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11. 发明申请

WO2005031462A1 LOW-POLYDISPERSITY PHOTOIMAGEABLE POLYMERS AND PHOTORESISTS AND PROCESSES FOR MICROLITHOGRAPHY 审中-公开
标题翻译：低多分散性光学图像聚合物和光刻技术以及微成像工艺
公开(公告)号：WO2005031462A1
公开(公告)日：2005-04-07
申请号：PCT/US2004/031247
申请日：2004-09-22
申请人： E.I. DUPONT DE NEMOURS AND COMPANY , FEIRING, Andrew, Edward , FRYD, Michael , SCHADT, Frank, L., III
发明人： FEIRING, Andrew, Edward , FRYD, Michael , SCHADT, Frank, L., III
IPC分类号： G03F7/004
CPC分类号： C08F232/00 , C08F220/26 , C09D133/14 , G03F7/0046 , G03F7/0382 , G03F7/0395 , G03F7/0397
摘要： The invention pertains to low polydispersity copolymers useful for photoimaging and photoresist compositions, and to the photoimaging processes which use these compositions. The low polydispersity copolymers of this invention are prepared using controlled radical polymerization (CRP) techniques, such as RAFT (reversible addition fragmentation chain transfer) polymerization.
摘要翻译：本发明涉及可用于光成像和光致抗蚀剂组合物的低多分散性共聚物，以及涉及使用这些组合物的光成像方法。本发明的低多分散性共聚物使用受控自由基聚合（CRP）技术如RAFT（可逆加成断裂链转移）聚合来制备。

12. 发明申请

WO2004108769A2 COMPOSITION AND METHOD OF USE THEREOF 审中-公开
标题翻译：组合物及其使用方法
公开(公告)号：WO2004108769A2
公开(公告)日：2004-12-16
申请号：PCT/US2004017865
申请日：2004-06-07
申请人： GEORGIA TECH RES INST , HENDERSON CLIFFORD L , HOSKINS TREVOR , BERGER CODY M
发明人： HENDERSON CLIFFORD L , HOSKINS TREVOR , BERGER CODY M
IPC分类号： C08F20060101 , G03C1/76 , G03F7/004 , G03F7/039 , C08F
CPC分类号： G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0395 , Y10S430/12 , Y10S430/122 , Y10S430/123 , Y10S430/126
摘要： Compositions and methods of use thereof are disclosed. One exemplary composition, among others, includes a polymer resin and a photoacid generator.
摘要翻译：公开了组合物及其使用方法。一个示例性组合物，其中包括聚合物树脂和光致酸产生剂。

13. 发明申请

WO2004088429A1 液浸露光プロセス用レジスト組成物および該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法审中-公开
标题翻译：用于液体暴露暴露过程的阻燃组合物及其形成耐药性图案的方法
公开(公告)号：WO2004088429A1
公开(公告)日：2004-10-14
申请号：PCT/JP2004/004022
申请日：2004-03-24
申请人：東京応化工業株式会社 , 遠藤浩太郎 , 吉田正昭 , 平山拓 , 辻裕光 , 緒方寿幸 , 佐藤充
发明人：遠藤浩太郎 , 吉田正昭 , 平山拓 , 辻裕光 , 緒方寿幸 , 佐藤充
IPC分类号： G03F7/039
CPC分类号： G03F7/0395 , G03F7/0046 , G03F7/0382 , G03F7/2041 , Y10S430/106 , Y10S430/108 , Y10S430/115
摘要：（Ａ）(i)フッ素原子またはフッ素化アルキル基および(ii)アルコール性水酸基を共に有する脂肪族環式基を含むアルカリ可溶性の構成単位（ａ１）を含んでなる、酸の作用によりアルカリ可溶性が変化する重合体および（Ｂ）光照射により酸を発生する酸発生剤を含む液浸露光プロセス用レジスト組成物、並びにそれを用いたレジストパターン形成方法。これらにより、高い解像度及び焦点深度を実現しながら、浸漬液の悪影響を回避することができる。
摘要翻译：一种液浸曝光工艺用抗蚀剂组合物，其含有通过酸作用而碱溶解度变化的聚合物（A），含有含有氟原子的脂环式基团的碱溶性结构单元（a1）的聚合物（A）或氟化烷基（i）与醇羟基（ii）一起，并且包含当暴露于辐射时能够产生酸的酸产生剂（B）。还提供了与其形成抗蚀剂图案的方法。这些可以避免浸没液体的任何不利影响，同时实现高分辨率和焦深。

14. 发明申请

WO0244811A3 POLYMERS BLENDS AND THEIR USE IN PHOTORESIST COMPOSITIONS FOR MICROLITHOGRAPHY 审中-公开
标题翻译：聚合物混合物及其在光刻胶组合物中的应用
公开(公告)号：WO0244811A3
公开(公告)日：2004-09-23
申请号：PCT/US0143398
申请日：2001-11-21
申请人： DU PONT , BERGER LARRY L , SCHADT FRANK L III
发明人： BERGER LARRY L , SCHADT FRANK L III
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/038 , G03F7/039 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/0382 , G03F7/0046 , G03F7/0392 , G03F7/0395 , Y10S430/106 , Y10S430/108 , Y10S430/111
摘要： A photoresist composition having (A) at least two polymers selected from the group consisting of: (a) a fluorine-containing copolymer comprising a repeat unit derived from at least one ethylenically unsaturated compound characterized in that at least one ethylenically unsaturated compound is polycyclic; (b) a branched polymer containing protected acid groups, said polymer comprising one or more branch segment(s) chemically linked along a linear backbone segment; (c) fluoropolymers having at least one fluoroalcohol group having the structure:-C(Rf)(Rf')OH wherein Rf and Rf' are the same or different fluoroalkyl groups of from 1 to about 10 carbon atoms or taken together are (CF2)n wherein n is 2 to 10;(d) amorphous vinyl homopolymers of perfluoro(2,2-dimethyl-1,3-dioxole) or CX2=CY2 where X = F or CF3 and Y = H or amorphous vinyl copolymers of perfluoro(2,2-dimethyl-1,3-dioxole) and CX2 = CY2; and (e) nitrile/fluoroalcohol-containing polymers prepared from substituted or unsubstituted vinyl ethers; and (B) at least one photoactive component.
摘要翻译：一种光致抗蚀剂组合物，其具有（A）至少两种选自以下的聚合物：（a）包含衍生自至少一种烯属不饱和化合物的重复单元的含氟共聚物，其特征在于至少一种烯属不饱和化合物是多环的; （b）含有保护的酸基团的支化聚合物，所述聚合物包含一个或多个沿着线性主链部分化学连接的支链段; （c）具有至少一个具有以下结构的氟代醇的含氟聚合物：其中R f和R f'为相同或不同的具有1至约10个碳原子的氟代烷基或它们一起为（CF 2））n其中n为2至10;（d）全氟（2,2-二甲基-1,3-间二氧杂环戊烯）或CX2 = CY2的无定形乙烯基均聚物，其中X = F或CF 3和Y = H或全氟（2,2-二甲基-1,3-二氧杂环戊烯）和CX2 = CY2; 和（e）由取代或未取代的乙烯基醚制备的含腈/氟代醇的聚合物; 和（B）至少一种光活性组分。

15. 发明申请

WO2004016664A1 FLUORINATED POLYMERS USEFUL AS PHOTORESISTS, AND PROCESSES FOR MICROLITHOGRAPHY 审中-公开
标题翻译：氟化聚合物作为光电子有用，微波处理
公开(公告)号：WO2004016664A1
公开(公告)日：2004-02-26
申请号：PCT/US2003/026088
申请日：2003-08-19
申请人： E.I. DU PONT DE NEMOURS AND COMPANY , FEIRING, Andrew, Edward , SCHADT, Frank, L., III , FARNHAM, William, Brown , FELDMAN, Jerald
发明人： FEIRING, Andrew, Edward , SCHADT, Frank, L., III , FARNHAM, William, Brown , FELDMAN, Jerald
IPC分类号： C08F14/18
CPC分类号： C08F232/00 , C08F8/12 , C08F214/18 , C08F214/26 , C08F220/24 , C08F220/26 , C08F232/08 , C08F2800/20 , G03F7/0046 , G03F7/0395
摘要： This invention provides a fluorine-containing copolymer having a repeat unit derived from at least one fluorinated olefin and a repeat unit derived from at least one polycyclic ethylenically unsaturated monomer having pendant hydroxyl or esterified hydroxyl groups, and optionally other repeat units, typically derived from an acrylate. These polymers have high transparency at short wavelengths such as 193 nm and 157 nm, and provide good plasma etch resistance and adhesive properties. Also provided are photoresist compositions and substrates coated therewith.
摘要翻译：本发明提供了含有至少一种氟化烯烃的重复单元和衍生自至少一种具有羟基或酯化羟基的多环烯属不饱和单体的重复单元的含氟共聚物，以及任选的其它重复单元，通常衍生自丙烯酸酯。这些聚合物在短波长如193nm和157nm处具有高透明度，并且提供良好的等离子体耐蚀刻性和粘合性。还提供了光刻胶组合物和其上涂覆的基材。

16. 发明申请

WO2004011509A1 FLUORINATED POLYMERS, PHOTORESISTS AND PROCESSES FOR MICROLITHOGRAPHY 审中-公开
标题翻译：氟化聚合物，微电影的光电和处理
公开(公告)号：WO2004011509A1
公开(公告)日：2004-02-05
申请号：PCT/US2003/022912
申请日：2003-07-23
申请人： E. I. DU PONT DE NEMOURS AND COMPANY , FEIRING, Andrew, Edward , SCHADT, Frank, Leonard, III , OGATA, Toshiyuki , ENDO, Koutaro
发明人： FEIRING, Andrew, Edward , SCHADT, Frank, Leonard, III , OGATA, Toshiyuki , ENDO, Koutaro
IPC分类号： C08F114/18
CPC分类号： G03F7/0046 , C08F214/186 , C08F220/30 , G03F7/0395 , G03F7/0397
摘要： Fluorinated polymers useful in photoresist compositions and associated processes for microlithography are described. These polymers and photoresists have a fluoroalcohol functional group that simultaneously imparts high ultraviolet (UV) transparency and developability in basic media. The polymers also have a repeat unit derived from a C 1 -C 25 alkyl hydroxymethylacrylate comonomer, e.g., tert-butyl hydroxymethylacrylate, or a C 5 -C 50 polycyclic alkyl acrylate in which the polycyclic group contains a hydroxy group, e.g., hydroxyadamantyl acrylate. The materials of this invention have high UV transparency, particularly at short wavelengths, e.g., 193 nm and 157 nm, which makes them highly useful for lithography at these short wavelengths.
摘要翻译：描述了可用于光致抗蚀剂组合物和用于微光刻的相关工艺的氟化聚合物。这些聚合物和光致抗蚀剂具有同时在基础介质中赋予高紫外（UV）透明度和显影性的氟代醇官能团。聚合物还具有衍生自C 1 -C 25烷基羟甲基丙烯酸酯共聚单体的重复单元，例如羟甲基丙烯酸叔丁酯或其中多环基团含有羟基的丙烯酸C 5 -C 50多环烷基酯，例如丙烯酸羟基金刚烷基酯。本发明的材料具有高的UV透明度，特别是在短波长（例如193nm和157nm）下，这使得它们在这些短波长下非常适用于光刻。

17. 发明申请

WO2003040827A1 FLUORINATED POLYMERS HAVING ESTER GROUPS AND PHOTORESISTS FOR MICROLITHOGRAPHY 审中-公开
标题翻译：具有ESTER组的荧光聚合物和用于微结构的光电
公开(公告)号：WO2003040827A1
公开(公告)日：2003-05-15
申请号：PCT/US2002/036292
申请日：2002-10-25
申请人： E. I. DU PONT DE NEMOURS AND COMPANY , FEIRING, Andrew, E. , FELDMAN, Jerald , SCHADT, Frank, L., III , TAYLOR, Gary, Newton
发明人： FEIRING, Andrew, E. , FELDMAN, Jerald , SCHADT, Frank, L., III , TAYLOR, Gary, Newton
IPC分类号： G03F7/039
CPC分类号： C08F232/08 , G03F7/0046 , G03F7/0382 , G03F7/0392 , G03F7/0395 , Y10S430/108 , Y10S430/111
摘要： Fluorinated polymers, photoresists and associated processes for microlithography are described. These polymers and photoresists are comprised of esters derived from fluoroalcohol functional groups that simultaneously impart high ultraviolet (UV) transparency and developability in basic media to these materials. The materials of this invention have high UV transparency, particularly at short wavelengths, e.g., 157 nm, which makes them highly useful for lithography at these short wavelengths.
摘要翻译：描述了用于微光刻的氟化聚合物，光致抗蚀剂和相关工艺。这些聚合物和光致抗蚀剂由衍生自氟代醇官能团的酯组成，其同时赋予这些材料在基本介质中高的紫外线（UV）透明度和显影性。本发明的材料具有高的UV透明度，特别是在短波长例如157nm处，这使得它们在这些短波长下非常适用于光刻。

18. 发明申请

WO02068527A3 NOVEL beta -OXO COMPOUNDS AND THEIR USE IN PHOTORESIST 审中-公开
标题翻译：新型β-OXO化合物及其在光电子学中的应用
公开(公告)号：WO02068527A3
公开(公告)日：2003-01-23
申请号：PCT/US0205759
申请日：2002-02-21
申请人： ARCH SPEC CHEM INC
发明人： MEDINA ART , RUSHKIN ILYA , SPAZIANO GREGORY , BRZOZOWY DAVID
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/039 , G03F7/075 , C08F8/00 , G03F7/30
CPC分类号： G03F7/0395 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/0758
摘要： Polymers comprising monomeric units of acid sensitive (acid labile) monomers and from about 2 to about 20 % by weight of monomeric units of beta -oxo ester containing monomers, wherein the beta -oxo ester containing monomers are free of lactams or lactones, are useful as binder resins in radiation sensitive photoresist compositions for producing a resist image on a substrate.
摘要翻译：包含酸敏感（酸不稳定）单体的单体单元和约2-约20重量％单体含β-氧代酯单体的聚合物，其中含有β-氧代酯的单体不含内酰胺或内酯是有用的作为用于在基材上产生抗蚀剂图像的光敏光致抗蚀剂组合物中的粘合剂树脂。

19. 发明申请

WO2002092651A1 POLYMER SUITABLE FOR PHOTORESIST COMPOSITIONS 审中-公开
标题翻译：聚合物适用于光电组合物
公开(公告)号：WO2002092651A1
公开(公告)日：2002-11-21
申请号：PCT/EP2002/004557
申请日：2002-04-25
申请人： CLARIANT INTERNATIONAL LTD , CLARIANT FINANCE (BVI) LIMITED
发明人： DAMMEL, Ralph, R. , SAKAMURI, Raj
IPC分类号： C08F222/30
CPC分类号： G03F7/0395 , C08F222/32 , C08F232/08 , G03F7/0046 , G03F7/0382
摘要： The present invention relates to a novel polymer comprising at least one unit derived from an ethylenically unsaturated compound containing at least one cyano functionality and at least one nonaromatic cyclic unit. The novel polymer is particularly useful when used in a photoresist composition sensitive in the deep ultraviolet region.
摘要翻译：本发明涉及包含至少一种衍生自含有至少一个氰基官能团和至少一个非芳族环单元的烯属不饱和化合物的单元的新型聚合物。当用于在深紫外区域敏感的光致抗蚀剂组合物中时，该新型聚合物特别有用。

20. 发明申请

WO2002084401A2 SOLVENTS AND PHOTORESIST COMPOSITIONS FOR SHORT WAVELENGTH IMAGING 审中-公开
标题翻译：用于短波成像的溶剂和光电组合物
公开(公告)号：WO2002084401A2
公开(公告)日：2002-10-24
申请号：PCT/US2002/008127
申请日：2002-03-15
申请人： SHIPLEY COMPANY, L.L.C.
发明人： SZMANDA, Charles, R. , ZAMPINI, Anthony
IPC分类号： G03F7/00
CPC分类号： G03F7/0048 , G03F7/0046 , G03F7/0392 , G03F7/0395 , G03F7/0397
摘要： New photoresists are provides that are suitable for short wavelength imaging, particularly sub-170 nm such as nm. Resists of the invention comprise a fluorinecontaining polymer, a photoactive component, and a solvent component. Preferred solvents for use on the resists of the invention can maintain the resist components in solution and include one or more preferably two or more (i.e. blends) of solvents. In particularly preferred solvent blends of the invention, each blend member evaporates at substantially equal rates, whereby the resist composition maintains a substantially constant concentration of each blend member.
摘要翻译：提供适用于短波长成像的新型光致抗蚀剂，特别是170nm以下，例如nm。本发明的抗菌剂包括含氟聚合物，光敏组分和溶剂组分。用于本发明抗蚀剂的优选溶剂可以将抗蚀剂组分保持在溶液中，并且包括溶剂的一种或多种（即共混物）。在本发明的特别优选的溶剂共混物中，每个共混构件以基本上相等的速率蒸发，由此抗蚀剂组合物保持每个共混构件的基本恒定的浓度。

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