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    • 29. 发明申请
    • VERFAHREN UND ANLAGE ZUR HERSTELLUNG VON TRICHLORSILAN
    • 方法和系统的三氯硅烷
    • WO2011015560A1
    • 2011-02-10
    • PCT/EP2010/061224
    • 2010-08-02
    • SCHMID SILICON TECHNOLOGY GMBHPETRIK, AdolfHAHN, JochemSCHMID, Christian
    • PETRIK, AdolfHAHN, JochemSCHMID, Christian
    • C01B33/107
    • C01B33/1071C01B33/10763
    • Beschrieben wird ein Verfahren zur Herstellung von Trichlorsilan, bei dem Siliziumpartikel mit Tetrachlorsilan und Wasserstoff und ggf. mit Chlorwasserstoff in einem Wirbelschichtreaktor (101) zu einem trichlorsilanhaltigen Produktgasstrom umgesetzt werden, wobei der trichlorsilanhaltige Produktgasstrom aus dem Reaktor (101) über einen Auslass (117) abgeführt wird, dem mindestens ein Partikelabscheider (118) vorgeschaltet ist, welcher selektiv nur Siliziumpartikel bis hin zu einer bestimmten Maximalgröße passieren lässt, und wobei in vorzugsweise regelmäßigen Zeitabständen oder kontinuierlich über mindestens einen weiteren Auslass (109; 112) ohne einen solchen Partikelabscheider SiIiIziumpartikel aus dem Reaktor (101) ausgeschleust werden. Des weiteren wird eine Anlage (100) beschrieben, die sich zur Durchführung eines solchen Verfahrens eignet und die einen ersten (101) und einen zweiten Wirbelschichtreaktor (102) aufweist, die derart verbunden sind, daß aus dem ersten Reaktor (101) ausgeschleustes Silizium in den zweiten Reaktor (102) überführt werden kann.
    • 公开的是用于制造三氯硅烷的方法是与四氯化硅和氢并任选地用在流化床反应器(101)向含有三氯硅烷,产物气体流氯化氢,硅粒子反应,其中从所述反应器(101)经由出口三氯硅烷产物气流(117) 在所述至少一个颗粒分离器(118),其选择性地仅通过硅颗粒传递到一定最大尺寸的上游排出,并且其中,优选规则的时间间隔或经由至少一个另外的出口(109; 112)连续地没有这样的粒子SiIiIziumpartikel 反应器(101)被排出。 此外,系统(100),描述了适合于实现这样的方法和包括第一(101)和被连接这样的第二流化床反应器(102),其从所述第一反应器(101)是硅schleustes在 第二反应器(102)可以被转移。