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11. 发明申请

WO2011101923A1 レセプタクル、プリント配線板、及び電子機器审中-公开
标题翻译：插座，印刷电路板和电子设备
公开(公告)号：WO2011101923A1
公开(公告)日：2011-08-25
申请号：PCT/JP2010/002584
申请日：2010-04-08
申请人：パナソニック株式会社 , 松原亮 , 三村詳一 , 房安浩嗣 , 雲井將文 , 中家俊幸
发明人：松原亮 , 三村詳一 , 房安浩嗣 , 雲井將文 , 中家俊幸
IPC分类号： H01R13/648
CPC分类号： H01R13/6469 , H01R12/722 , H01R13/6467 , H01R13/6471
摘要：　レセプタクル（１２）において、グランド端子（Ｔ G2 ）は、端子絶縁板（１２Ｃ）の下面（Ｆ BTM ）に接続される下面接続部（１０１）と、開口（１２Ｂ）から離間する前側接続部（１０２）とを有する。シグナル端子（Ｔ S2- ）は、下面接続部（１０１）の反対側で上面（Ｆ TOP ）に接続される上面接続部（２０１）と、前側接続部（１０２）よりも開口（１２Ｂ）側において設けられる後側接続部（２０２）とを有する。
摘要翻译：在接收器（12）中，接地端子（TG2）设置有连接到端子绝缘板（12C）的底面（FBTM）的底面连接部（101）和前侧连接部 102），其远离开口（12B）设置。信号端子（TS2-）设置有与位于底面连接部（101）的相反侧的顶面（FTOP）连接的顶面连接部（201），后表面连接部（202），其比前侧连接部（102）更靠近开口（12B）设置。

12. 发明申请

WO2011101922A1 レセプタクル、プリント配線板、及び電子機器审中-公开
标题翻译：插座，印刷电路板和电子设备
公开(公告)号：WO2011101922A1
公开(公告)日：2011-08-25
申请号：PCT/JP2010/002583
申请日：2010-04-08
申请人：パナソニック株式会社 , 中家俊幸 , 房安浩嗣 , 三村詳一 , 雲井將文 , 松原亮
发明人：中家俊幸 , 房安浩嗣 , 三村詳一 , 雲井將文 , 松原亮
IPC分类号： H01R13/648 , H05K1/11
CPC分类号： H01R13/6467 , H01R12/724 , H01R13/6471 , H05K1/111 , H05K1/117 , H05K1/141 , H05K2201/09409 , H05K2201/09727 , H05K2201/1034 , H05K2201/10825
摘要：　レセプタクル（１２）は、シグナル端子（Ｔ S2- ）、グランド端子（Ｔ G1 ）、及びシグナル端子（Ｔ S1+ ）を備える。グランド端子（Ｔ G1 ）の第２部分（２０２）は、延在方向においてシグナル端子（Ｔ S2- ）の第１部分（２０１）から離間している。シグナル端子（Ｔ S1+ ）の第３部分（２０３）は、延在方向においてシグナル端子（Ｔ S2- ）の第１部分（２０１）から離間している。
摘要翻译：插座（12）设有信号端子（TS2-），接地端子（TG1）和信号端子（TS1 +）。接地端子（TG1）的第二部分（202）沿着延伸方向远离信号端子（TS2-）的第一部分（201）设置。信号端子（TS1 +）的第三部分（203）在延伸方向远离信号端子（TS2-）的第一部分（201）设置。

13. 发明申请

WO2011086669A1 アモルファス皮膜の形成装置および形成方法审中-公开
标题翻译：用于形成非织造涂膜的装置和方法
公开(公告)号：WO2011086669A1
公开(公告)日：2011-07-21
申请号：PCT/JP2010/050265
申请日：2010-01-13
申请人：株式会社中山製鋼所 , 倉橋隆郎 , 小牧正博 , 三村恒裕
发明人：倉橋　隆郎 , 小牧　正博 , 三村　恒裕
IPC分类号： B05B7/20 , C23C4/12
CPC分类号： C23C4/06 , B05B7/1606 , B05B7/201 , B05B7/205 , B05B7/226 , C23C4/12 , C23C4/129 , C23C4/14
摘要：　本発明のアモルファス皮膜形成装置は、材料粒子を含む火炎を母材に向けて溶射ガンより噴射させ、材料粒子を火炎によって溶融させたうえ、材料粒子および火炎を母材に達する前から冷却ガスにて冷却する。本装置において、溶射ガンによる火炎の噴射経路のうち材料粒子を溶融させる領域に、火炎と外気とを隔てる筒状体を設け、その筒状体と一体的に冷却ガスの流路を形成した。本装置は、高融点で過冷却温度領域がせまい金属を含む多種類の金属についてアモルファス皮膜の形成ができることに加え、設備的にコンパクトで酸化物の生成が少ないといった利点を有する。
摘要翻译：公开了一种用于形成无定形涂膜的装置，其中将含火焰的原料颗粒从喷枪向基材喷射以通过火焰的作用熔化原料颗粒，并且将原料颗粒和火焰在到达基材之前用冷却气体冷却。在该装置中，将火焰与外部空气分离的圆柱形结构已经被设置在用于熔化原料颗粒的区域中，所述原料颗粒是喷射来自喷枪的火焰的通道的一部分，以及用于已经形成冷却气体，使得通道与圆柱形结构集成。该器件具有可以形成各种金属的无定形涂膜，包括具有高熔点和窄过冷状态温度范围的金属，并且该器件紧凑并且几乎不产生氧化物。

14. 发明申请

WO2011027852A1 変倍光学系及びそれを有する撮像装置审中-公开
标题翻译：可变放大光学系统和包含该光学系统的成像装置
公开(公告)号：WO2011027852A1
公开(公告)日：2011-03-10
申请号：PCT/JP2010/065116
申请日：2010-09-03
申请人：オリンパスイメージング株式会社 , 三村隆之 , 松尾圭悟 , 足立要人 , 後藤尚志
发明人：三村　隆之 , 松尾　圭悟 , 足立　要人 , 後藤　尚志
IPC分类号： G02B15/167 , G02B13/18 , H04N5/225
CPC分类号： G02B15/177 , G02B13/009
摘要：　物体側から順に、負の屈折力を有する第１レンズ群と、正の屈折力を有する第２レンズ群と、一つ以上のレンズ群を有し、全て屈折系から構成される光学系において、前記第１レンズ群は固定され、接合レンズ１枚からなり、接合レンズは正の屈折力を有するレンズ要素を含み、横軸をνd、縦軸をθgFとする直交座標系において、θgF=α×νd＋β（ただし、α=-0.00163）で表される直線を設定したとき、レンズ要素θgF及びνdが、条件式(1)と条件式(2)を満足し、以下の条件式(3)を満足する。　０．６７０≦β≦０．８００　…（１）　１０≦νd≦４０　 …（２）　０．１０≦D12/(fw・ft) 1/2 ≦０．２１　…（３）　ただし、　θgFはレンズ要素ＬＡの部分分散比(ｎｇ-nF)/(nF-nC)、　νdはレンズ要素ＬＡのアッベ数(nd-1)/(nF-nC)、　nd,nC,nF,ｎｇは各々ｄ線，Ｃ線，Ｆ線，ｇ線の屈折率、　fw広角端での変倍光学系の焦点距離、　ftは望遠端での変倍光学系の焦点距離、である。
摘要翻译：公开了一种光学系统，其完全由折射系统组成，并且从物体侧连续地具有具有负屈光力的第一透镜组，具有正屈光力的第二透镜组和一个或多个透镜组。第一透镜组是固定的并且包括单个胶合透镜，其包括具有正屈光力的透镜元件。在水平轴为θd且纵轴为ΔgF的正交坐标系中，透镜元件αgF和θd满足条件（1）和条件（2），并满足条件（3），当直线线设置为由gG = a×Δd+ß（其中a = -0.00163）：（1）0.670 =ß= 0.800（2）10 =Δd= 40（3）0.10 = D12 /（fw·ft ）1/2 = 0.21其中ΔgF是透镜元件（LA）的部分色散比（ng-nF）/（nF-nC）; Δd是透镜元件LA的阿贝数（nd-1）/（nF-nC） nd，nC，nF和ng分别为d线，C线，F线和g线的折射率; fw是广角端可变放大光学系统的焦点距离; 而ft是可变倍率光学系统在望远端的焦点距离。

15. 发明申请

WO2011016189A1 細胞の分類手法、この手法を用いた画像処理プログラム及び画像処理装置、並びに細胞塊の製造方法审中-公开
标题翻译：用于分类细胞的技术，使用该技术的图像处理程序和图像处理装置以及用于产生细胞质量的方法
公开(公告)号：WO2011016189A1
公开(公告)日：2011-02-10
申请号：PCT/JP2010/004600
申请日：2010-07-15
申请人：株式会社ニコン , 伊藤啓 , 三村正文 , 矢野和弘 , 佐々木秀貴
发明人：伊藤啓 , 三村正文 , 矢野和弘 , 佐々木秀貴
IPC分类号： G01N33/48 , C12N5/00 , C12N5/10 , G06T1/00
CPC分类号： G06T1/00 , C12M41/46 , C12M47/04 , G06K9/00127 , G06T7/0016 , G06T2207/10016 , G06T2207/10056 , G06T2207/20021 , G06T2207/30024
摘要：　画像処理プログラムＡＰは、ステップＳ１で時系列画像を読み出し、ステップＳ２で各時刻の観察画像中の細胞の抽出、ラベリング、および細胞の対応付けが行われ、ステップＳ３で指定時刻ｔ c に観察画像に含まれる細胞について成熟度の判定処理が行われる。ステップＳ４では成熟判定された細胞についてＩＤ付けが行われ、ステップＳ５において時系列画像を時間軸に沿って遡る方向または経時方向に、細胞トラッキングによるＩＤ承継が行われる。ステップＳ６では承継されたＩＤ情報に基づき各細胞の統合数の算出、分類が行われ、ステップＳ７において解析結果が出力される。
摘要翻译：公开了一种图像处理程序（AP），包括：步骤（S1），用于读出时间序列图像; 步骤（S2），用于提取和标记在各个观察时间读出的各个图像中的细胞并将细胞相互关联; 步骤（S3），用于确定在确定时间（tc）捕获的观察图像中的细胞的成熟程度; 步骤（S4），用于向已经确定其成熟度的小区分配ID; 步骤（S5），用于通过沿着时间轴追踪时间序列图像的方向跟踪所述单元格，反之亦然; 步骤（S6），用于基于所述成功的ID数据计算所述小区的综合计数并对所述小区进行分类; 以及用于输出分析结果的步骤（S7）。

16. 发明申请

WO2011013319A1 細胞塊の成熟判定手法、この手法を用いた画像処理プログラム及び画像処理装置、並びに細胞塊の製造方法审中-公开
标题翻译：用于确定细胞质量成熟度的技术以及使用该技术的图像处理程序和图像处理装置以及用于产生细胞质量的方法
公开(公告)号：WO2011013319A1
公开(公告)日：2011-02-03
申请号：PCT/JP2010/004597
申请日：2010-07-15
申请人：株式会社ニコン , 三村正文 , 伊藤啓 , 矢野和弘
发明人：三村正文 , 伊藤啓 , 矢野和弘
IPC分类号： C12Q1/02 , C12M1/34 , G01N21/17 , G01N33/483 , G06T1/00
CPC分类号： C12M41/14 , C12M41/36 , C12M41/46 , C12M41/48 , G06K9/00127 , G06T7/0016 , G06T2207/10016 , G06T2207/10056 , G06T2207/20021 , G06T2207/30024
摘要：　画像処理プログラム（ＧＰ）は、撮像装置により所定時間を隔てて細胞塊が撮影された時系列画像を取得するステップＡ１０と、取得した時系列画像から細胞塊の複層化に関する特徴量を順次算出するステップＡ２０と、算出された複層化に関する特徴量の時系列変化を導出するステップＡ３０と、導出された複層化特徴量の時系列変化を出力するステップＡ４０とを備えて構成される。
摘要翻译：图像处理程序（GP）通过包括步骤（A10），用于获取其中在预定时间之后由成像装置捕获细胞块的时间序列图像;步骤（A20），用于顺序地计算与从所获取的时间序列图像中对单元块的多层分层，用于导出与多层相关联的所计算的特征量中的时间序列变化的步骤（A30），以及用于输出所导出的时间序列的步骤（A40）多层功能量的变化。

17. 发明申请

WO2011004781A1 自動分析装置审中-公开
标题翻译：自动分析仪
公开(公告)号：WO2011004781A1
公开(公告)日：2011-01-13
申请号：PCT/JP2010/061369
申请日：2010-07-05
申请人：株式会社日立ハイテクノロジーズ , 足立作一郎 , 前嶋宗郎 , 山崎功夫 , 三村智憲
发明人：足立　作一郎 , 前嶋　宗郎 , 山崎　功夫 , 三村　智憲
IPC分类号： G01N21/77 , G01N21/49
CPC分类号： G01N21/51 , G01N15/0205 , G01N21/253 , G01N2015/0065 , G01N2035/00396 , G01N2035/0453
摘要：　多種のラテックス試薬に対応し、散乱光検出により、積分時間を十分確保しながら高感度で凝集反応を測定する。　セルディスクの回転によるセルの移動方向に対して垂直な面内に複数の受光器を配置することによって粒径の異なる多種のラテックス粒子に対応し、取り付け時の誤差を含めセル上部からみた照射光光軸と複数の散乱光光軸のそれぞれのなす角を１７．７°以下として十分な積分時間を確保する。
摘要翻译：适用于各种类型的胶乳试剂的自动分析仪，用于检测散射光，并以高灵敏度测量凝集反应，同时适当确保积分时间。多个光电检测器设置在垂直于由单元盘旋转引起的单元移动方向的平面内。因此，自动分析仪适用于具有不同粒径的各种类型的胶乳颗粒。当从电池单元观察时，由照明光束的光轴和散射光束的光轴形成的角度为17.7°以下，具有安装误差，从而确保适当的积分时间。

18. 发明申请

WO2010134277A1 自動分析装置及び分析方法审中-公开
标题翻译：自动分析装置及分析方法
公开(公告)号：WO2010134277A1
公开(公告)日：2010-11-25
申请号：PCT/JP2010/003150
申请日：2010-05-10
申请人：株式会社日立ハイテクノロジーズ , 光山訓 , 万里千裕 , 三村智憲 , 神原久美子
发明人：光山　訓 , 万里　千裕 , 三村　智憲 , 神原　久美子
IPC分类号： G01N35/00
CPC分类号： G01N35/00663 , G01N35/00623 , G01N2035/00702 , G01N2035/0097
摘要：　化学成分の濃度や酵素の活性度を測定する際に得られる反応過程データから,異常の有無を高精度に判定する自動分析装置および自動分析方法を提供する。　反応過程データを関数で近似し,反応初期の曲線部分の形状の特徴を表す形状特徴量を計算する。得られた形状特徴量を用いて異常の有無を判定する。
摘要翻译：提供了一种自动分析装置和自动分析方法，由此在测量化学成分浓度和氧活性比的测定过程中获得的反应过程数据，以高精度确定异常的存在或不存在。反应过程数据通过函数近似，并计算表示反应早期曲线部分形状特征的形状特征量。获得的形状特征量用于确定异常的存在或不存在。

19. 发明申请

WO2010131737A1 弾性境界波装置审中-公开
标题翻译：边界声波装置
公开(公告)号：WO2010131737A1
公开(公告)日：2010-11-18
申请号：PCT/JP2010/058184
申请日：2010-05-14
申请人：株式会社村田製作所 , 三村昌和 , 玉崎大輔 , 山根毅
发明人：三村　昌和 , 玉崎　大輔 , 山根　毅
IPC分类号： H03H9/145 , H01L41/09 , H01L41/18 , H03H9/25
CPC分类号： H03H9/0222 , H03H9/14541
摘要：　弾性境界波装置において、耐電力性の向上を図る。　弾性境界波装置１は、圧電体からなる第１の媒質１１と、誘電体からなる第２の媒質１２と、誘電体からなる第３の媒質１３と、第１の媒質１１と第２の媒質１２との境界に形成されているＩＤＴ電極２０とを備えている。第２の媒質１２の音速は、第１及び第３の媒質１１，１３の音速よりも遅い。ＩＤＴ電極２０は、第１の電極層２１と、第２の電極層２２と、第３の電極層２３とを有する。第２の電極層２２の密度は、第１及び第３の電極層２１，２３の密度よりも低い。弾性境界波装置１は、第１の電極層２１の厚みをｈ１、第３の電極層の厚み２３をｈ３としたときに、０．１＜ｈ３／（ｈ１＋ｈ３）＜０．５５を満たす。
摘要翻译：公开了具有改善的电力阻力的弹性边界波装置。具体公开了一种声界面波装置（1），其包括由压电体形成的第一介质（11），由电介质体形成的第二介质（12），形成有第三介质（13）以及形成在第一介质（11）和第二介质（12）之间的边界中的IDT电极（20）。第二介质（12）的声速低于第一和第三介质（11,13）的声速。 IDT电极（20）具有第一电极层（21），第二电极层（22）和第三电极层（23）。第二电极层（22）的密度低于第一和第三电极层（21,23）的密度。当第一电极层（21）的厚度由h1表示，并且第三电极层（23）的厚度由h3表示时，弹性边界波装置（1）满足以下关系：0.1

20. 发明申请

WO2010128575A1 自動分析装置、及び分析方法审中-公开
标题翻译：自动分析装置和分析方法
公开(公告)号：WO2010128575A1
公开(公告)日：2010-11-11
申请号：PCT/JP2010/002631
申请日：2010-04-12
申请人：株式会社日立ハイテクノロジーズ , 神原久美子 , 光山訓 , 三村智憲 , 万里千裕
发明人：神原久美子 , 光山訓 , 三村智憲 , 万里千裕
IPC分类号： G01N35/00 , G01N21/27
CPC分类号： G01N35/00603 , G01N21/272
摘要：　反応過程データを関数により近似し、異常を検出する自動分析装置において、検査項目によっては近似精度が悪く、反応異常の検出精度が低下することがあった。　データ処理手段が、前記吸光度と前記吸光度が計測された時刻を時系列データとして記憶し、吸光度をｘ、時間をｔと、乗算を表す記号を＊とする時、関数ｘ＝ａ０＋ａ１＊ｅｘｐ（－ｋ１＊ｔ）＋ａ２＊ｅｘｐ（－ｋ２＊ｔ）により算出される前記測定時刻における前記吸光度と、前記時系列データとの差が小さくなるように前記式中のパラメータａ０，ａ１，ａ２，ａｉ，ｋ１，ｋ２の値を算出し、前記パラメータの値に基づき異常の有無を判定する。
摘要翻译：在使用功能来近似反应过程数据以检测异常的一些常规自动分析装置中，根据待检查的项目经常减少近似的精度，从而经常降低检测反应异常的精度。为了避免这种情况，数据处理装置将吸光度值和吸光度的时间保留为时间序列数据; 计算以下表达式中的参数a0，a1，a2，ai，k1和k2，使得时间序列数据与使用函数x = a0 + a1 * exp（-k1 * t）计算的测量时间的吸光度值之间的差异）+ a2 * exp（-k2 * t），其中x是吸光度，t是时间，符号*表示乘法; 并且基于参数的值来确定是否存在异常。

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