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    • 21. 发明申请
    • 電解液
    • 电解液
    • WO2009035085A1
    • 2009-03-19
    • PCT/JP2008/066552
    • 2008-09-12
    • ダイキン工業株式会社高 明天中澤 瞳坂田 英郎田中 みちる山内 昭佳中園 葵
    • 高 明天中澤 瞳坂田 英郎田中 みちる山内 昭佳中園 葵
    • H01M10/40H01G9/035H01G9/038H01M4/48
    • H01M10/0525H01G9/038H01G11/58H01G11/60H01G11/64H01M6/164H01M10/0568H01M10/0569H01M2300/0025H01M2300/0034H01M2300/004H01M2300/0042Y02E60/13Y02T10/7011Y02T10/7022
    •  低温でも相分離せず、また難燃性や不燃性に優れ、電解質塩の溶解性が高く、放電容量が大きく、充放電サイクル特性に優れたリチウムイオン二次電池などの電気化学デバイスに好適な電解液であって、式:Rf 1 -O-Rf 2 (Rf 1 およびRf 2 は同じかまたは異なり、Rf 1 は炭素数3~6の含フッ素アルキル基、Rf 2 は炭素数2~6の含フッ素アルキル基である)で示される含フッ素エーテル(A)、含フッ素環状カーボネート(B1)および含フッ素ラクトン(B2)よりなる群から選ばれる少なくとも1種の含フッ素溶媒(B)、ならびに(C1)非フッ素系環状カーボネートおよび(C2)非フッ素系鎖状カーボネートよりなる群れから選ばれる少なくとも1種の非フッ素系カーボネート(C)を含む電解質塩溶解用溶媒(I)、ならびに電解質塩(II)を含み、電解質塩溶解用溶媒(I)が、溶媒(I)全体に対して、含フッ素エーテル(A)を20~60体積%、含フッ素溶媒(B)を0.5~30体積%、ならびに非フッ素系環状カーボネート(C1)を5~40体積%および/または非フッ素系鎖状カーボネート(C2)を10~74.5体積%含む電解液を提供する。
    • 公开了一种电解质溶液,其在较低的温度下不引起相分离,其具有优异的阻燃性或不可燃性,其中电解质盐以高溶解度溶解,具有高放电容量,其电荷优异 - 电荷循环性能,适用于诸如锂离子二次电池的电化学装置。 所述电解质溶液包含:溶解其中的电解质盐(II)的溶剂(I),其包含由下式表示的氟化醚(A):Rf1-O-Rf2 [其中Rf1和Rf2相同或不同 Rf1为碳原子数3〜6的氟代烷基,Rf2为碳原子数2〜6的氟代烷基],至少一种氟化环状碳酸酯(氟代环状碳酸酯) B1)和氟化内酯(B2),和至少一种选自非氟化环状碳酸酯(C1)和非氟化线性碳酸酯(C2)的非氟化碳酸酯(C); 和电解质盐(II),其中溶剂(I)包含20至60体积%的氟化醚(A),0.5至30体积%的氟化溶剂(B)和5至40体积% 氟化环状碳酸酯(C1)和/或10〜74.5体积%的非氟化线性碳酸酯(C2),全部相对于溶剂(I)的总体积。
    • 22. 发明申请
    • 4-フルオロ-1,3-ジオキソラン-2-オンの製造方法
    • 生产4-氟-1,3-二氧戊环-2-酮的方法
    • WO2009011225A1
    • 2009-01-22
    • PCT/JP2008/061971
    • 2008-07-02
    • ダイキン工業株式会社山内 昭佳田中 みちる高 明天
    • 山内 昭佳田中 みちる高 明天
    • C07D317/42
    • C07D317/42
    •  4-クロロ-1,3-ジオキソラン-2-オンを出発物質とし、これをフッ素化剤でフッ素化する製造方法において、高収率を維持しながら短時間で高純度の4-フルオロ-1,3-ジオキソラン-2-オンを製造できる製造方法を提供する。有機溶媒中にて、4-クロロ-1,3-ジオキソラン-2-オン1モルに対して、1.4モル以上のフッ素化剤を添加して反応させて塩素根を含む4-フルオロ-1,3-ジオキソラン-2-オンを得た後、必要に応じて中間処理工程を施し、さらに、得られた塩素根を含む4-フルオロ-1,3-ジオキソラン-2-オンを蒸留により精製することで、塩素根含有量が低減化された4-フルオロ-1,3-ジオキソラン-2-オンを製造する。
    • 以氟化剂氟化作为起始物质的4-氯-1,3-二氧戊环-2-酮的方法。 通过该方法,可以在短时间内生产高纯度的4-氟-1,3-二氧戊环-2-酮,同时保持高产率。 向有机溶剂中加入氟化剂并使其与4-氯-1,3-二氧戊环-2-酮的摩尔比为1.4摩尔/摩尔,相对于4-氯-1,3-二氧戊环-2-酮, 一个得到含有氯自由基的4-氟-1,3-二氧戊环-2-酮。 此后,根据需要进行中间处理工序。 得到的含氯基团的4-氟-1,3-二氧戊环-2-酮通过蒸馏纯化。 因此,生成降低氯自由基含量的4-氟-1,3-二氧戊环-2-酮。
    • 27. 发明申请
    • レジスト積層体の形成方法
    • 形成多层耐蚀性的方法
    • WO2005050320A1
    • 2005-06-02
    • PCT/JP2004/016937
    • 2004-11-15
    • ダイキン工業株式会社荒木 孝之高 明天佐藤 数行大橋 美保子岸川 洋介
    • 荒木 孝之高 明天佐藤 数行大橋 美保子岸川 洋介
    • G03F7/11
    • G03F7/0046C09D133/16G03F7/091
    •  真空紫外領域の光線を利用するフォトリソグラフイープロセスにおいて充分な反射防止効果を有し、かつ現像プロセスにおいても充分な現像特性を有するレジスト積層体を形成する。(I)基板上にフォトレジスト層(L1)を形成する工程、および(II)フォトレジスト層(L1)上に、親水性基Yを有する含フッ素重合体(A)を含むコーティング組成物を塗布することにより反射防止層(L2)を形成する工程を含むフォトレジスト積層体の形成方法であって、含フッ素重合体(A)が親水性基Yを含有する含フッ素エチレン性単量体由来の構造単位を有し、さらに該含フッ素重合体(A)が、(i)親水性基YがpKaで11以下の酸性OH基を含むこと、(ii)フッ素含有率が50質量%以上であること、および(iii)含フッ素重合体(A)100g中の親水性基Yのモル数が0.14以上であることを特徴とする。
    • 公开了一种在光刻工艺中具有足够抗反射效果的多层抗蚀剂的形成方法,其中利用了真空紫外线范围内的光,并且在显影过程中具有充分的显影特性。 用于形成多层抗蚀剂的方法包括在基板上形成光致抗蚀剂层(L1)的步骤(I)和用于在光致抗蚀剂层(L1)上形成抗反射层(L2)的步骤(II) 含有亲水性基团Y的含氟聚合物(A)的涂料组合物的特征在于,含氟聚合物(A)具有来自具有亲水性基团Y的含氟乙烯性单体的结构单元, (i)含氟聚合物(A)的亲水性基团Y含有pKa为11以下的酸性OH基,(ii)含氟聚合物(A)的氟含量不少于 50质量%以下,(iii)100g含氟聚合物(A)中的亲水性基团Y的摩尔数不小于0.14。