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1. 发明申请

WO2020066981A1 回折光学素子およびこれを用いたドットプロジェクタ等の光学系装置审中-公开
公开(公告)号：WO2020066981A1
公开(公告)日：2020-04-02
申请号：PCT/JP2019/037196
申请日：2019-09-24
申请人： SCIVAX株式会社
发明人：小川大貴 , 縄田晃史 , 田中覚
IPC分类号： G02B5/18
摘要：光の照射方向だけでなく照度の制御も行うことができる光学素子およびそれを用いた光学系装置を提供することを目的とする。　所定位置から入射した光を凹凸構造によって制御して位置（ｘ，ｙ）における位相がφ １（ｘ，ｙ）となるように出射する回折光学素子であって、前記所定位置から入射した光を平行光に制御できる回折レンズの位置（ｘ，ｙ）における出射光の位相をφ ２（ｘ，ｙ）、前記平行光を所定目的の投影パターンに制御できる投影用回折光学素子の位置（ｘ，ｙ）における位相をφ ３（ｘ，ｙ）とすると、前記凹凸構造は、前記位相φ １（ｘ，ｙ）が、　φ １（ｘ，ｙ）＝φ ２（ｘ，ｙ）＋φ ３（ｘ，ｙ）－２ｍπ　（ｍは任意の整数）を満たすように形成する。

2. 发明申请

WO2020045101A1 作業装置审中-公开
公开(公告)号：WO2020045101A1
公开(公告)日：2020-03-05
申请号：PCT/JP2019/032020
申请日：2019-08-15
申请人： SCIVAX株式会社
发明人：伊藤大介 , 橋本昌一郎 , 道上　広文 , 田中覚
IPC分类号： B29C59/02 , B25J13/08
摘要：作業時の圧力や速度の変動を抑制することができる作業装置を提供することを目的とする。　所定の作業を行うための作業部１と、作業部１を自在に移動可能な移動部２と、シリンダチューブ31と当該シリンダチューブ31内を往復移動可能なピストン32とを有し、作業部１と移動部２のいずれか一方がシリンダチューブ31に、他方がピストン32に連結された圧力調節部３と、を備える。また、シリンダチューブ内の流体の圧力を一定に調節する圧力調節手段を有する。

3. 发明申请

WO2020036173A1 微細構造体製造方法审中-公开
公开(公告)号：WO2020036173A1
公开(公告)日：2020-02-20
申请号：PCT/JP2019/031824
申请日：2019-08-13
申请人： SCIVAX株式会社
发明人：谷口豊 , 田中覚
IPC分类号： H01L21/027 , B29C59/02
摘要：大面積のモールドとして使用できる微細構造体又は大面積のモールドを形成するための微細構造体を低価格で精度良く作製することができる微細構造体製造方法を提供することを目的とする。　凹凸パターン21からなる単位微細構造２を基材１の表面に複数隣接して配置する微細構造体製造方法において、膜厚が２００ｎｍ以下の樹脂からなる膜30が形成されたスタンプ台３に凹凸パターン21を反転させた反転凹凸パターン41を有する型４を接触させて、当該型４の表面に樹脂を塗布する塗布工程と、基材１に型４を押圧し、樹脂を硬化させた後に離型して、基材１の表面に単位微細構造２を形成する単位微細構造形成工程と、を有し、塗布工程と、単位微細構造形成工程をこの順番で２回以上繰り返して、単位微細構造２同士を１μｍ以下の間隔で隣接して配置する。

4. 发明申请

WO2018164198A1 電磁波増強素子およびその製造方法並びにアミノ酸配列決定方法审中-公开
公开(公告)号：WO2018164198A1
公开(公告)日：2018-09-13
申请号：PCT/JP2018/008828
申请日：2018-03-07
申请人： SCIVAX株式会社
发明人：粟屋信義 , 梶田浩志 , 田中覚
IPC分类号： G01N21/65 , G01N33/68
CPC分类号： G01N21/65 , G01N33/68
摘要：基板上に均一に形成されると共に、周期性に依存せずに電場増強をもたらし、定量的評価を可能にする電磁波増強素子を提供することを目的とする。電磁波増強素子10は、凸部11を有する素子であって、第１の導電体層１と、誘電体層２と、第２の導電体層３と、で主に構成される。電磁波増強素子10においては、第１の導電体層１と第２の導電体層３に挟まれた部分の誘電体層２に導波路が形成される。この導波路に所定波長λの電磁波が入射すると、導波路の長さＬによって電磁波の定常波が生じ、当該導波路の両端の極めて狭い領域に強い電界を集中させることができる。この電界を用いてＳＥＲＳの信号を取り出すことができる。

5. 发明申请

WO2017126673A1 機能構造体审中-公开
标题翻译：功能结构
公开(公告)号：WO2017126673A1
公开(公告)日：2017-07-27
申请号：PCT/JP2017/001966
申请日：2017-01-20
申请人： SCIVAX株式会社
发明人：谷口豊 , 縄田晃史 , 田中覚
IPC分类号： G02B1/118
CPC分类号： G02B1/118
摘要：所定の機能を有する機能構造の破損を防止又は抑制した機能構造体を提供する。基部10に形成された凹部11及び凸部12からなり所定の機能を有する機能構造１と、表面側からの力が機能構造１に加わるのを防止又は抑制するリブ２と、で構成される。例えば、リブ２の高さは、凸部11の高さ以上に形成すれば良い。また、機能構造１を有する面に平行な少なくとも１以上の直線方向において、リブの強度は前記凸部の強度より大きくなるようにすれば良い。
摘要翻译：提供了一种功能结构，其中防止或抑制了具有预定功能的功能结构的破损。功能结构体1包括凹部11和形成在基部10中并具有预定功能的突起12以及用于防止或抑制从表面侧向功能结构1施加力的肋2。例如，肋2的高度可以形成为等于或大于突起11的高度。此外，在至少一个平行于具有功能结构1的表面的线性方向上，肋的强度可以设定为大于突起的强度。

6. 发明申请

WO2016035650A1 光学部材およびその製造方法审中-公开
标题翻译：光学部件及其制造方法
公开(公告)号：WO2016035650A1
公开(公告)日：2016-03-10
申请号：PCT/JP2015/074103
申请日：2015-08-26
申请人： SCIVAX株式会社
发明人：縄田晃史 , 田中覚
IPC分类号： G02B1/118
CPC分类号： G02B1/11 , G02B1/118
摘要：　ラインアンドスペース状の反射抑制構造において、ライン方向を回転軸とした光源の入射角が変わるときでも、反射を十分に抑えることができる光学部材を提供する。光学部材としての機能を有する基部と、前記基部の表面に形成され断面が凸形状の凹凸を複数連続したラインアンドスペース状の反射抑制構造と、を有する光学部材であって、前記凸形状の底辺の中点の位置を原点、底辺をｙ軸、底辺に対する高さ方向をｘ軸、凸形状の底辺の幅をＰ、凸形状の高さをＨ、ｒ＝0.1、前記凸形状上の任意の位置を（ｘ，ｙ）とすると、前記凸形状は下記式（１）を満たす。
摘要翻译：提供一种光学构件，其中，在线空间形反射抑制结构中，即使当使用作为旋转轴的线方向的光源的入射角改变时，也可以适当地抑制反射。具有用作光学构件的基底部分的光学构件，以及在空间形状的反射抑制结构中，在其表面上形成有多个具有凸形形状的凹凸形状的横截面的凹凸形状基部，其中凸形满足等式（1），其中凸形底部的中点的位置为原点，底部为y轴，相对于底部的高度方向为x轴，P是凸形底部的宽度，H是凸形的高度，r = 0.1，（x，y）是凸形上的任何位置。

7. 发明申请

WO2015186736A1 ローラ式加圧装置、インプリント装置およびローラ式加圧方法审中-公开
标题翻译：辊式加压装置，印刷装置和辊式加压方法
公开(公告)号：WO2015186736A1
公开(公告)日：2015-12-10
申请号：PCT/JP2015/066026
申请日：2015-06-03
申请人： SCIVAX株式会社
发明人：河口宏輔 , 谷口豊 , 田中覚 , 齋藤幸正 , 杉山正樹 , 的野大輔
IPC分类号： H01L21/027 , B29C59/04
CPC分类号： B29C59/022 , B29C59/002 , B29C59/04 , B29C2059/023 , H01L21/027
摘要：　メインローラに生じる弾性変形のむらを抑制することができ、対象物を均一に加圧することができるローラ式加圧装置、インプリント装置及びローラ式加圧方法を提供する。型１と被成形物２のような対象物を加圧するためのものであって、少なくとも表面が弾性部材37aで形成され、対象物を加圧するメインローラ37と、メインローラ37を対象物に対して相対的に移動するためのローラ移動手段と、メインローラ37が対象物に加える圧力を調節する調圧部と、メインローラ37の圧力を、対象物を間に挟んで受ける受圧ステージ322と、少なくとも表面が弾性部材37aより弾性率の大きい部材で形成され、メインローラ37を支持する中間ローラ38と、メインローラ37及び中間ローラ38より軸方向の長さが短く形成され、中間ローラ38を支持するバックアップローラ39と、で構成される。
摘要翻译：提供了一种辊式加压装置，其中可以使主辊的弹性变形的不均匀性最小化并且使被检体均匀地加压; 印记装置; 和辊式加压方法。本发明用于对诸如模具（1）和模制品（2）的对象进行加压，包括：主辊（37），用于按压对象，至少主辊（37）的表面由弹性构件（37a）; 用于使主辊（37）相对于被检体移动的滚子移动装置; 压力调节单元，用于调节由主辊（37）施加到被检体的压力; 压力接收台（322），用于从主辊（37）接收通过被检体的压力; 用于支撑主辊（37）的中间辊（38）至少由中间辊（38）的表面由弹性模量高于弹性部件（37a）的材料形成。以及用于支撑中间辊（38）的支撑辊（39），所述支撑辊（39）的轴向长度小于主辊（37）和中间辊（38）的轴向长度。

8. 发明申请

WO2013008759A1 加圧部用固定具を備えた流体圧インプリント装置审中-公开
标题翻译：流体压力加压装置提供加压装置工具
公开(公告)号：WO2013008759A1
公开(公告)日：2013-01-17
申请号：PCT/JP2012/067386
申请日：2012-07-06
申请人： SCIVAX株式会社 , 河口宏輔 , 田村裕宣 , 田中覚
发明人：河口宏輔 , 田村裕宣 , 田中覚
IPC分类号： B29C59/02 , G11B5/84 , H01L21/027
CPC分类号： B29C59/02 , G11B5/855
摘要：　転写面積が拡大しても、小型の開閉手段を用いることができるインプリント装置を提供する。型の成型パターンを被成形物に転写するためのインプリント装置であって、型100の成型パターンを被成形物200に転写するためのものであって、型100と被成形物200を流体によって加圧するための加圧室51を有する加圧部５と、加圧部５の圧力を受けた型100および被成形物200を支持するステージ２と、加圧室51内の流体の圧力を調節する加圧手段６と、加圧部５とステージ２を相対的に移動するための開閉手段８と、加圧部５で生じる力が開閉手段８に加わるのを防止又は抑制するために、加圧部５とステージ２を固定する固定具１と、で構成する。
摘要翻译：提供即使扩大传送区域也能够使用小的开/关手段的压印装置。压印装置用于将模具的模制图案转印到待模制对象上，即将模具（100）的模制图案转印到待模制对象（200）上，并且通过以下步骤构成：加压单元（5）包括用于向模具（100）和待模制物体（200）施加流体压力的加压室（51）; 用于支撑来自加压单元（5）的压力的模具（100）和待模制对象（200）的阶段（2）; 用于调节加压室（51）中的流体压力的加压装置（6）; 用于相对于彼此移动加压单元（5）和平台（2）的打开/关闭装置（8）以及用于固定加压单元（5）和平台（2）的固定工具（1），以防止或抑制在加压单元（5）中产生的力作用在开/关装置（8）上。

9. 发明申请

WO2020080372A1 微細パターン成形方法、インプリント用モールド製造方法およびインプリント用モールド並びに光学デバイス审中-公开
公开(公告)号：WO2020080372A1
公开(公告)日：2020-04-23
申请号：PCT/JP2019/040525
申请日：2019-10-15
申请人： SCIVAX株式会社
发明人：田邊大二 , 粟屋信義 , 田中覚
IPC分类号： H01L21/027 , B29C33/38 , G03F7/20 , G03F9/00
摘要：被成形物の所定の位置ごとに方向や位置を制御した微細パターンを形成する成形方法およびこれを用いたインプリント用モールド製造方法およびインプリント用モールド並びに光学デバイスを提供する。　インプリントにより、微細パターン21を形成するための第１マスクパターン31を被成形物２の少なくとも微細パターン21が形成されていない領域を含む表面に形成する第１マスクパターン形成工程と、被成形物２および第１マスクパターン31上にレジスト膜４を形成し、光照射によって露光すると共に現像をして、微細パターン21が形成されておらず第１マスクパターン31が形成されている領域が露出するように第２マスクパターン41を形成する第２マスクパターン形成工程と、当該被成形物２にエッチングを行い、微細パターン21を形成する微細パターン形成工程とを有し、第１マスクパターン形成工程、第２マスクパターン形成工程、微細パターン形成工程をこの順番で繰り返す。

10. 发明申请

WO2020044751A1 偏光板および当該偏光板を利用したディスプレイおよび紫外線照射装置审中-公开
公开(公告)号：WO2020044751A1
公开(公告)日：2020-03-05
申请号：PCT/JP2019/025021
申请日：2019-06-24
申请人： SCIVAX株式会社
发明人：粟屋信義 , 須崎泰正 , 田中覚
IPC分类号： G02B5/30 , G02B5/20 , G02F1/1335 , G09F9/30
摘要：クロスニコル状態での漏れ光による消光比の劣化を抑える偏光板および当該偏光板を利用したディスプレイおよび紫外線照射装置を提供することを目的とする　使用帯域の光に対して透明な基板１と、一方向に延在するワイヤ21を光の波長よりも短いピッチで複数配列したワイヤグリッド部２とを有する偏光板であって、ワイヤグリッド部２に対して光が入射する側に設けられる誘電体からなり、使用帯域の直線偏光がワイヤ21に対する方位角４５度から入射したときに、直線偏光の入射側透過軸と出射側吸収軸の角度のずれが小さくなるように補正する偏光軸補正部３を備える。

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