差素子３を通過した光を再帰反射させる再帰反射素子４と、で主に構成される。
摘要翻译：
提供具有高亮度虚像的光学成像设备，易于制造且成本低廉。透射p偏振光，转换的偏振片2即反射S偏振光的一个或两个由P偏振光和已经穿过偏振器2传递到圆偏振光或椭圆偏振光的光的偏振器2反射的S偏振光的相位差元件3和用于回射穿过相位差元件3的光的回射元件4。

28. 发明申请

WO2014038025A1 細胞の上皮性維持に作用する物質のスクリーニング方法审中-公开
标题翻译：筛选细胞上皮维持作用的方法
公开(公告)号：WO2014038025A1
公开(公告)日：2014-03-13
申请号：PCT/JP2012/072657
申请日：2012-09-05
申请人： SCIVAX株式会社 , 伊藤学 , 新井一也 , 梶田浩志 , 田中覚
发明人：伊藤学 , 新井一也 , 梶田浩志 , 田中覚
IPC分类号： G01N33/50 , G01N33/15
CPC分类号： G01N33/5044 , G01N33/5011
摘要：　迅速かつ低コストで実施でき、信頼性の高いデータの取得を可能とする、細胞の上皮性維持に作用する物質のスクリーニング方法を提供する。本スクリーニング方法は、（ａ）スフェロイド形成可能な培養基材上で細胞を培養する工程と、（ｂ）前記細胞と被験物質とを接触させる工程と、（ｃ）被験物質が前記細胞の上皮性維持に及ぼす効果をスフェロイドの形態の変化を指標として評価する工程と、を含む。このとき、前記工程（ｃ）は、所定の大きさのスフェロイド数の測定や、スフェロイド内の低酸素領域の測定により評価することができる。
摘要翻译：提供了作用于细胞的上皮维持的物质的筛选方法，所述方法快速且便宜，并且能够获得高度可靠的数据。该筛选方法包括：将能够形成球状体的培养基培养细胞的步骤（a）使细胞和被检物质接触的步骤（b）; 以及使用球状体形式的变化作为指标来评价测试物质对细胞上皮维持作用的步骤（c）。步骤（c）中的评估可以通过测量规定尺寸的球体数量或通过测量球体内的低氧区域来进行。

29. 发明申请

WO2014034576A1 インプリント装置およびインプリント方法审中-公开
标题翻译：印刷设备和印刷方法
公开(公告)号：WO2014034576A1
公开(公告)日：2014-03-06
申请号：PCT/JP2013/072620
申请日：2013-08-23
申请人： SCIVAX株式会社
发明人：河口宏輔 , 萩野竜也 , 田中覚
IPC分类号： H01L21/027 , B29C39/10 , B29C43/10 , B29C59/02 , G02B1/11
CPC分类号： B29C59/02 , B29C43/10 , B29C43/36 , B29C51/28 , B29C2043/3233 , B29C2043/3605 , B29C2043/3647 , B29C2043/3652 , B29C2059/023 , B29C2791/006 , B29C2791/007 , B29D11/00 , B29D11/00336 , B82Y40/00 , G03F7/0002
摘要：被成形物の両面に成型パターンを形成するインプリント装置およびインプリント方法を提供する。可撓性のある第１の型（１Ａ）および第２の型（１Ｂ）を用いて被成形物（２）の両面に成型パターンを転写するためのものであって、第１圧力室（30Ａ）の圧力を型（１Ａ）と被成形物（２）に加えるための第１筐体（33Ａ）と、第２圧力室（30Ｂ）の圧力を型（１Ｂ）と被成形物（２）に加えるための第２筐体（33Ｂ）と、圧力室（30Ａ）および圧力室（30Ｂ）の圧力を調節する加圧手段（35）と、型（１Ａ）と被成形物（２）とを接離方向に相対的に移動可能な第１移動手段と、型（１Ｂ）と被成形物とを接離方向に相対的に移動可能な第２移動手段と、筐体（33Ａ）と筐体（33Ｂ）の間に形成される減圧室（40）を減圧し、型（１Ａ）と被成形物（２）の間および型（１Ｂ）と被成形物（２）の間の流体を除去する減圧手段（45）と、減圧室（40）と圧力室（30Ａ）および圧力室（30Ｂ）との圧力差が小さくなるように調節する調圧手段と、で構成する。
摘要翻译：提供了在待模制对象的两侧上形成模制图案的压印装置和压印方法。压印装置通过使用第一柔性模具（1A）和第二柔性模具（1B）在待模制对象物（2）的两侧上传送模制图案，并且包括：第一壳体（33A），用于将压力第一压力室（30A）到模具（1A）和待模制物体（2）; 用于将第二压力室（30B）中的压力施加到模具（1B）和待模制对象（2）的第二壳体（33B）; 用于调节压力室（30A）和压力室（30B）中的压力的压力施加装置（35）; 能够在接近和分离方向上相对移动模具（1A）和待模制物体（2）的第一移动装置; 第二移动装置，其能够在接近和分离方向上相对移动模具（1B）和待模制物体; 用于减小形成在壳体（33A）和壳体（33B）之间的减压室（40）中的压力以去除模具（1A）和待模制物体（2）之间的流体的减压装置（45））和模具（1B）与待模制物体（2）之间; 以及用于进行调节以减小减压室（40）和压力室（30A）之间的压力差以及减压室（40）和压力室（30B）之间的压力差的压力调节装置。

30. 发明申请

WO2013191206A1 ローラ式加圧装置、インプリント装置、ローラ式加圧方法审中-公开
标题翻译：辊式压力装置，压缩装置和滚筒压力方法
公开(公告)号：WO2013191206A1
公开(公告)日：2013-12-27
申请号：PCT/JP2013/066836
申请日：2013-06-19
申请人： SCIVAX株式会社
发明人：河口宏輔 , 谷口豊 , 田中覚
IPC分类号： B29C59/02 , H01L21/027
CPC分类号： B29C59/04 , B29C35/0805 , B29C2059/023 , B29L2007/001 , G03F7/0002
摘要：ローラの加圧力を制御して、型や被成形物等の対象物を加圧することができるローラ式加圧装置及び当該ローラ式加圧装置を利用したインプリント装置、インプリント方法を提供することを目的とする。対象物をローラ（38）によって加圧するためのローラ式加圧装置であって、ローラ（38）が配置された調圧プレート（332）と、ローラ（38）を対象物に対して相対的に移動するローラ移動手段（381）と、調圧プレート（332）の両面にかかる流体の差圧によって生じる力がローラ（38）に加わるように当該調圧プレート（332）を保持する調圧部と、ローラの圧力を、対象物を間に挟んで受ける受圧ステージ（322）と、調圧プレート（332）の両面にかかる流体圧の差圧を調節する調圧手段（45）と、で構成される。
摘要翻译：本发明的目的是提供一种能够控制滚筒的按压力并压制诸如模具或模制件的物体以及使用所述辊压装置的压印装置的辊压装置和压印方法。使用辊（38）按压物体的辊压装置由以下部件构成：设置有辊（38）的压力调节板（332）用于使辊（38）相对于物体移动的辊移动装置（381）; 用于保持压力调节板（332）的压力调节部分，使得由施加在压力调节板（332）的两个表面上的流体的压差产生的力施加到辊（ 38）; 受压台（322），用于接收所述辊之间的所述辊的压力; 以及用于调节施加在压力调节板（332）的两个表面上的流体压力的压差的压力调节装置（45）。

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